2026/09/15 更新

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ホリカワ ツヨシ
堀川 剛
HORIKAWA TSUYOSHI
所属
工学院 特任教授
職名
特任教授
外部リンク

学位

  • 博士(工学) ( 京都大学 )

研究キーワード

  • シリコン細線導波路

  • リング共振器

  • 誘電緩和

  • dielectric relaxation

  • grain size effects

  • field effect transistors

  • gate dielectrics

  • capacitors

  • barium strontium titanate

  • hafnium oxide

  • flicker noise

  • random telegraph noise

  • chemical vapor deposition

  • 光集積回路

  • 電界効果トランジスタ

  • シリコンフォトニクス

  • hafnium silicate

  • hafnium aluminate

  • ゲート絶縁膜

  • DRAM

  • 位相誤差

研究分野

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器

  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性

  • ナノテク・材料 / 光工学、光量子科学

学歴

  • 京都大学   理学研究科   化学専攻

    - 1985年3月

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    国名: 日本国

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  • 静岡大学   理学部   化学科

    - 1983年3月

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経歴

  • 東京科学大学   工学院 電気電子系   特任教授

    2024年10月 - 現在

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    国名:日本国

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  • 東京工業大学   工学院 電気電子専攻   特任教授

    2022年3月 - 2024年9月

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    国名:日本国

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  • 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所 (PETRA)   つくば研究開発センター   主幹研究員

    2020年4月 - 2022年2月

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    国名:日本国

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  • 産業技術総合研究所

    2003年4月 - 2020年3月

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  • 三菱電機株式会社

    1985年4月 - 2003年3月

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所属学協会

委員歴

  • 応用物理学会   論文賞委員会委員  

    2012年4月 - 2014年3月   

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    団体区分:学協会

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  • 応用物理学会   JJAP編集委員  

    2004年4月 - 2012年3月   

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    団体区分:学協会

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論文

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書籍等出版物

  • 次世代高速通信に対応する光回路実装、デバイスの開発

    技術情報協会( 担当: 共著 範囲: 第5章第1節 シリコンフォトニクス技術を用いた 集積フォトニクスプラットホームの構築.)

    技術情報協会  2022年11月  ( ISBN:9784861049019

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    総ページ数:628p   記述言語:日本語  

    CiNii Books

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  • 薄膜作製応用ハンドブック

    権田, 俊一, 酒井, 忠司, 田畑, 仁, 八瀬, 清志, 宮崎, 照宣( 担当: 分担執筆 範囲: シリコンフォトニクス)

    エヌ・ティー・エス  2020年2月  ( ISBN:9784860436315

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    総ページ数:38, 6, 16, 1468, 21, 15p   記述言語:日本語  

    CiNii Books

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  • A study of advanced integrated semiconductor device and process technologies for data storage and transmission

    堀川 剛

    2016年3月 

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    記述言語:英語  

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MISC

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講演・口頭発表等

  • Spectral variation analysis for silicon grating couplers fabricated on a 300-mm SOI wafer

    Tsuyoshi Horikawa, Daisuke Shimura, Jun Ushida, Yohei Sobu, Akemi Shiina, Masatoshi Tokushima, Seok Hwan Jeong, Keizo Kinoshita, Tohru Mogami

    14th International Conference on Group IV Photonics, GFP 2017  2017年10月 

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    開催年月日: 2017年10月

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  • Resonant Wavelength Variation Modelling for Microring Resonators based on Fabrication Deviation Analysis

    Tsuyoshi Horikawa, Daisuke Shimura, Hiroyuki Takahashi, Jun Ushida, Yohei Sobu, Akemi Shiina, Masatoshi Tokushima, Seok Hwan Jeong, Keizo Kinoshita, Tohru Mogami

    European Conference on Optical Communication, ECOC  2017年9月 

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    開催年月日: 2017年9月

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  • Degradation in (Ba,Sr)TiO3 thin films under DC and dynamic stress conditions

    T Horikawa, T Kawahara, M Yamamuka, K Ono

    1997 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM PROCEEDINGS - 35TH ANNUAL  1997年 

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    開催年月日: 1997年

    記述言語:英語  

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  • Silicon Oxynitride/Silicon Interlayer Couplers: Flexible Index Control, High Efficiency and Compact on Silicon Platform

    Kaibin Yao, Moataz Eissa, Tsuyoshi Horikawa, Nobuhiko Nishiyama

    2025 30TH OPTOELECTRONICS AND COMMUNICATIONS CONFERENCE, OECC AND 2025 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PHOTONICS IN SWITCHING AND COMPUTING, PSC  2025年 

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    開催年月日: 2025年

    記述言語:英語  

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  • Integrated Testing Strategy of Wafer and Chip-level Characterization for Photonic Integrated Circuits

    Moataz Eissa, Tsuyoshi Horikawa, Suguru Yoshida, Nobuhiko Nishiyama

    2025 30TH OPTOELECTRONICS AND COMMUNICATIONS CONFERENCE, OECC AND 2025 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PHOTONICS IN SWITCHING AND COMPUTING, PSC  2025年 

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    開催年月日: 2025年

    記述言語:英語  

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  • Low-loss amorphous-Si Strip-Loaded Thin Film Lithium Niobate on Insulator Waveguides with Compact Bending Radius

    Moataz Eissa, Yoshitaka Ohiso, Kensuke Ogawa, Yuki Nomoto, Tsuyoshi Horikawa, Shoichiro Yamaguchi, Masahiko Namerikawa, Nobuhiko Nishiyama

    2025 30TH OPTOELECTRONICS AND COMMUNICATIONS CONFERENCE, OECC AND 2025 INTERNATIONAL CONFERENCE ON PHOTONICS IN SWITCHING AND COMPUTING, PSC  2025年 

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    開催年月日: 2025年

    記述言語:英語  

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  • Coupling structure for enabling both wafer- and chip-level characterization of silicon photonic integrated circuits

    Moataz Eissa, Ryuya Sasaki, Tsuyoshi Horikawa, Tomohiro Amemiya, Nobuhiko Nishiyama

    2024 IEEE SILICON PHOTONICS CONFERENCE, SIPHOTONICS  2024年 

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    開催年月日: 2024年

    記述言語:英語  

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  • Extraction of Reflection Coefficient in Silicon Waveguides using Multiple Reflection Signals in OFDR

    Tsuyoshi Horikawa, Atsushi Kitamura, Masanori Yatani, Nobuhiko Nishiyama

    CLEO: Applications and Technology, CLEO: A and T 2024 in Proceedings CLEO 2024 - Part of Conference on Lasers and Electro-Optics  2024年 

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    開催年月日: 2024年

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  • Monolithic integration of various-type III-V epitaxial structures on silicon-photonics platform using chip-on-wafer hydrophilic bonding process

    Takehiko Kikuchi, Munetaka Kurokawa, Naoki Fujiwara, Naoko Inoue, Takuya Mitarai, Hidenari Fujikata, Takuo Hiratani, Toshiyuki Nitta, Yuhki Itoh, Tohma Watanabe, Chang-Yong Lee, Akira Furuya, Tsuyoshi Horikawa, Nobuhiko Nishiyama, Hideki Yagi

    2024 IEEE SILICON PHOTONICS CONFERENCE, SIPHOTONICS  2024年 

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    開催年月日: 2024年

    記述言語:英語  

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  • Precise waveguide loss extraction using 300-mm wafer-level OFDR for optical process control monitoring

    Tsuyoshi Horikawa, Atsushi Kitamura, Masanori Yatani, Nobuhiko Nishiyama

    2024 IEEE SILICON PHOTONICS CONFERENCE, SIPHOTONICS  2024年 

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    開催年月日: 2024年

    記述言語:英語  

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  • Peak Frequency Control of Photon-Photon Resonance GaInAsP Membrane DR Lasers on Si with Rear-Side Spacer Waveguide

    N. Takahashi, S. Yoshida, Y. Oiso, T. Horikawa, K. Tsutsui, K. Nishimura, S. Nimura, H. Takahashi, M. Suzuki, N. Nishiyama

    Conference Digest - IEEE International Semiconductor Laser Conference  2024年 

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    開催年月日: 2024年

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  • Formulation for multiple reflection in silicon waveguide observed in OFDR depth profile

    Tsuyoshi Horikawa, Atsushi Kitamura, Masanori Yatani, Nobuhiko Nishiyama

    2024 IEEE PHOTONICS CONFERENCE, IPC 2024  2024年 

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    開催年月日: 2024年

    記述言語:英語  

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  • OFDR法を用いたウェーハレベル光集積デバイス特性検査-細線導波路伝搬損失の高精度評価-

    堀川剛, 北村敦, 八谷将典, 西山伸彦, 西山伸彦, 西山伸彦

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2023年9月 

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    開催年月日: 2023年9月

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  • 集積フォトニクスのエコシステムの状況と展望

    堀川剛

    電子情報通信学会技術研究報告(Web)  2023年8月 

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    開催年月日: 2023年8月

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  • Inverse Design of Low Back Reflection Grating Coupler

    Yuduan Wang, Tsuyoshi Horikawa, Yoshitaka Ohiso, Tomohiro Amemiya, Nobuhiko Nishiyama

    JSAP-Optica Joint Symposia in Proceedings JSAP-Optica Joint Symposia 2023 Abstracts, JSAP 2023  2023年 

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    開催年月日: 2023年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のMMIにおける反射影響とOMA増強効果の発現に関する検討

    村尾覚志, 堀川剛

    電子情報通信学会技術研究報告(Web)  2023年 

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    開催年月日: 2023年

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  • 導波路加工偏差モニタリングによる方向性結合器の分岐比ばらつき解析

    堀川剛, 西山伸彦, 西山伸彦, 西山伸彦

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2023年 

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    開催年月日: 2023年

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  • UVナノインプリントリソグラフィを用いた大面積集積フォトニクスプロセスの開発

    雨宮智宏, 岡田祥, 高橋直樹, 佐々木龍耶, 堀川剛, 渥美裕樹, 小田悠貴, 原悠太, 野田真司, 山本宏, UHRMANN Thomas, KNEIDINGER Andrea, 森莉紗子, 藤井恭, 浅井隆宏, 塩田大, 西山伸彦

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2023年 

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    開催年月日: 2023年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器における異常OMA増強効果の発現と構造の提案

    村尾覚志, 堀川剛

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2023年 

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    開催年月日: 2023年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のMMI合分岐領域における反射による動的消光比への影響検討

    村尾覚志, 堀川剛

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2023年 

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    開催年月日: 2023年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のデュアル駆動によるチャープ可変量の理論的検討

    村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2022年 

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    開催年月日: 2022年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のアーム間不均衡によるチャープへの影響検討

    村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2022年 

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    開催年月日: 2022年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のアーム間不均衡によるチャープへの影響の理論および実験的検討

    村尾覚志, 村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    電子情報通信学会技術研究報告(Web)  2022年 

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    開催年月日: 2022年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器の個別アーム吸収損失測定手法に対するアーム間分岐比ずれの影響検討

    村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2022年 

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    開催年月日: 2022年

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  • キャリア空乏型マッハ・ツェンダシリコン変調器における光位相シフタのコンパクトモデルの提案およびパラメータ抽出

    村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2021年 

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    開催年月日: 2021年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のアーム間不均衡によるOMAペナルティの理論および実験的検討

    村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    電子情報通信学会技術研究報告(Web)  2021年 

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    開催年月日: 2021年

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  • シリコン光変調器の消光比および位相シフタ吸収損失のウェーハレベル自動評価技術の開発

    村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2021年 

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    開催年月日: 2021年

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  • マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のアーム間不均衡によるOMAペナルティの評価

    村尾覚志, 牛田淳, 高橋博之, 徳島正敏, 椎名明美, 堀川剛

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2021年 

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    開催年月日: 2021年

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  • Extraction of SOI thickness deviation based on resonant wavelength analysis for silicon photonics devices

    Tsuyoshi Horikawa, Daisuke Shimura, Hiroyuki Takahashi, Jun Ushida, Yohei Sobu, Akemi Shiina, Masatoshi Tokushima, Seok Hwan Jeong, Keizo Kinoshita, Tohru Mogami

    2017 IEEE SOI-3D-Subthreshold Microelectronics Unified Conference, S3S 2017  2018年3月 

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    開催年月日: 2018年3月

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  • 300mmラインによるシリコンフォトニクス集積回路開発と今後の展望

    最上徹, 堀川剛, 堀川剛

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2018年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • シリコンリング共振器のスペクトルを用いた導波路加工偏差解析

    堀川剛, 堀川剛, 志村大輔, 高橋博之, 牛田淳, 蘇武洋平, 椎名明美, JEONG Seok‐Hwan, 徳島正敏, 木下啓藏, 最上徹

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2018年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Spectral Variation Analysis of Integrated Silicon Photonics Devices by Using Optical Wafer Probing

    Tsuyoshi Horikawa, Tohru Mogami

    2018 INTERNATIONAL CONFERENCE ON IC DESIGN AND TECHNOLOGY (ICICDT 2018)  2018年 

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    開催年月日: 2018年

    記述言語:英語  

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  • Advanced devices and packaging of Si-photonics-based optical transceiver for optical interconnection 招待

    K. Kurata, K. Yashiki, J. Fujikata, T. Horikawa, K. Kinoshita, J. Ushida, M. Tokushima, Y. Suzuki, D. Okamoto, S. Takahashi, A. Ukita, K. Takemura, Y. Ibusuki, T. Shimizu, M. Kurihara, Y. Hagihara, T. Mogami, T. Nakamura

    2017 IEDM  2017年12月 

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    開催年月日: 2017年12月

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  • High-performance Si optical modulator with strained p-SiGe layer and its application to 25 Gbps optical transceiver

    Junichi Fujikata, Keizo Kinoshita, Jaehoon Han, Tsuyoshi Horikawa, Shigeki Takahashi, Kenichiro Yashiki, Mitsuru Kurihara, Yasuhiko Hagihara, Mitsuru Takenaka, Takahiro Nakamura, Kazuhiko Kurata, Tohru Mogami

    14th International Conference on Group IV Photonics, GFP 2017  2017年10月 

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    開催年月日: 2017年10月

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  • 簡易構造横PIN型Ge受光器の高速動作特性

    下山峰史, 木下啓藏, 堀川剛, 田中有, 最上徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2017年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • シリコン導波路における光反射の解析

    臼杵達哉, 蘇武洋平, JEONG Seok‐Hwan, 堀川剛

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2017年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • High-performance silicon photonics platform for low-power photonic integrated circuits

    Tohru Mogami, Tsuyoshi Horikawa, Keizo Kinoshita

    Proceedings of the 24th International Conference on Mixed Design of Integrated Circuits and Systems, MIXDES 2017  2017年8月 

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    開催年月日: 2017年8月

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  • High density optical and electrical interfaces for chip-scale silicon photonic receiver

    Koichi Takemura, Yasuhiro Ibusuki, Akio Ukita, Mitsuru Kurihara, Keizo Kinoshita, Daisuke Okamoto, Junichi Fujikata, Kenichiro Yashiki, Yasuyuki Suzuki, Tsuyoshi Horikawa, Tohru Mogami, Kazuhiko Kurata

    2017 International Conference on Electronics Packaging, ICEP 2017  2017年6月 

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    開催年月日: 2017年6月

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  • Cu/ポリイミド再配線を適用した12ch用光I/Oコア受信機

    竹村浩一, 木下啓藏, 岡本大典, 浮田明生, 指宿康弘, 栗原充, 藤方潤一, 屋敷健一郎, 鈴木康之, 堀川剛, 最上徹, 蔵田和彦

    エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM)  2017年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • シリコン導波路における光散乱の解析

    臼杵達哉, 蘇武洋平, JEONG Seok‐Hwan, 堀川剛

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2017年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 高集積受信回路実現に向けた300mm径SOI基板上高性能面入射型Ge受光器の開発

    藤方潤一, 木下啓藏, 堀川剛, 堀川剛, 竹村浩一, 岡本大典, 高橋重樹, 今井雅彦, 野口将高, 鈴木康之, 栗原充, 萩原靖彦, 中村隆宏, 蔵田和彦, 最上徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2017年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • A 300-mm-wafer silicon photonics technology for ultra-low energy optical network systems

    Koji Yamada, Tsuyoshi Horikawa, Makoto Okano, Guangwei Cong, Yuriko Maegami, Morifumi Ohno, Noritsugu Yamamoto, Keijiro Suzuki, Ken Tanizawa, Satoshi Suda, Hiroyuki Matsuura, Keiji Koshino, Nobuyuki Yokoyama, Minoru Ohtsuka, Miyoshi Seki, Kazuyuki Matsumaro, Toshihiro Narushima, Kazuhiro Ikeda, Hitoshi Kawashima, Shu Namiki, Masahiko Mori

    2017 ASIA COMMUNICATIONS AND PHOTONICS CONFERENCE (ACP)  2017年 

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    開催年月日: 2017年

    記述言語:英語  

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  • High-performance silicon photonics process platform for low-power photonic integrated circuits

    Tohru Mogami, Suguru Akiyama, Takeshi Baba, Shigekazu Okumura, Junichi Fujikata, Tsuyoshi Horikawa, Keizo Kinoshita

    2016 IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop, SNW 2016  2016年9月 

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    開催年月日: 2016年9月

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  • シリコングレーティングカプラの波長特性ばらつきに及ぼす製造誤差の影響

    堀川剛, 堀川剛, 牛田淳, 蘇武洋平, 志村大輔, 椎名明美, 徳島正敏, JEONG Seok‐Hwan, 木下啓藏, 最上徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2016年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • Ultra-fme Si photonics fabrication technology based on 40-nm-node CMOS process

    Tsuyoshi Horikawa, Tohru Mogami

    IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP  2015年10月  IEEE Computer Society

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    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:英語  

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  • シリコンフォトニクス光集積回路におけるプロセス課題 (Ⅳ) Ge受光器に向けた選択Ge/Siエピ成長技術開発

    木下 啓藏, 奥村 滋一, 藤方 潤一, 堀川 剛, 最上 徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2015年8月  公益社団法人 応用物理学会

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    開催年月日: 2015年8月

    記述言語:日本語  

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  • 選択成長Siキャップ層適用低暗電流Ge受光器の開発

    奥村滋一, 木下啓藏, 藤方潤一, 下山峰史, 小野英輝, 田中有, 森戸健, 堀川剛, 最上徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2015年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • シリコンフォトニクス光集積回路におけるプロセス課題(III)低LER加工と表面清浄化による低損失導波路の形成

    堀川剛, 志村大輔, JEONG Seok‐Hwan, 徳島正敏, 木下啓藏, 最上徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2015年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • シリコンフォトニクス光集積回路におけるプロセス課題(IV)Ge受光器に向けた選択Ge/Siエピ成長技術開発

    木下啓藏, 奥村滋一, 藤方潤一, 堀川剛, 堀川剛, 最上徹

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2015年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • CI-4-7 低損失・高精度シリコン光配線技術(CI-4.光配線・光実装技術の現状と展望,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画) 招待

    堀川 剛, 最上 徹

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2015年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • シリコンフォトニクス技術を用いた光インターコネクション 招待

    最上徹, 堀川剛

    半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集  2015年7月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(基調)  

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  • シリコンフォトニクス光集積回路におけるプロセス課題 (Ⅱ) 光機能素子の集積と実装

    木下 啓藏, 堀川 剛, 奥村 滋一, 竹村 浩一, 清水 隆徳, 藤方 潤一, 最上 徹

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2015年2月  公益社団法人 応用物理学会

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    開催年月日: 2015年2月

    記述言語:日本語  

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  • シリコンフォトニクス光集積回路におけるプロセス課題(II)光機能素子の集積と実装

    木下啓藏, 堀川剛, 奥村滋一, 竹村浩一, 清水隆徳, 藤方潤一, 最上徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2015年2月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • Siの結晶異方性エッチングを利用したスポットサイズ変換器

    宮村悟史, 小野英輝, 岡部豊, 太縄陽介, 八重樫浩樹, 堀川剛, 平山直紀, 佐々木浩紀

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2015年2月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • シリコンフォトニクス光集積回路におけるプロセス課題(I)高精度加工及びプロセスモニタリング

    堀川剛, 志村大輔, JEONG Seok‐Hwan, 徳島正敏, 木下啓藏, 最上徹

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2015年2月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • Ultra-fine Si photonics fabrication technology based on 40-nm-node CMOS process

    Tsuyoshi Horikawa, Tohru Mogami

    2015 IEEE 12TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON GROUP IV PHOTONICS (GFP)  2015年 

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    開催年月日: 2015年

    記述言語:英語  

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  • Process Control and Monitoring in Device Fabrication for Optical Interconnection using Silicon Photonics Technology

    Tsuyoshi Horikawa, Daisuke Shimura, Seok-Hwan Jeong, Masatoshi Tokushima, Keizo Kinoshita, Tohru Mogami

    2015 IEEE International Interconnect Technology Conference and 2015 IEEE Materials for Advanced Metallization Conference (IITC/MAM)  2015年 

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    開催年月日: 2015年

    記述言語:英語  

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  • A 300mm Si Photonics Platform for Optical Interconnection

    Tohru Mogami, Tsuyoshi Horikawa, Keizo Kinoshita, Hironori Sasaki, Ken Morito, Kazuhiko Kurata

    2015 IEEE International Interconnect Technology Conference and 2015 IEEE Materials for Advanced Metallization Conference (IITC/MAM)  2015年 

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    開催年月日: 2015年

    記述言語:英語  

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  • A 300mm Si Photonics Platform for Multi-applications

    Tohru Mogami, Tsuyoshi Horikawa, Keizo Kinoshita, Hironori Sasaki, Ken Morito, Kazuhiko Kurata

    2015 OPTO-ELECTRONICS AND COMMUNICATIONS CONFERENCE (OECC)  2015年 

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    開催年月日: 2015年

    記述言語:英語  

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  • C-3-57 シリコンフォトニクス錮線導波路デバイスの伝搬損失と製造誤差(C3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    堀川 剛, 志村 大輔, 鄭 錫煥, 徳島 正敏, 最上 徹

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2014年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • MOS型Si光変調器とGe受光器の集積化とCMOS駆動による高速動作

    藤方潤一, 高橋重樹, 高橋正志, 野口将高, 野口栄実, 栗原充, 堀川剛, 中村隆宏, 荒川泰彦

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2014年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • Si細線導波路に対応した偏波無依存型スポットサイズ変換器

    宮村悟史, 岡部豊, 小野英輝, 亀井明夫, 徳島正敏, 堀川剛, 佐々木浩紀

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2014年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • PINダイオードを用いたシリコン変調器によるαVπLの低減

    馬場威, 秋山傑, 今井雅彦, 堀川剛, 臼杵達哉

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2014年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 極薄膜Geシード層を適用したSi(001)基板上Ge層の低暗電流の観察

    奥村滋一, 下山峰史, 小野英輝, 三浦真, 野口将高, 藤方潤一, 最上徹, 堀川剛, 田中有, 森戸健

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2014年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • First demonstration of athermal silicon optical interposers with quantum dot lasers operating up to 125 °C 国際会議

    Yutaka Urino, Nobuaki Hatori, Takeshi Akagawa, Takanori Shimizu, Makoto Okano, Masashige Ishizaka, Tsuyoshi Yamamoto, Hideaki Okayama, Yosuke Onawa, Hiroyuki Takahashi, Daisuke Shimura, Hiroki Yaegashi, Hidetaka Nishi, Hiroshi Fukuda, Koji Yamada, Makoto Miura, Junichi Fujikata, Suguru Akiyama, Takeshi Baba, Tatsuya Usuki, Yoshiji Noguchi, Masataka Noguchi, Masahiko Imai, Naoki Hirayama, Shigeru Saitou, Masashi Yamagishi, Masashi Takahashi, Emiko Saito, Daisuke Okamoto, Masahiko Mori, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakaw

    ECOC 2014  2014年9月 

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    開催年月日: 2014年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • C-3-71 大容量チップ間光インターコネクション向けハイブリッド集積光源の1200チャンネル動作(光周波数・位相制御,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    清水 隆徳, 岡野 誠, 高橋 博之, 羽鳥 伸明, 石坂 政茂, 山本 剛之, 森 雅彦, 堀川 剛, 賣野 豊, 中村 隆宏, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2014年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • C-3-77 300ミリArF液浸露光工程を用いて作製したシリコン細線遅延干渉型合分波器(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    鄭 錫煥, 志村 大輔, 下山 峰史, 堀川 剛, 田中 有, 森戸 健

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2014年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • C-3-81 量子ドットレーザ搭載によるシリコン光インターポーザの高温リンク実証(シリコンフォトニクス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション) 招待

    賣野 豊, 羽鳥 伸明, 赤川 武志, 清水 隆徳, 岡野 誠, 石坂 政茂, 山本 剛之, 岡山 秀彰, 太縄 陽介, 高橋 博之, 志村 大輔, 八重樫 浩樹, 西 英隆, 福田 浩, 山田 浩治, 三浦 真, 藤方 潤一, 秋山 傑, 馬場 威, 臼杵 達哉, 埜口 良二, 野口 将高, 今井 雅彦, 平山 直紀, 斎藤 茂, 山岸 雅司, 高橋 正志, 斉藤 恵美子, 岡本 大典, 森 雅彦, 堀川 剛, 中村 隆宏, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2014年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • C-3-76 シリコンフォトニクスに向けた集積プロセスプラットフォーム技術(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    堀川 剛, 埜口 良二, 野口 将高, 今井 雅彦, 山岸 雅司, 斎藤 茂, 平山 直紀, 斉藤 恵美子, 高橋 正志, 高橋 博之, 賣野 豊, 秋山 傑, 藤方 潤一, 三浦 真, 清水 隆徳, 岡野 誠, 羽鳥 伸明, 中村 隆宏

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2014年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • CI-2-2 チップ間光配線に向けたシリコンナノフォトニックデバイス集積技術(CI-2.マイクロ・ナノフォトニクス集積および実装技術とその展開,ソサイエティ企画) 招待

    賣野 豊, 臼杵 達哉, 藤方 潤一, 石坂 政茂, 山田 浩治, 堀川 剛, 中村 隆宏, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2014年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • 大容量チップ間光インターコネクション向けハイブリッド集積光源の1200チャンネル動作

    清水隆徳, 岡野誠, 高橋博之, 羽鳥伸明, 石坂政茂, 山本剛之, 森雅彦, 堀川剛, 賣野豊, 中村隆宏, 荒川泰彦

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2014年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 3D‐AFMおよびCDSEMによるSi光導波路側面ラフネス解析

    平山直紀, 山岸雅司, 埜口良二, 斉藤茂, 高橋博之, 堀川剛

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2014年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • Al系積層型ジョセフソン接合を用いた超伝導量子ビットの作製

    佐藤哲朗, 埜口良二, 山岸雅司, 永沢秀一, 日野出憲治, 日高睦夫, 前澤正明, 堀川剛

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2014年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 超伝導量子ビット集積化に向けた積層型微小接合作製プロセス

    前澤正明, 佐藤哲朗, 埜口良二, 山岸雅司, 日高睦夫, 堀川剛

    電子情報通信学会技術研究報告  2014年1月 

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    開催年月日: 2014年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    実用的規模の量子計算機の実現を目指して,超伝導量子ビットのスケーラブルな集積化を可能とする微小ジョセフソン接合の作製プロセスを研究している.多層配線構造と微小面積接合を両立する化学機械研磨(CMP)平坦化を用いた積層型Al/AlO_x/Al接合作製技術を開発した.アルミニウムの機械的・化学的脆弱性を考慮して作製プロセスを最適化した結果,100nmオーダーの微小接合の作製に成功した.

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  • Fully integrated silicon optical interposers with high bandwidth density

    Yutaka Urino, Tatsuya Usuki, Junichi Fujikata, Masashige Ishizaka, Koji Yamada, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    Optics InfoBase Conference Papers  2014年1月 

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    開催年月日: 2014年1月

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    その他リンク: http://orcid.org/0000-0002-0084-0654

  • Observation of Suppressed dark current of Ge on Si (100) using ultrathin Ge seed layer

    Shigekazu Okumura, Takasi Simoyama, Hideki Ono, Masaki Okuno, Makoto Miura, Junichi Fujikata, Masataka Noguchi, Tohru Mogami, Tsuyoshi Horikawa, Yu Tanaka, Ken Morito

    2014 7TH INTERNATIONAL SILICON-GERMANIUM TECHNOLOGY AND DEVICE MEETING (ISTDM)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • 3D-AFMおよびCDSEMによるSi光導波路側面ラフネス解析

    平山直紀, 平山直紀, 山岸雅司, 山岸雅司, 埜口良二, 埜口良二, 斉藤茂, 斉藤茂, 高橋博之, 高橋博之, 堀川剛, 堀川剛

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

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  • シリコンフォトニクス細線導波路デバイスの伝搬損失と製造誤差

    堀川剛, 志村大輔, JEONG Seok-Hwan, 徳島正敏, 最上徹

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

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  • Delayed Interferometer Based Si-wire WDM Demultiplexers Fabricated by Phase Controllable and Productive 300-mm Wafer-scale ArF-Immersion Lithography Technology

    Seok-Hwan Jeong, Daisuke Shimura, Takasi Simoyama, Tsuyoshi Horikawa, Yu Tanaka, Ken Morito

    2014 OPTICAL FIBER COMMUNICATIONS CONFERENCE AND EXHIBITION (OFC)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • Demonstration of over 1000-Channel Hybrid Integrated Light Source for Ultra-High Bandwidth Interchip Optical Interconnection

    Takanori Shimizu, Makoto Okano, Hiroyuki Takahashi, Nobuaki Hatori, Masashige Ishizaka, Tsuyoshi Yamamoto, Masahiko Mori, Tsuyoshi Horikawa, Yutaka Urino, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    2014 OPTICAL FIBER COMMUNICATIONS CONFERENCE AND EXHIBITION (OFC)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • Multi-channel and High-density Hybrid Integrated Light Source by Thermal Management for Low Power Consumption for Ultra-high Bandwidth Optical Interconnection

    Takanori Shimizu, Makoto Okano, Hiroyuki Takahashi, Nobuaki Hatori, Masashige Ishizaka, Tsuyoshi Yamamoto, Masahiko Mori, Tsuyoshi Horikawa, Yutaka Urino, Takahiro Nakamura, Yashuhiko Arakawa

    2014 INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONICS PACKAGING (ICEP)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • シリコンフォトニクスに向けた集積プロセスプラットフォーム技術

    堀川剛, 堀川剛, 埜口良二, 埜口良二, 野口将高, 野口将高, 今井雅彦, 今井雅彦, 山岸雅司, 山岸雅司, 斎藤茂, 斎藤茂, 平山直紀, 平山直紀, 斉藤恵美子, 斉藤恵美子, 高橋正志, 高橋正志, 高橋博之, 高橋博之, 賣野豊, 賣野豊, 秋山傑, 秋山傑, 藤方潤一, 藤方潤一, 三浦真, 三浦真, 清水隆徳, 清水隆徳, 岡野誠, 岡野誠, 羽鳥伸明, 羽鳥伸明, 中村隆宏, 中村隆宏

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

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  • 300ミリArF液浸露光工程を用いて作製したシリコン細線遅延干渉型合分波器

    JEONG Seok-Hwan, 志村大輔, 下山峰史, 堀川剛, 堀川剛, 田中有, 森戸健

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

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  • Demonstration of 25-Gbps Optical Data Links on Silicon Optical Interposer Using FPGA Transceiver

    Daisuke Okamoto, Yutaka Urino, Takeshi Akagawa, Suguru Akiyama, Takeshi Baba, Tatsuya Usuki, Makoto Miura, Junichi Fujikata, Takanori Shimizu, Makoto Okano, Nobuaki Hatori, Masashige Ishizaka, Tsuyoshi Yamamoto, Hiroyuki Takahashi, Yoshiji Noguchi, Masataka Noguchi, Masahiko Imai, Masashi Yamagishi, Shigeru Saitou, Naoki Hirayama, Masashi Takahashi, Emiko Saito, Daisuke Shimura, Hideaki Okayama, Yosuke Onawa, Hiroki Yaegashi, Hidetaka Nishi, Hiroshi Fukuda, Koji Yamada, Masahiko Mori, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    2014 EUROPEAN CONFERENCE ON OPTICAL COMMUNICATION (ECOC)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • High precision Si waveguide devices designed for 1.31 mu m and 1.55 mu m wavelengths on 300mm-SOI

    Daisuke Shimura, Tsuyoshi Horikawa, Hideaki Okayama, Seok-Hwan Jeong, Masatoshi Tokushima, Hironori Sasaki, Tohru Mogami

    2014 IEEE 11TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON GROUP IV PHOTONICS (GFP)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • Low-alpha V L-pi 25-Gb/s Silicon Modulator Based on Forward-Biased Pin Diodes

    T. Baba, S. Akiyama, M. Imai, T. Horikawa, T. Usuki

    2014 IEEE 11TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON GROUP IV PHOTONICS (GFP)  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • Low-loss and flatband silicon-nanowire-based 5th-order coupled resonator optical waveguides (CROW) fabricated by ArF-immersion lithography process on a 300-mm SOI wafer

    Seok-Hwan Jeong, Daisuke Shimura, Takasi Simoyama, Miyoshi Seki, Nobuyuki Yokoyama, Minoru Ohtsuka, Keiji Koshino, Tsuyoshi Horikawa, Yu Tanaka, Ken Morito

    SILICON PHOTONICS IX  2014年 

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    開催年月日: 2014年

    記述言語:英語  

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  • Advances in photonics-electronics convergent system technology 招待 国際会議

    Yasuhiko Arakawa, Yasuhiko Arakawa, Takahiro Nakamura, Takahiro Nakamura, Yutaka Urino, Yutaka Urino, Tsuyoshi Horikawa, Tsuyoshi Horikawa

    Optics InfoBase Conference Papers  2013年12月 

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    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    We demonstrate silicon optical interposers for inter-chip interconnects, integrating lasers, optical splitters, modulators, waveguides and photodetectors on a single silicon substrate. Innovative challenge of quantum dot lasers for silicon photonics application is also discussed. © OSA 2013.

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    その他リンク: http://orcid.org/0000-0002-0084-0654

  • Si wire array waveguide grating with reduced phase error: Effect of advanced lithography process 国際会議

    H. Okayama, D. Shimura, H. Takahashi, M. Seki, M. Toyama, T. Sano, K. Koshino, N. Yokoyama, M. Ohtsuka, A. Sugiyama, S. Ishitsuka, T. Tsuchizawa, H. Nishi, K. Yamada, H. Yaegashi, T. Horikawa, H. Sasaki

    2013 18th OptoElectronics and Communications Conference Held Jointly with 2013 International Conference on Photonics in Switching, OECC/PS 2013  2013年10月 

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    開催年月日: 2013年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    We report the Si wire AWG without systematic phase error generated at the curved waveguides. A 200GHz spacing 16 channel devices were fabricated by ArF immersion and EB lithography and the results are compared. © 2013 IEICE.

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    その他リンク: http://orcid.org/0000-0002-0084-0654

  • 全ての光コンポーネントを単一シリコン基板上に集積したシリコン光インターポーザの30Tbps/cm2動作実証 招待

    賣野豊, 秋山傑, 赤川武志, 馬場威, 臼杵達哉, 岡本大典, 三浦真, 藤方潤一, 清水隆徳, 岡野誠, 羽鳥伸明, 石坂政茂, 山本剛之, 高橋博之, 埜口良二, 野口将高, 今井雅彦, 山岸雅司, 斎藤茂, 平山直紀, 高橋正志, 斉藤恵美子, 志村大輔, 岡山秀彰, 太縄陽介, 八重樫浩樹, 西英隆, 福田浩, 山田浩治, 森雅彦, 堀川剛, 中村隆宏, 荒川泰彦

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2013年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • C-3-10 ArF液浸露光を用いた2次元フォトニック結晶スラブ導波路(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    堀川 剛, 岡野 誠, 鈴木 恵治郎, 外山 宗博, 関 三好, 佐野 作

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2013年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • C-3-18 全ての光コンポーネントを単一シリコン基板上に集積したシリコン光インターポーザの30Tbps/cm2動作実証(シリコンフォトニクス(2),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション) 招待

    費野 豊, 秋山 傑, 赤川 武志, 馬場 威, 臼杵 達哉, 岡本 大典, 三浦 真, 藤方 潤, 清水 隆徳, 岡野 誠, 羽鳥 伸明, 石坂 政茂, 山本 剛之, 高橋 博之, 埜口 良二, 野口 将高, 今井 雅彦, 山岸 雅司, 斎藤 茂, 平山 直紀, 高橋 正志, 斉藤 恵美子, 志村 大輔, 岡山 英彰, 太縄 陽介, 八重樫 浩樹, 西 英隆, 福田 浩, 山田 浩治, 森 雅彦, 堀川 剛, 中村 隆宏, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2013年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • C-3-9 高精度ArF液浸露光を用いたシリコンフォトニクスデバイス(シリコンフォトニクス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション) 招待

    堀川 剛

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2013年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • 微小Al系積層型ジョセフソン接合作製プロセスの改善

    佐藤哲朗, 埜口良二, 山岸雅司, 永沢秀一, 日野出憲治, 日高睦夫, 前澤正明, 堀川剛

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • SiOx薄膜スラブを用いたモード制御によるSiテーパ‐SSCの構造トレランスの拡大

    高橋博之, 羽鳥伸明, 清水隆徳, 石坂政茂, 岡野誠, 堀川剛

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 300mm SOI基板上にハーフトーンマスクで作製したシリコン細線導波路

    平野秀, 相馬宗厳, 北智洋, 田主裕一朗, 関三好, 外山宗博, 堀川剛, 山田博仁

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 1.55μm及び1.3μm波長帯用高効率MOS型Si光変調器

    高橋重樹, 藤方潤一, 高橋正志, 堀川剛, 中村隆宏, 荒川泰彦

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • PINダイオードを用いたリング共振器型シリコン変調器の50Gb/s動作

    馬場威, 秋山傑, 今井雅彦, 平山直紀, 高橋博之, 埜口良二, 堀川剛, 臼杵達哉

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 50GHz帯域Si導波路集積PIN型Geフォトダイオードの検討

    野口将高, 藤方潤一, 三浦真, 岡本大典, 堀川剛, 荒川泰彦

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 300mm SOI基板上に作製したリング共振器の特性均一性

    相馬宗厳, 平野秀, 田主裕一朗, 北智洋, 外山宗博, 佐野作, 堀川剛, 山田博仁

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 側面格子導波路を有するPIN型シリコン変調器の高速・高効率動作の検討(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般) 招待

    秋山 傑, 馬場 威, 今井 雅彦, 平山 直紀, 高橋 博之, 埜口 良二, 堀川 剛, 臼杵 達哉

    電子情報通信学会技術研究報告. LQE, レーザ・量子エレクトロニクス, R, 信頼性,EMD, 機構デバイス, CPM, 電子部品・材料,OPE, 光エレクトロニクス  2013年8月 

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    開催年月日: 2013年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    大容量かつ高密度な集積光トランシーバ素子の実現に向けて,シリコン変調器の高速化・高効率化が必要とされる.我々はこれまでにPINダイオード型位相変調器の順方向バイアス電圧動作により,マッハツェンダ型変調器の高速・高効率動作を報告してきた.今回,変調器の高効率化のため,このような位相変調器を用いたリング共振器型変調器を検討した.本報告では,まず,このような変調器における高効率化に向けた設計のポイントについて説明する.その後,位相変調器を側面格子導波路構造とし, PINダイオードを有するリング共振器型シリコン変調器を試作した結果についてまとめる.本素子を用いて2V_<pp>の低電圧振幅による50Gb/sの高速動作を実現し,我々の方式がシリコン変調器の高速・高効率動作に向けて有効であることを示す.

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  • Uniform characteristics of Si-wire waveguide devices fabricated on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography

    Yuichiro Tanushi, Tomohiro Kita, Munehiro Toyama, Miyoshi Seki, Keiji Koshino, Nobuyuki Yokoyama, Minoru Ohtsuka, Akinobu Sugiyama, Eiichi Ishitsuka, Tsukuru Sano, Tsuyoshi Horikawa, Hirohito Yamada

    10th International Conference on Group IV Photonics  2013年8月  IEEE

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    開催年月日: 2013年8月

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  • シリコンフォトニクスを用いた高密度チップ間インターコネクト 招待

    賣野豊, 賣野豊, 堀川剛, 堀川剛, 中村隆宏, 中村隆宏, 荒川泰彦, 荒川泰彦

    電気学会電磁界理論研究会資料  2013年7月 

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    開催年月日: 2013年7月

    記述言語:英語  

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  • 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)

    北 智洋, 田主 裕一朗, 奈良 匡樹, 平野 秀, 外山 宗博, 関 三好, 越野 圭二, 横山 信幸, 大塚 実, 杉山 曜宣, 石塚 栄一, 佐野 作, 堀川 剛, 山田 博仁

    電子情報通信学会技術研究報告. OPE, 光エレクトロニクス, LQE, レーザ・量子エレクトロニクス  2013年6月 

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    開催年月日: 2013年6月

    記述言語:日本語  

    ArF液侵リソグラフィー技術を用いて300mm SOIウェハ上にチャネル型シリコン細線導波路,方向性結合器,リング共振器を作製し,光学特性を評価した.評価結果は数値計算結果との良い一致を示し,シリコンフォトニクスデバイス作製に本プロセス工程を用いることの有効性が確認された.

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  • 光結合器応用に向けたRF‐PECVDを用いたSiOx膜の検討

    高橋博之, 山岸雅司, 平山直紀, 斉藤茂, 埜口良二, 堀川剛

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 超小型Ge受光器実現に向けたエピタキシャル成長プロセス検討

    三浦真, 藤方潤一, 野口将高, 堀川剛, 荒川泰彦

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • シリコンフォトニクスを用いた高密度チップ間インターコネクト(フォトニック,NW・デバイス,フォトニック結晶,ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般) 招待

    賣野 豊, 堀川 剛, 中村 隆宏, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会技術研究報告. EST, エレクトロニクスシミュレーション, PN, フォトニックネットワーク, LQE, レーザ・量子エレクトロニクス  2013年1月 

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    開催年月日: 2013年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    情報通信産業においては、今後も情報の伝送・処理性能の飛躍的な伸びが求められているが、その実現に向けて最も深刻な課題の一つにチップ間インターコネクトの帯域幅のボトルネックがある。この課題の解決策として、我々は光電子融合システムを提案している。この光電子融合システムの実現性を検証するため、単一シリコン基板上にレーザアレイ、スポットサイズ変換器、光分岐器、光変調器アレイ、受光器アレイ、光導波路アレイを集積したシリコン光インターポーザを試作し、12.5Gbpsのエラーフリー伝送と6.6Tbps/cm2の高伝送密度を実証した。この技術は将来、チップ間インターコネクトの帯域幅ボトルネックを解消すると信じている。

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  • ArF液浸露光を用いた2次元フォトニック結晶スラブ導波路

    堀川剛, 岡野誠, 鈴木恵治郎, 外山宗博, 関三好, 佐野作

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2013年 

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    開催年月日: 2013年

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  • Large-scale silicon photonics integrated circuits for interconnect and telecom applications

    Hiroshi Fukuda, Kotaro Takeda, Tatsuro Hiraki, Tai Tsuchizawa, Hidetaka Nishi, Rai Kou, Yasuhiko Ishikawa, Kazumi Wada, Tsuyoshi Yamamoto, Koji Yamada, Yutaka Urino, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP  2013年 

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    開催年月日: 2013年

    記述言語:英語  

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  • Efficient 50-Gb/s silicon microring modulator based on forward-biased pin diodes

    T. Baba, S. Akiyama, M. Imai, N. Hirayama, H. Takahashi, Y. Noguchi, T. Horikawa, T. Usuki

    IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP  2013年 

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    開催年月日: 2013年

    記述言語:英語  

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  • High Performance PIN Ge Photodetector and Si Optical Modulator with MOS Junction for Photonics-Electronics Convergence System

    Junichi Fujikata, Masataka Noguchi, Makoto Miura, Masashi Takahashi, Shigeki Takahashi, Tsuyoshi Horikawa, Yutaka Urino, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    2013 18TH ASIA AND SOUTH PACIFIC DESIGN AUTOMATION CONFERENCE (ASP-DAC)  2013年 

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    開催年月日: 2013年

    記述言語:英語  

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  • High speed and highly efficient Si optical modulator with MOS junction for 1.55 μm and 1.3 μm wavelengths

    Junichi Fujikata, Shigeki Takahashi, Masashi Takahashi, Tsuyoshi Horikawa

    IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP  2013年 

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    開催年月日: 2013年

    記述言語:英語  

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  • High-density Silicon Optical Interposer for Inter-chip Interconnects based on Compact and High Speed Components

    Takahiro Nakamura, Yutaka Urino, Junichi Fujikata, Tatsuya Usuki, Masashige Ishizaka, Koji Yamada, Tsuyoshi Horikawa, Yasuhiko Arakawa

    2013 CONFERENCE ON LASERS AND ELECTRO-OPTICS (CLEO)  2013年 

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    開催年月日: 2013年

    記述言語:英語  

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  • High Density Optical Interconnects Integrated with Lasers, Optical Modulators and Photodetectors on a Single Silicon Chip

    Yutaka Urino, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    2013 OPTICAL FIBER COMMUNICATION CONFERENCE AND EXPOSITION AND THE NATIONAL FIBER OPTIC ENGINEERS CONFERENCE (OFC/NFOEC)  2013年 

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    開催年月日: 2013年

    記述言語:英語  

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  • Demonstration of 30-Tbps/cm2 bandwidth density by silicon optical interposers fully integrated with optical components

    Yutaka Urino, Suguru Akiyama, Takeshi Akagawa, Takeshi Baba, Tatsuya Usuki, Daisuke Okamoto, Makoto Miura, Junichi Fujikata, Takanori Shimizu, Makoto Okano, Nobuaki Hatori, Masashige Ishizaka, Tsuyoshi Yamamoto, Hiroyuki Takahashi, Yoshiji Noguchi, Masataka Noguchi, Masahiko Imai, Masashi Yamagishi, Shigeru Saitou, Naoki Hirayama, Masashi Takahashi, Emiko Saito, Daisuke Shimura, Hideaki Okayama, Yosuke Onawa, Hiroki Yaegashi, Hidetaka Nishi, Hiroshi Fukuda, Koji Yamada, Masahiko Mori, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    IET Conference Publications  2013年 

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    開催年月日: 2013年

    記述言語:英語  

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  • SiOx薄膜スラブを用いたモード制御によるSiテーパ-SSCの構造トレランスの拡大

    高橋博之, 高橋博之, 羽鳥伸明, 羽鳥伸明, 清水隆徳, 清水隆徳, 石坂政茂, 石坂政茂, 岡野誠, 岡野誠, 堀川剛, 堀川剛

    応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年 

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    開催年月日: 2013年

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  • 光結合器応用に向けたRF-PECVDを用いたSiOx膜の検討

    高橋博之, 高橋博之, 山岸雅司, 山岸雅司, 平山直紀, 平山直紀, 斉藤茂, 斉藤茂, 埜口良二, 埜口良二, 堀川剛, 堀川剛

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2013年 

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    開催年月日: 2013年

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  • 高精度ArF液浸露光を用いたシリコンフォトニクスデバイス

    堀川剛

    電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  2013年 

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    開催年月日: 2013年

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  • C-3-56 高密度シリコンフォトニクス回路向け集積プロセス技術(I)(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    今井 雅彦, 藤方 潤一, 埜口 良二, 野口 将高, 高橋 博之, 三浦 真, 秋山 傑, 山田 浩治, 和田 一実, 賣野 豊, 堀川 剛

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • C-3-66 単一シリコン基板上にレーザ・光分岐器・光変調器・受光器を集積したシリコン光インターポーザの12.5Gbps動作実証(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション) 招待

    賣野 豊, 埜口 良二, 野口 将高, 今井 雅彦, 山岸 雅司, 斎藤 茂, 平山 直紀, 高橋 正志, 高橋 博之, 斉藤 恵美子, 岡野 誠, 清水 隆徳, 羽鳥 伸明, 石坂 政茂, 山本 剛之, 馬場 威, 赤川 武志, 秋山 傑, 臼杵 達哉, 岡本 大典, 三浦 真, 藤方 潤一, 志村 大輔, 岡山 秀彰, 八重樫 浩樹, 土澤 泰, 山田 浩治, 森 雅彦, 堀川 剛, 中村 隆宏, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2012年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • C-11-2 SiONゲート絶縁膜形成後大気曝露の絶縁破壊特性への影響(C-11. シリコン材料・デバイス,一般セッション)

    松木 武雄, 小川 有人, 伊藤 周, 堀川 剛, 菊池 俊之, 劉 紫園

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2012年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • C-3-64 Si導波路集積PIN型およびショットキー型Ge受光器の検討(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    野口 将高, 藤方 潤一, 三浦 真, 岡本 大典, 堀川 剛, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2012年8月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • C-3-57 SOI導波路プロセス(VI) : 液浸ArF露光を用いた導波路パターン形成(II)(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    堀川 剛, 関 三好, 外山 宗博, 越野 圭二, 横山 信幸, 大塚 実, 杉山 曜宣, 石塚 栄一, 山岸 雅司, 佐野 作

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 微小Al/AlOx/Al積層型ジョセフソン接合の作製プロセス開発

    佐藤哲朗, 埜口良二, 山岸雅司, 永沢秀一, 日野出憲治, 日高睦夫, 前澤正明, 堀川剛

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • ArF液浸露光を用いたシリコンフォトニクスデバイスの作製誤差制御

    高橋博之, 関三好, 外山宗博, 志村大輔, 越野圭二, 横山信幸, 大塚実, 杉山曜宣, 石塚栄一, 佐野作, 堀川剛

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • PIN型ダイオードを用いた作用長250μmのシリコン変調器の50Gbps動作

    秋山傑, 馬場威, 今井雅彦, 赤川武志, 野口将高, 斉藤恵美子, 埜口良二, 平山直紀, 堀川剛, 臼杵達哉

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • SOI導波路プロセス(V)―光集積回路に向けたEB露光技術の確立―

    堀川剛, 平山直紀, 高橋博之, 埜口良二, 山岸雅司

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 低損失ポリシリコンゲートを有する高効率MOS型Si光変調器

    高橋重樹, 藤方潤一, 高橋正志, 赤川武志, 野口将高, 堀川剛, 中村隆宏, 荒川泰彦

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • SiGe cap層を用いた差動対MSM型Ge受光素子

    三浦真, 野口将高, 藤方潤一, 岡本大典, 堀川剛, 荒川泰彦

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 多結晶シリコン導波路における導波損失と抵抗率の改善

    堀川剛, 高橋正志, 藤方潤一, 野口将高, 赤川武志

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 光集積回路と光ファイバーの直接光結合技術 信号光を拡大縮小する微小な光変換器を高性能化

    徳島正敏, 亀井明夫, 堀川剛

    産総研TODAY(Web)  2012年8月 

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    開催年月日: 2012年8月

    記述言語:日本語  

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  • C-3-36 シリコンフォトニクス集積に向けたCMOS技術(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション) 招待

    堀川 剛, 高橋 博之, 藤方 潤一, 秋山 傑, 徳島 正敏, 清水 隆徳, 平山 直紀, 関 三好, 中村 隆宏

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2012年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • CI-3-3 高密度光配線用シリコン光集積回路(CI-3.通信システム・光配線システム応用にむけた高密度集積フォトニックプラットフォーム,依頼シンポジウム) 招待

    中村 隆宏, 賣野 豊, 臼杵 達哉, 藤方 潤一, 石坂 政茂, 山田 浩治, 八重樫 浩樹, 堀川 剛, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2012年3月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

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  • Si導波路集積PIN型Geフォトダイオードの検討

    野口将高, 藤方潤一, 三浦真, 岡本大典, 堀川剛, 荒川泰彦

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年2月 

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    記述言語:日本語  

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  • SOI導波路プロセス(IV)―液浸ArF露光を用いた導波路パターン形成―

    関三好, 高橋博之, 外山宗博, 越野圭二, 横山信幸, 大塚実, 杉山曜宣, 石塚栄一, 平山直紀, 佐野作, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年2月 

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    記述言語:日本語  

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  • Si導波路と10μm光ファイバーの結合用スポットサイズ変換器

    徳島正敏, 亀井明夫, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年2月 

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    記述言語:日本語  

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  • 高密度光配線用シリコン光集積回路

    中村隆宏, 中村隆宏, 賣野豊, 賣野豊, 臼杵達哉, 臼杵達哉, 藤方潤一, 藤方潤一, 石坂政茂, 石坂政茂, 山田浩治, 山田浩治, 八重樫浩樹, 八重樫浩樹, 堀川剛, 堀川剛, 荒川泰彦, 荒川泰彦

    電子情報通信学会大会講演論文集  2012年 

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    開催年月日: 2012年

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  • Demonstration of 12.5-Gbps optical interconnects integrated with lasers, optic

    Yutaka Urino, Yoshiji Noguchi, Masataka Noguchi, Masahiko Imai, Masashi Yamagishi, Shigeru Saitou, Naoki Hirayama, Masashi Takahashi, Hiroyuki Takahashi, Emiko Saito, Makoto Okano, Takanori Shimizu, Nobuaki Hatori, Masashige Ishizaka, Tsuyoshi Yamamoto, Takeshi Baba, Takeshi Akagawa, Suguru Akiyama, Tatsuya Usuki, Daisuke Okamoto, Makoto Miura, Junichi Fujikata, Daisuke Shimura, Hideaki Okayama, Hiroki Yaegashi, Tai Tsuchizawa, Koji Yamada, Masahiko Mori, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    European Conference and Exhibition on Optical Communication, ECEOC 2012  2012年 

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    開催年月日: 2012年

    記述言語:英語  

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  • SiONゲート絶縁膜形成後大気曝露の絶縁破壊特性への影響

    松木武雄, 小川有人, 伊藤周, 堀川剛, 菊池俊之, LIU Ziyuan

    電子情報通信学会大会講演論文集  2012年 

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    開催年月日: 2012年

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  • 50-Gb/s silicon modulator using 250-μm-Long phase shifter based-on forward-biased pin diodes

    S. Akiyama, T. Baba, M. Imai, T. Akagawa, M. Noguchi, E. Saito, Y. Noguchi, N. Hirayama, T. Horikawa, T. Usuki

    IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP  2012年 

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    開催年月日: 2012年

    記述言語:英語  

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  • High-uniformity waveguide-integrated metal-semiconductor-metal germanium photodetector with sige capping layer and its application to differential receivers

    Makoto Miura, Junichi Fujikata, Masataka Noguchi, Daisuke Okamoto, Tsuyoshi Horikawa, Yasuhiko Arakawa

    IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP  2012年 

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    開催年月日: 2012年

    記述言語:英語  

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  • Photonics-Electronics Convergence System for High Density Inter-chip Interconnects by using Silicon Photonics

    Yutaka Urino, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    2012 IEEE COMPOUND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT SYMPOSIUM (CSICS)  2012年 

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    開催年月日: 2012年

    記述言語:英語  

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  • Demonstration of 12.5-Gbps Optical Interconnects Integrated with Lasers, Optical Splitters, Optical Modulators and Photodetectors on a Single Silicon Substrate

    Yutaka Urino, Yoshiji Noguchi, Masataka Noguchi, Masahiko Imai, Masashi Yamagishi, Shigeru Saitou, Naoki Hirayama, Masashi Takahashi, Hiroyuki Takahashi, Emiko Saito, Makoto Okano, Takanori Shimizu, Nobuaki Hatori, Masashige Ishizaka, Tsuyoshi Yamamoto, Takeshi Baba, Takeshi Akagawa, Suguru Akiyama, Tatsuya Usuki, Daisuke Okamoto, Makoto Miura, Junichi Fujikata, Daisuke Shimura, Hideaki Okayama, Hiroki Yaegashi, Tai Tsuchizawa, Koji Yamada, Masahiko Mori, Tsuyoshi Horikawa, Takahiro Nakamura, Yasuhiko Arakawa

    2012 38TH EUROPEAN CONFERENCE AND EXHIBITION ON OPTICAL COMMUNICATIONS (ECOC)  2012年 

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    開催年月日: 2012年

    記述言語:英語  

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  • 25-Gbps Operation of Silicon p-i-n Mach-Zehnder Optical Modulator with 100-mu m-Long Phase Shifter

    T. Baba, S. Akiyama, M. Imai, T. Akagawa, M. Takahashi, N. Hirayama, H. Takahashi, Y. Noguchi, H. Okayama, T. Horikawa, T. Usuki

    2012 CONFERENCE ON LASERS AND ELECTRO-OPTICS (CLEO)  2012年 

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    開催年月日: 2012年

    記述言語:英語  

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  • SOI導波路プロセス(V)-光集積回路に向けたEB露光技術の確立-

    堀川剛, 堀川剛, 平山直紀, 平山直紀, 高橋博之, 高橋博之, 埜口良二, 埜口良二, 山岸雅司, 山岸雅司

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2012年 

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    開催年月日: 2012年

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  • Si導波路集積PIN型およびショットキー型Ge受光器の検討

    野口将高, 野口将高, 藤方潤一, 藤方潤一, 三浦真, 三浦真, 岡本大典, 岡本大典, 堀川剛, 堀川剛, 荒川泰彦, 荒川泰彦

    電子情報通信学会大会講演論文集  2012年 

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    開催年月日: 2012年

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  • SOI導波路プロセス(VI)-液浸ArF露光を用いた導波路パターン形成(II)-

    堀川剛, 関三好, 外山宗博, 越野圭二, 横山信幸, 大塚実, 杉山曜宣, 石塚栄一, 山岸雅司, 佐野作

    電子情報通信学会大会講演論文集  2012年 

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    開催年月日: 2012年

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  • シリコンフォトニクス集積に向けたCMOS技術

    堀川剛, 堀川剛, 高橋博之, 高橋博之, 藤方潤一, 藤方潤一, 秋山傑, 秋山傑, 徳島正敏, 清水隆徳, 清水隆徳, 平山直紀, 平山直紀, 関三好, 関三好, 中村隆宏, 中村隆宏

    電子情報通信学会大会講演論文集  2012年 

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    開催年月日: 2012年

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  • 高密度シリコンフォトニクス回路向け集積プロセス技術(I)

    今井雅彦, 今井雅彦, 藤方潤一, 藤方潤一, 埜口良二, 埜口良二, 野口将高, 野口将高, 高橋博之, 高橋博之, 三浦真, 三浦真, 秋山傑, 秋山傑, 山田浩治, 山田浩治, 和田一実, 和田一実, 賣野豊, 賣野豊, 堀川剛, 堀川剛

    電子情報通信学会大会講演論文集  2012年 

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    開催年月日: 2012年

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  • Si導波路集積MSM型Geフォトダイオードの検討

    野口将高, 藤方潤一, 三浦真, 岡本大典, 堀川剛, 荒川泰彦

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2011年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • MSM型Geフォトダイオードと光電子集積に向けた受信回路の検討

    野口将高, 藤方潤一, 岡本大典, 三浦真, 堀川剛, 荒川泰彦

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2011年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 多結晶シリコン導波路における導波損失機構の検討

    高橋正志, 藤方潤一, 野口将高, 山本宗継, 赤川武志, 高橋博之, 平山直紀, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2011年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • NiGe/n+ Geコンタクトの低抵抗/浅接合化

    三浦真, 野口将高, 藤方潤一, 堀川剛, 高橋正志, 埜口良二, 荒川泰彦

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2011年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • SOI導波路プロセス(III)―EB多重露光プロセスによる導波損失低減―

    平山直紀, 高橋博之, 志村大輔, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2011年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • リブ導波路の曲がりのための緩和曲線に関する考察

    徳島正敏, 亀井明夫, CHU Tao, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2011年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • C-3-59 低損失多結晶Si光導波路と光変調器への応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

    藤方 潤一, 高橋 正志, 野口 将高, 高橋 重樹, 山本 宗継, 赤川 武志, 高橋 博之, 平山 直紀, 堀川 剛

    電子情報通信学会総合大会講演論文集  2011年2月 

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    記述言語:日本語  

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  • 12.5-Gb/s operation of efficient silicon modulator using side-wall grating waveguide

    S. Akiyama, T. Baba, M. Imai, T. Akagawa, M. Takahashi, N. Hirayama, H. Takahashi, Y. Noguchi, H. Okayama, T. Horikawa, T. Usuki

    IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP  2011年 

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    開催年月日: 2011年

    記述言語:英語  

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  • SOI導波路プロセス(III)-EB多重露光プロセスによる導波損失低減-

    平山直紀, 高橋博之, 志村大輔, 堀川剛, 平山直紀, 高橋博之, 志村大輔, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2011年 

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    開催年月日: 2011年

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  • IMPACT OF AIR-INDUCED POLY-SI/OXYNITRIDE INTERFACE LAYER DEGRADATION ON GATE-EDGE LEAKAGE

    Ziyuan Liu, Shuu Ito, Tomoya Saito, Soon W. Chang, Arito Ogawa, Sadayoshi Horii, Tsuyoshi Horikawa, Markus Wilde, Katsuyuki Fukutani, Toyohiro Chikyow

    2011 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM (IRPS)  2011年 

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    開催年月日: 2011年

    記述言語:英語  

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  • CI-3-5 光デバイスファウンドリーの現状と展望(CI-3.半導体製造技術の現状と今後の展望,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)

    中村 隆宏, 堀川 剛, 荒川 泰彦

    電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集  2010年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • TiN電極へのAl導入によるEOTの低減

    小川有人, 板谷秀治, 堀井貞義, 三瀬信行, 堀川剛

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 単一半導体を用いた新ソースヘテロ構造の検討(III):急峻な横方向歪み分布の実現

    水野智久, 長谷川光央, 野尻真士, 堀川剛

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 緩和曲線による多モード・リブ導波路の透過改善

    徳島正敏, 亀井明夫, CHU Tao, 堀川剛

    応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • MOS構造における電極の仕事関数抽出の再検討

    小川有人, 板谷秀治, 堀井貞義, 三瀬信行, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • SOI導波路プロセス(II)―リブ導波路の高速/高精度形成

    徳島正敏, CHU Tao, 亀井明夫, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • SOI導波路プロセス(I)―CMOSプロセスの適用検討―

    堀川剛, CHU Tao, 徳島正敏, 亀井明夫

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • EUPSによるTiN膜の仕事関数の膜厚及び下地high‐k膜依存の評価

    石塚知明, 大塚照久, 葛西彪, 小川有人, 堀川剛, 富江敏尚

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • SOI導波路プロセス(I)-CMOSプロセスの適用検討-

    堀川剛, CHU Tao, 徳島正敏, 亀井明夫

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年 

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    開催年月日: 2010年

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  • EUPSによるTiN膜の仕事関数の膜厚及び下地high-k膜依存の評価

    石塚知明, 大塚照久, 葛西彪, 小川有人, 堀川剛, 富江敏尚

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  2010年 

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    開催年月日: 2010年

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  • Si高指数面上に形成したSiO2界面の真空紫外RDS評価:ウェット酸化とドライ酸化の比較

    尾形祥一, 大野真也, 田中正俊, 堀川剛, 安田哲二

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2009年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • Analysis of transient charging components in NBTI degradation studied for TaN gated HfO2/SiO2 dielectrics

    Kenji Okada, Tsuyoshi Horikawa, Hiroyuki Ota, Toshihide Nabatame, Akira Toriumi

    ESSDERC 2007: PROCEEDINGS OF THE 37TH EUROPEAN SOLID-STATE DEVICE RESEARCH CONFERENCE  2007年 

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    開催年月日: 2007年

    記述言語:英語  

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  • Reliability perspective of high-k gate stack assessed by temperature dependence of dielectric breakdown

    Kenji Okada, Tsuyoshi Horikawa, Hideki Satake, Seiji Inumiya, Yasushi Akasaka, Fumio Ootsuka, Yasuo Nara, Hiroyuki Ota, Toshihide Nabatame, Akira Toriumi

    2007 SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY, DIGEST OF TECHNICAL PAPERS  2007年 

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    開催年月日: 2007年

    記述言語:英語  

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  • Si表面量子化層中のドーパント不純物電荷の考慮によるフラットバンド電圧の精密評価

    安田直樹, 太田裕之, 堀川剛, 鳥海明, 田村泰之

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2006年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Mechanism of gradual increase of gate current in high-k gate dielectrics and its application to reliability assessment

    Kenji Okada, Tsuyoshi Horikawa, Hideki Satake, Hiroyuki Ota, Arito Ogawa, Toshihide Nabatame, Akira Toriumi

    2006 IEEE INTERNATIONAL RELIABILITY PHYSICS SYMPOSIUM PROCEEDINGS - 44TH ANNUAL  2006年 

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    開催年月日: 2006年

    記述言語:英語  

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  • Impact of Initial Traps on TDDB and NBTI Reliabilities in High-k Gate Dielectrics

    Kenji OKADA, Hiroyuki OTA, Tsuyoshi HORIKAWA, Masaru KADOSHIMA, Arito OGAWA, Toshihide NABATAME, Akira TORIUM

    SSDM  2006年 

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    開催年月日: 2006年

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  • キャリア分離法を用いたhigh-k stackゲート絶縁膜のキャリア伝導及び絶縁性劣化機構の解析

    水林亘, 安田直樹, 岡田健治, 太田裕之, 堀川剛, 岩本邦彦, 生田目俊秀, 佐竹秀喜, 鳥海明, 鳥海明

    電気学会電子材料研究会資料  2005年7月 

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    開催年月日: 2005年7月

    記述言語:英語  

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    その他リンク: http://orcid.org/0000-0002-0084-0654

  • HfAlOX/SiO2ゲート絶縁膜における絶縁破壊機構

    岡田健治, 水林亘, 安田直樹, 佐竹秀喜, 太田裕之, 門島勝, 富永浩二, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2005年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Quantitative analysis of contribution of initial traps to breakdown in HfAlOX/SiO2 stacked gate dielectrics

    K Okada, H Ota, W Mizubayashi, H Satake, A Ogawa, K Iwamoto, T Horikawa, T Nabatame, A Toriumi

    2005 Symposium on VLSI Technology, Digest of Technical Papers  2005年 

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    開催年月日: 2005年

    記述言語:英語  

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  • Low frequency noise characteristics in HfAlOx/SiO2 n-mosfets

    T. Horikawa, N. Yasuda, W. Mizubayashi, K. Iwamoto, K. Tominaga, K. Akiyama, K. Yamamoto, H. Hisamatsu, H. Ota, T. Nabatame, A. Toriumi, A. Toriumi

    Proceedings - Electrochemical Society  2004年10月 

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    開催年月日: 2004年10月

    Low frequency noise (LFN) characteristics in n-MOSFETs with HfAlO x/SiO2 gate stacks were investigated. The effects of the high-k layer and SiO2 interface layer (IL) thicknesses on LFN were evaluated. It was found that the input-referred voltage noise power (S Vg) of 'high-k MOSFETs' was one order of magnitude larger than that of 'SiO2 MOSFETs' for a given surface carrier density (N s), and was approximately proportional to Ns 2 in the higher Ns region. The SVg vs. Ns plots of MOSFETs with 2.9 nm of HfAlOx on SiO2 ILs with thicknesses of 1.3 nm, 1.6 nm, and 2.3 nm could be expressed by a single empirical curve. The nature of the dependence of SVg on N s suggests that the mobility fluctuation term in the unified model contributes to the LFN as well as the number fluctuation term, indicating that the oxide trap density Nt(E) around the quasi-Fermi level is about 2×1018 cm-3eV-1 near the interface. In addition, the dispersive dielectric relaxation in the high-k dielectric was examined as an extra source of LFN in high-k MOSFETs. It is likely that relaxation-induced noise (RIN) partly contributes to the LFN.

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    その他リンク: http://orcid.org/0000-0002-0084-0654

  • Degradation Mechanism of HfAlO_x/SiO_2 Stacked Gate Dielectric Films through Transient and Steady State Leakage Current Analysis

    OKADA Kenji, MIZUBAYASHI Wataru, YASUDA Naoki, OTA Hiroyuki, TOMINAGA Koji, IWAMOTO Kunihiko, HORIKAWA Tsuyoshi, YAMAMOTO Katsuhiko, HISAMATSU Hirokazu, SATAKE Hideki, NABATAME Toshihide, TORIUMI Akira

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials  2004年9月 

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    開催年月日: 2004年9月

    記述言語:英語  

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  • 堆積温度上昇によるMACVD HfO2膜のフッ酸エッチング速度の急激な低下

    藤井真治, 宮田典幸, 右田真司, 堀川剛, 鳥海明

    電子情報通信学会技術研究報告  2004年6月 

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    開催年月日: 2004年6月

    記述言語:日本語  

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  • 堆積温度上昇によるMOCVD HfO_2膜のフッ酸エッチング速度の急激な低下(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)

    藤井 眞治, 宮田 典幸, 右田 真司, 堀川 剛, 鳥海 明

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス  2004年6月 

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    開催年月日: 2004年6月

    記述言語:日本語  

    CVD法、ALD法等でHf0_2膜を堆積する場合、膜構造は堆積温度に強く依存することが知られている。この構造は電気特性に影響を与える可能性があるため、膜構造を評価することは、Hf0_2膜をデバイスヘ適用する上で重要である。また、Hf0_2膜のフッ酸エッチング速度は、非晶質と結晶構造とでは大きく異なることが知られている。この速度差を利用すると、フッ酸処理によってHf0_2腹中の結晶だけを選択的に残すことができる。本研究では、フッ酸エッチングとXPS、AFM、TEMを組み合わせることによって、MOCVD-Hf0_2膜(膜厚約4nm)中の微視的な構造の評価を行い、以下の結論を得た。1)X線回折法では、結晶性が不明瞭である低温(T_s≦450℃)で堆積したHf0_2膜であっても、非晶質とナノスケールの微結晶粒が混在している。2)Hf0_2膜のウェットエッチング過程は非晶質の溶解とその後に続く微結晶粒のリフトオフによって進行する。3)微結晶粒密度は堆積温度に対して指数関数的に増加する。

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  • Poly‐Si/High‐k界面を持つMIS構造に特有な非飽和C‐V特性

    安田直樹, 岩本邦彦, 富永浩二, 太田裕之, 久松裕和, 秋山浩二, 生田目俊秀, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • BClx+,SiClx+イオン照射によるHfO2エッチング反応のエネルギー依存性

    唐橋一浩, 三瀬信行, 山岸信久, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • フルシリサイドNiSiメタルゲート電極におけるドーパントの効果

    生田目俊秀, 門島勝, 山本克彦, 大野守史, 三瀬信行, 秋山浩二, 岩本邦彦, 富永浩二, 堀川剛

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 薄いHfO2膜の熱分解過程で観察される二次元ボイド成長機構のモデル化

    宮田典幸, 市川昌和, 生田目俊秀, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • HfAlOx(N)MOSFETにおける電子と正孔の散乱機構の違い

    太田裕之, 久松裕和, 岩本邦彦, 富永浩二, 水林亘, 安田直樹, 大野守史, 堀川剛, 生田目俊秀

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • LL‐D&A法を用いたHfAlOX(N)ゲートスタック技術

    大野守史, 堀川剛, 生田目俊秀, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • HfO2上へのMOCVD法によるモノレイヤーSiO2形成

    右田真司, 藤井真治, 宮田典幸, XUAN Y, 山本克彦, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • HfAlOx/SiO2ゲートMOSFETにおけるキャリア分離法用いたリーク電流解析

    水林亘, 安田直樹, 久松裕和, 太田裕之, 富永浩二, 岩本邦彦, 山本克彦, 堀川剛, 生田目俊秀

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 成膜温度上昇によるCVD HfO2膜のフッ酸エッチング速度の急激な低下

    藤井真治, 宮田典幸, 右田真司, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • TaNゲート電極の実効仕事関数制御とHfO2膜上でのフェルミレベルピニングの定量化

    秋山浩二, 右田真司, ZHANG L, 三瀬信行, 門島勝, 藤原英明, 大野守史, 堀川剛, 生田目俊秀

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • HfAlOx/SiO2 n‐MOSFETにおける低周波雑音解析

    堀川剛, 安田直樹, 水林亘, 岩本邦彦, 富永浩二, 秋山浩二, 山本克彦, 久松裕和, 太田裕之

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • LL-D&A法を用いたHfAlOX(N)ゲートスタック技術

    大野守史, 堀川剛, 生田目俊秀, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年 

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    開催年月日: 2004年

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  • Model for dielectric breakdown mechanism of HfAlOx/SiO2 stacked gate dielectrics dominated by the generated subordinate carrier injection

    K Okada, W Mizubayashi, N Yasuda, H Satake, H Ota, M Kadoshima, K Tominaga, A Ogawa, K Iwamoto, T Horikawa, T Nabatame, A Toriumi

    IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 2004, TECHNICAL DIGEST  2004年 

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    開催年月日: 2004年

    記述言語:英語  

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  • Carrier separation analysis for clarifying leakage mechanism in unstressed and stressed HfAlO&lt;inf&gt;x&lt;/inf&gt;/SiO&lt;inf&gt;2&lt;/inf&gt; stack dielectric layers

    Wataro Mizubayashi, Naoki Yasuda, Hiroyuki Ota, Hirokazu Hisamatsu, Koji Tominaga, Kunihiko Iwamoto, Katsuhiko Yamamoto, Tsuyoshi Horikawa, Toshihide Nabatame, Akira Toriumi

    IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings  2004年  Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

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    開催年月日: 2004年

    記述言語:英語  

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  • Poly-Si/High-k界面を持つMIS構造に特有な非飽和C-V特性

    安田直樹, 岩本邦彦, 富永浩二, 太田裕之, 久松裕和, 秋山浩二, 生田目俊秀, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年 

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    開催年月日: 2004年

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  • Low Frequency Noise Characterization in HfAlOx/SiO2 n-MOSFETs

    2004年  Electrochemical Society Proceeding

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    開催年月日: 2004年

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  • HfAlOx/SiO2 n-MOSFETにおける低周波雑音解析

    堀川剛, 安田直樹, 水林亘, 岩本邦彦, 富永浩二, 秋山浩二, 山本克彦, 久松裕和, 太田裕之

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2004年 

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    開催年月日: 2004年

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  • 五酸化二窒素類縁構造をもつ硝酸ハフニウム

    峠坂雅美, 田中礼二, 松下叔夫, 西岡孝訓, 木下勇, 生田目俊秀, 堀川剛

    錯体化学討論会講演要旨集  2003年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • Cl+,F+イオン照射によるHfO2薄膜に対するエッチング反応のエネルギー依存性

    唐橋一浩, 山岸信久, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2003年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • HfAlOx又はSiO2ゲート絶縁膜上のTaNゲートエッチング

    山岸信久, 門島勝, 唐橋一浩, 久松裕和, 太田裕之, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2003年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 熱処理によるHfO2膜の構造変化:結晶化に伴う表面周期構造の形成

    宮田典幸, 市川昌和, 生田目俊秀, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2003年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • TaN/HfAlOx/Si MIS構造におけるゲートリーク電流の温度特性

    秋山浩二, 門島勝, 安田直樹, 山本克彦, 富永浩二, 藤原英明, 大野守史, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2003年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • HfO2ゲート絶縁膜の熱的安定性―界面層の成長およびシリサイドの形成―

    宮田典幸, KUNDU M, 市川昌和, 生田目俊秀, 堀川剛, 鳥海明

    電子情報通信学会技術研究報告  2003年8月 

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    開催年月日: 2003年8月

    記述言語:日本語  

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  • HfO_2ゲート絶縁膜の熱的安定性 : 界面層の成長およびシリサイドの形成(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))

    宮田 典幸, Kundu Manisha, 市川 昌和, 生田目 俊秀, 堀川 剛, 鳥海 明

    電子情報通信学会技術研究報告. ICD, 集積回路  2003年8月 

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    開催年月日: 2003年8月

    記述言語:日本語  

    薄いHfO_2膜の熱的安定性(界面層の成長、シリサイドの形成)について、複合分析によって得られた実験結果を基に考察した。界面層の成長は、熱処理雰囲気中のO_2がシリコン基板を酸化する反応であり、微量なO_2の混入によっても進行することが明らかになった。800℃で熱処理を行う場合、界面層の増加を抑えるためには、10^<-7> Torr程度の高真空またはそれに相当する清浄な雰囲気が必要となる。また、極薄のAl_2O_3キャップ層をHfO_2膜上に形成することで、HfO_2膜への酸素の拡散を遅らせることができ、界面層の抑制に対して効果的であることを提案した。シリサイドの形成は、HfO_2膜の局所的な熱分解(ボイド形成)が原因であり、900℃以上で顕著になることがわかった。HfO_2膜中に形成されるボイドの密度は1000cm^<-2>以下と少ないが、HfO_2膜をULSIデバイスへ適用するうえで問題となる可能性がある。

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  • HfO_2ゲート絶縁膜の熱的安定性 : 界面層の成長およびシリサイドの形成

    宮田 典幸, Kundu Manisha, 市川 昌和, 生田目 俊秀, 堀川 剛, 鳥海 明

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス  2003年8月  一般社団法人電子情報通信学会

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    開催年月日: 2003年8月

    記述言語:日本語  

    薄いHfO_2膜の熱的安定性(界面層の成長、シリサイドの形成)について、複合分析によって得られた実験結果を基に考察した。界面層の成長は、熱処理雰囲気中のO_2がシリコン基板を酸化する反応であり、微量なO_2の混入によっても進行することが明らかになった。800℃で熱処理を行う場合、界面層の増加を抑えるためには、10^<-7> Torr程度の高真空またはそれに相当する清浄な雰囲気が必要となる。また、極薄のAl_2O_3キャップ層をHfO_2膜上に形成することで、HfO_2膜への酸素の拡散を遅らせることができ、界面層の抑制に対して効果的であることを提案した。シリサイドの形成は、HfO_2膜の局所的な熱分解(ボイド形成)が原因であり、900℃以上で顕著になることがわかった。HfO_2膜中に形成されるボイドの密度は1000cm^<-2>以下と少ないが、HfO_2膜をULSIデバイスへ適用するうえで問題となる可能性がある。

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  • LL-D&A 法で作製した HfAIOx 膜の物性と電気特性

    生田目 俊秀, 岩本 邦彦, 富永 浩二, 安田 哲二, 太田 裕之, 久松 裕和, 安田 直樹, 水林 亘, 堀川 剛, 鳥海 明

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス  2003年6月  一般社団法人電子情報通信学会

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    開催年月日: 2003年6月

    記述言語:日本語  

    Layer-by-Layer Deposition & Annealing(LL-D&A)法で作製したHfAlO_x膜の物性及び電気特性について報告する。先ず、LL-D&A法における膜の緻密化処理するRTA工程は、HfAlO_x膜からの不純物除去結果より、約1.8nm以下の膜厚で挿入することが効果的であることが分った。HfAlO_x膜において、通常のALD法とRTAを組合せた方法とLL-D&A法を比べると物性及び電気特性に大きな相違が認められた。SIMS分析より、D&A(O_2)及びD&A(NH_3)で作製したHfAlO_x膜中の残留炭素は、通常のALD+RTA法で作製した膜に比べて少なくとも50%以上除去できることが分った。D&A(O_2)及びD&A(NH_3)で作製したHfAlO_x膜のC-V特性より、ビステレシスを約-15mVと非常に小さくすることができた。しかも、両者のリーク電流密度は、V_<FB>-1Vの条件で約5×10^<-3>A/cm^2以下と小さかった。LL-D&A法は、通常のALD+RTA法に比べて、膜の緻密化、不純物除去及びビステレシスの電気特性で優れていることが分った。

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  • LL-D&A法で作製したHfAlO_x膜の物性と電気特性(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)

    生田目 俊秀, 岩本 邦彦, 富永 浩二, 安田 哲二, 太田 裕之, 久松 裕和, 安田 直樹, 水林 亘, 堀川 剛, 鳥海 明

    電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス  2003年6月 

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    開催年月日: 2003年6月

    記述言語:日本語  

    Layer-by-Layer Deposition & Annealing(LL-D&A)法で作製したHfAlO_x膜の物性及び電気特性について報告する。先ず、LL-D&A法における膜の緻密化処理するRTA工程は、HfAlO_x膜からの不純物除去結果より、約1.8nm以下の膜厚で挿入することが効果的であることが分った。HfAlO_x膜において、通常のALD法とRTAを組合せた方法とLL-D&A法を比べると物性及び電気特性に大きな相違が認められた。SIMS分析より、D&A(O_2)及びD&A(NH_3)で作製したHfAlO_x膜中の残留炭素は、通常のALD+RTA法で作製した膜に比べて少なくとも50%以上除去できることが分った。D&A(O_2)及びD&A(NH_3)で作製したHfAlO_x膜のC-V特性より、ビステレシスを約-15mVと非常に小さくすることができた。しかも、両者のリーク電流密度は、V_<FB>-1Vの条件で約5×10^<-3>A/cm^2以下と小さかった。LL-D&A法は、通常のALD+RTA法に比べて、膜の緻密化、不純物除去及びビステレシスの電気特性で優れていることが分った。

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  • CFX+(X=1‐3)質量分離イオンビーム照射によるHfO2薄膜のエッチング特性

    唐橋一浩, 山岸信久, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2003年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • UV照射を用いたHfO2薄膜のウェットエッチング

    藤井真治, 森田行則, XUAN Y, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2003年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • TiNゲートエッチングにおけるエッチング表面ラフネスとその増加現象‐マスク材及びエッチングガスの影響

    山岸信久, 唐橋一浩, PARK J W, 宮田典幸, 久松裕和, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2003年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Comparative study of carrier mobility and threshold voltage between N- and p-MOSFETs in TaN gate CMOS with EOT = 1.5-2 nm HfAlOx

    H. Ota, H. Hisamatsu, N. Yasuda, W. Mizubayashi, M. Ohno, K. Iwamoto, K. Tominaga, M. Kadoshima, N. Yamagishi, K. Akiyama, K. Yamamoto, T. Nabatame, T. Horikawa, A. Toriumi

    Extended Abstracts of International Workshop on Gate Insulator, IWGI 2003  2003年  Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.

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    開催年月日: 2003年

    記述言語:英語  

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  • Design and Proof of High Quality HfAlOx Film Formation for MOSCAPs and nMOSFETs through Layer-by-Layer Deposition and Annealing Process

    T. Nabatame, K. Iwamoto, H. Qta, K. Tominaga, H. Hisamatsu, T. Yasuda, K. Yamamoto, W. Mizubayashi, Y. Morita, N. Yasuda, M. Ohno, T. Horikawa, A. Toriumi

    Digest of Technical Papers - Symposium on VLSI Technology  2003年 

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    開催年月日: 2003年

    記述言語:英語  

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  • CFX+(X=1-3)質量分離イオンビーム照射によるHfO2薄膜のエッチング特性

    唐橋一浩, 山岸信久, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2003年 

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    開催年月日: 2003年

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  • TiNゲートエッチングにおけるエッチング表面ラフネスとその増加現象-マスク材及びエッチングガスの影響

    山岸信久, 唐橋一浩, PARK J W, 宮田典幸, 久松裕和, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2003年 

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    開催年月日: 2003年

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  • 18Oアイソトープを用いたHfO2とAl2O3薄膜の酸素拡散の比較

    生田目俊秀, 安田哲二, 西沢正泰, 池田稔, 堀川剛, 鳥海明

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2002年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 揮発性ハフニウム材料の設計開発

    木下勇, 松下叔夫, 西岡孝訓, 田中礼二, 磯辺清, 峠坂雅美, 矢野聡宏, 生田目俊秀, 堀川剛

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2002年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 高誘電体薄膜生成原料としてのHf塩の探索指針と設計・合成

    木下勇, 松下叔夫, 田中礼二, 矢野聡宏, 峠坂雅美, 西岡孝訓, 磯辺清, 生田目俊秀, 堀川剛

    錯体化学討論会講演要旨集  2002年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • Comparison Studies on Oxygen Diffusion Coefficients for ALD-Al2O3 and PLD-HfO2 Films using 18O Isotope

    Toshihide Nabatame, Tetsuji Yasuda, Masayasu Nishizawa, Minoru Ikeda, Tsuyoshi Horikawa, Akira Torium

    SSDM  2002年 

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    開催年月日: 2002年

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  • 溶液化気CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜反応機構に関する検討(6)

    山向幹雄, 川原孝昭, 多留谷政良, 堀川剛, 芝野照夫

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2000年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜における成膜過程の検討

    川原孝昭, 山向幹雄, 堀川剛, 谷村純二, 多留谷政良, 芝野照夫

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2000年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3膜の成長安性性(2)

    堀川剛, 山向幹雄, 川原孝昭, 多留谷政良, 芝野照夫

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  2000年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜反応機構に関する検討(5)

    山向幹雄, 多留谷政良, 川原孝昭, 堀川剛, 大森達夫

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2000年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3膜の成膜安定性

    堀川剛, 山向幹雄, 多留谷政良, 川原孝昭, 大森達夫

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2000年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Ru電極上での溶液気化CVD‐(Ba,Sr)TiO3成膜時の原料流量比の最適化

    多留谷政良, 佐藤剛彦, 山向幹雄, 川原孝昭, 堀川剛, 黒岩丈晴, 芝野照夫, 大森達夫

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2000年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Ru電極上での溶液気化CVD-(Ba,Sr)TiO3成膜時の原料流量比の最適化

    多留谷政良, 佐藤剛彦, 山向幹雄, 川原孝昭, 堀川剛, 黒岩丈晴, 芝野照夫, 大森達夫

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  2000年 

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    開催年月日: 2000年

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  • A new cell technology for the scalable BST capacitor using damascene-formed pedestal electrode with a [Pt-Ir] alloy coating

    H Itoh, Y Tsunemine, A Yutani, T Okudaira, K Kashihara, M Inuishi, M Yamamuka, T Kawahara, T Horikawa, T Ohmori, S Satoh

    2000 SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY, DIGEST OF TECHNICAL PAPERS  2000年 

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    開催年月日: 2000年

    記述言語:英語  

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  • Conformal Step Coverage of (Ba,Sr)TiO_3 Films Prepared by Liquid Source CVD Using Ti(t-BuO)_2(DPM)_2

    KAWAHARA Takaaki, MATSUNO Shigeru, YAMAMUKA Mikio, TARUTANI Masayoshi, SATO Takehiko, HORIKAWA Tsuyoshi, UCHIKAWA Fusaoki, ONO Kouichi

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials  1998年9月 

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    開催年月日: 1998年9月

    記述言語:英語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜のBa/(Ba+Sr)組成比依存性

    多留谷政良, 山向幹雄, 川原孝昭, 堀川剛, 斧高一

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  1998年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜反応機構に関する検討 (4)

    山向幹雄, 多留谷政良, 川原孝昭, 堀川剛, 斧高一

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1998年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜の下地依存性

    多留谷政良, 山向幹雄, 平野則子, 川原孝昭, 堀川剛, 斧高一

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1998年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • (Ba,Sr)TiO3 capacitor technology for Gbit-scale DRAMs

    K Ono, T Horikawa, T Shibano, N Mikami, T Kuroiwa, T Kawahara, S Matsuno, E Uchikawa, S Satoh, H Abe

    INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING 1998 - TECHNICAL DIGEST  1998年 

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    開催年月日: 1998年

    記述言語:英語  

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  • DC電圧及び動的電圧印加による(Ba,Sr)TiO3薄膜の信頼性評価

    堀川剛, 多留谷政良, 山向幹雄, 川原孝昭, 斧高一

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  1997年10月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜反応機構に関する検討 (3)

    山向幹雄, 川原孝昭, 堀川剛, 斧高一

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  1997年10月 

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    記述言語:日本語  

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  • Mechanisms of Synchrotron X-Ray Irradiation-Induced Damage in (Ba, Sr)TiO_3 Capacitors

    TARUTANI Masayoshi, TANIMURA Junji, HORIKAWA Tsuyoshi, SUITA Muneyoshi, KAWAHARA Takaaki, YAMAMUKA Mikio, SUMITANI Hiroaki, ONO Kouichi

    Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials  1997年9月 

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    開催年月日: 1997年9月

    記述言語:英語  

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  • CVD法による高誘電率キャパシタ形成技術 (特集"半導体") -- (基盤技術)

    川原 孝昭, 山向 幹雄, 堀川 剛

    三菱電機技報  1997年3月  三菱電機エンジニアリング

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    開催年月日: 1997年3月

    記述言語:日本語  

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  • BSTキャパシタの耐熱性

    堀川剛, 黒岩丈晴, 山向幹夫, 蒔田哲郎, 川原孝昭, 芝野照夫, 三上登, 斧高一

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1997年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • SR照射した(Ba,Sr)TiO3薄膜の特性 [II]

    多留谷政良, 堀川剛, 吹田宗義, 川原孝昭, 炭谷博昭, 斧高一

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1997年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 溶液気化CVD法による(Ba,Sr)TiO3成膜反応機構に関する検討 (2)

    山向幹雄, 川原孝昭, 堀川剛, 斧高一

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1997年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 高誘電率(Ba,Sr)TiO3薄膜の結晶性と誘電特性 招待

    堀川剛

    応用物理学会結晶工学分科会研究会テキスト  1997年1月 

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    開催年月日: 1997年1月

    記述言語:日本語   会議種別:公開講演,セミナー,チュートリアル,講習,講義等  

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  • 高誘電率材料(Ba,Sr)TiO_3を用いた1G DRAM対応キャパシタ技術

    堀川 剛, 結城 昭正, 芝野 照夫, 川原 孝昭, 蒔田 哲郎, 黒岩 丈晴, 山向 幹雄, 大森 達夫, 三上 登, 斧 高一

    電子情報通信学会論文誌. C-I, エレクトロニクス, I-光・波動  1996年9月  一般社団法人電子情報通信学会

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    開催年月日: 1996年9月

    記述言語:日本語  

    (Ba,Sr)TiO_3 [BST]薄膜を誘電体膜とする厚膜スタックトキャパシタの開発を目的として,溶液気化CVD法によるBST薄膜の成膜,およびRuのキャパシタの電極への適用を検討した.その結果,低温での成膜と結晶化を繰り返す2ステップ成膜プロセスにより,Ru電極上で平滑な膜表面を有し,電極側面への被覆率の高いBST薄膜を成膜できることがわかった.また,Ruは,O_2系プラズマによりマスク側壁への膜付着のない加工ができること,BST堆積工程で酸化されず安定であること等から高誘電率キャパシタの電極材料に適していることが明らかとなった.Ru電極上に成膜した厚さ25nmのBST薄膜の電気特性として,2×10^&lt;-8&gt;A/cm^2程度のリーク電流密度と0.5nmのシリコン酸化膜換算膜厚が得られた.更に,ストレージ電極寸法0.24μm×0.60μm,高さ0.20μmの微細なスタックトキャパシタを試作し,1Gbit DRAMメモリセルへの適用性を検討した.

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  • (Ba,Sr)TiO3薄膜の誘電緩和

    堀川剛, 蒔田哲郎, 黒岩丈晴, 三上登

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1995年9月 

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    開催年月日: 1995年9月

    記述言語:英語  

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  • RuO2/Ru電極上に形成したBSTキャパシタの電気的特性

    蒔田哲郎, 常峰美和, 堀川剛, 黒岩丈晴, 三上登

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  1995年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • 高速成膜した(BaxSr1-x)TiO3スパッタ膜の誘電特性

    黒岩丈晴, 堀川剛, 蒔田哲郎, 三上登, 難波敬典, 森暁, 内山直樹, 塩野一郎, 新行内隆行

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  1995年8月 

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    記述言語:日本語  

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  • (Ba,Sr)TiO3薄膜の誘電緩和

    堀川剛, 蒔田哲郎, 黒岩丈晴, 三上登

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1995年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • SR照射した(Ba,Sr)TiO3薄膜の特性

    堀川剛, 炭谷博昭, 丸本健二, 三上登

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1995年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Novel stacked capacitor technology for 1 Gbit DRAMs with CVD-(Ba,Sr)TiO3 thin films on a thick storage node of Ru

    A Yuuki, M Yamamuka, T Makita, T Horikawa, T Shibano, N Hirano, H Maeda, N Mikami, K Ono, H Ogata, H Abe

    INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING, 1995 - IEDM TECHNICAL DIGEST  1995年 

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    開催年月日: 1995年

    記述言語:英語  

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  • Memory cell capacitor with BaxSr1-xTiO3(BST) film for advanced DRAMs

    Y. Ohno, T. Horikawa, H. Shinkawata, K. Kashihara, T. Kuroiwa, T. Okudaira, Y. Hashizume, K. Fukumoto, T. Eimori, T. Shibano, K. Arimoto, H. Itoh, T. Nishimura, H. Miyoshi

    Digest of Technical Papers - Symposium on VLSI Technology  1994年12月 

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    開催年月日: 1994年12月

    The process technology of the simple planer stacked cell with the high-dielectric constant BST films was developed. The memory cell capacitor with the high-dielectric constant BST film was applied to the fully functional 4MDRAM. The memory cell capacitors have good distribution of the leakage-current. Good device performance for fabricated 4MDRAM with BST film capacitors indicates the compatibility of BST film technology with the full DRAM fabrication process.

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    その他リンク: http://orcid.org/0000-0002-0084-0654

  • RFスパッタリング法による(BaxSr1-x)TiO3薄膜の誘電特性

    黒岩丈晴, 堀川剛, 蒔田哲郎, 常峰美和, 上原康, 三上登, 佐藤一直

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1994年9月 

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    開催年月日: 1994年9月

    記述言語:英語  

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  • スパッタ法による(BaxSr1-x)TiO3薄膜の誘電特性 (III)

    常峰美和, 黒岩丈晴, 堀川剛, 上原康, 三上登, 佐藤一直

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  1994年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • RFスパッタリング法による(BaxSr1-x)TiO3薄膜の誘電特性

    黒岩丈晴, 堀川剛, 蒔田哲郎, 常峰美和, 上原康, 三上登, 佐藤一直

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1994年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • Newly designed planar stacked capacitor cell with high dielectric constant film for 256Mbit DRAM

    T. Eimori, Y. Ohno, H. Kimura, J. Matsufusa, S. Kishimura, A. Yoshida, H. Sumitani, T. Maruyama, Y. Hayashide, K. Morizumi, T. Katayama, M. Asakura, T. Horikawa, T. Shibano, H. Itoh, K. Sato, K. Namoba

    Technical Digest - International Electron Devices Meeting  1993年 

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    開催年月日: 1993年

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  • (BaXSr1-X)TiO3膜の比誘電率と膜構造に及ぼす基板温度の影響

    堀川剛, 蒔田哲郎, 谷村純二, 片岡正行, 三上登, 佐藤一直, 布下正宏

    応用物理学会学術講演会講演予稿集  1992年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 光書込型強誘電性液晶ライトバルブ (5) エッジ抽出記録のメカニズム

    鹿井正博, 堀川剛, 田畑伸, 仲嶋一, 西和郎

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1992年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 光書込型強誘電性液晶ライトバルブ (4) 水素プラズマ照射による画素広がりの抑制

    仲嶋一, 鹿井正博, 西和郎, 堀川剛, 田畑伸

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1992年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 強誘電性液晶ライトバルブ

    加峯茂行, 田畑伸, 増見達生, 水沼昌也, 堀川剛, 仲嶋一, 西和郎

    液晶討論会講演予稿集  1991年9月 

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    記述言語:日本語  

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  • 光書込型強誘電性液晶ライトバルブ (3) レーザアドレス液晶ライトバルブ投射式ディスプレイ

    仲嶋一, 鹿井正博, 田畑伸, 堀川剛, 水沼昌也, 木佐木淳子, 西和郎

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1991年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 光書込型強誘電性液晶ライトバルブ (2) エッジ強調記録

    鹿井正博, 仲嶋一, 田畑伸, 堀川剛, 加峯茂行, 西和郎

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1991年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 光書込型強誘電性液晶ライトバルブ (1) SiO2/a‐Si:Hを光伝導層とする液晶ライトバルブ~

    堀川剛, 田畑伸, 仲嶋一, 増見達生, 三上登, 高橋和久

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1991年3月 

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    記述言語:日本語  

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  • 光書込型強誘電性液晶ライトバルブ (1) SiO2/a-Si:Hを光伝導層とする液晶ライトバルブ~

    堀川剛, 田畑伸, 仲嶋一, 増見達生, 三上登, 高橋和久

    応用物理学関係連合講演会講演予稿集  1991年 

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    開催年月日: 1991年

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産業財産権

  • 光半導体素子及びその製造方法

    堀川 剛, 村尾 覚志, 牛田 淳

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    出願人:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2021-055097  出願日:2021年3月

    特許番号/登録番号:特許第6970845号  登録日:2021年11月 

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  • 光半導体素子及びその製造方法

    堀川 剛, 村尾 覚志, 牛田 淳

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    出願人:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2021-055097  出願日:2021年3月

    公開番号:特開2022-152358  公開日:2022年10月

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  • 光回路素子、モニタリングシステム及びモニタリング方法

    堀川 剛, 岡山 秀彰, 志村 大輔, 太縄 陽介, 八重樫 浩樹

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    出願人:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所, 沖電気工業株式会社

    出願番号:特願2020-201647  出願日:2020年12月

    公開番号:特開2022-089323  公開日:2022年6月

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  • 光回路素子、モニタリングシステム及びモニタリング方法

    堀川 剛, 岡山 秀彰, 志村 大輔, 太縄 陽介, 八重樫 浩樹

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    出願人:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所, 沖電気工業株式会社

    出願番号:特願2020-201647  出願日:2020年12月

    特許番号/登録番号:特許第6892963号  登録日:2021年6月 

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  • 電気光学変調器

    藤方 潤一, 最上 徹, 中村 隆宏, 堀川 剛

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    出願人:日本電気株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2017-071594  出願日:2017年3月

    公開番号:特開2018-173539  公開日:2018年11月

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  • 電気光学変調器

    藤方 潤一, 最上 徹, 中村 隆宏, 堀川 剛

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    出願人:日本電気株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2017-071594  出願日:2017年3月

    公開番号:特開2018-173539  公開日:2018年11月

    特許番号/登録番号:特許第6992961号  登録日:2021年12月 

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  • 光導波路回路及びその製造方法

    堀川 剛, 最上 徹, 木下 啓藏

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    出願人:国立研究開発法人産業技術総合研究所, 日本電気株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2016-171424  出願日:2016年9月

    公開番号:特開2018-036575  公開日:2018年3月

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  • 半導体装置およびその製造方法

    綿貫 真一, 満生 彰, 稲田 充郎, 最上 徹, 堀川 剛, 木下 啓藏

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    出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2015-174393  出願日:2015年9月

    公開番号:特開2017-049507  公開日:2017年3月

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  • 半導体装置およびその製造方法

    宇佐美 達矢, 山本 悦章, 坂本 圭司, 最上 徹, 堀川 剛, 木下 啓藏

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    出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2015-174295  出願日:2015年9月

    公開番号:特開2017-049504  公開日:2017年3月

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  • 半導体装置の製造方法

    宇佐美 達矢, 山本 悦章, 坂本 圭司, 最上 徹, 堀川 剛, 木下 啓藏

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    出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2015-174295  出願日:2015年9月

    公開番号:特開2017-049504  公開日:2017年3月

    特許番号/登録番号:特許第6533131号  登録日:2019年5月 

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  • 半導体装置およびその製造方法

    宇佐美 達矢, 坂本 圭司, 山本 悦章, 綿貫 真一, 若林 勝, 最上 徹, 堀川 剛, 木下 啓藏

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    出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2015-174294  出願日:2015年9月

    公開番号:特開2017-049503  公開日:2017年3月

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  • 半導体装置およびその製造方法

    宇佐美 達矢, 坂本 圭司, 山本 悦章, 綿貫 真一, 若林 勝, 最上 徹, 堀川 剛, 木下 啓藏

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    出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2015-174294  出願日:2015年9月

    公開番号:特開2017-049503  公開日:2017年3月

    特許番号/登録番号:特許第6600513号  登録日:2019年10月 

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  • 光デバイス

    奥村 滋一, 最上 徹, 木下 啓藏, 堀川 剛, 藤方 潤一

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    出願人:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2015-150525  出願日:2015年7月

    公開番号:特開2017-034021  公開日:2017年2月

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  • 光デバイス

    奥村 滋一, 最上 徹, 木下 啓藏, 堀川 剛, 藤方 潤一

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    出願人:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2015-150525  出願日:2015年7月

    公開番号:特開2017-034021  公開日:2017年2月

    特許番号/登録番号:特許第6811523号  登録日:2020年12月 

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  • 光素子の製造方法及び光素子

    小野 英輝, 堀川 剛, 平山 直紀

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    出願人:沖電気工業株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2014-124662  出願日:2014年6月

    公開番号:特開2015-084081  公開日:2015年4月

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  • 光素子の製造方法及び光素子

    小野 英輝, 堀川 剛, 平山 直紀

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    出願人:沖電気工業株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

    出願番号:特願2014-124662  出願日:2014年6月

    公開番号:特開2015-084081  公開日:2015年4月

    公表日:2015年9月

    特許番号/登録番号:特許第5773552号  登録日:2015年7月  発行日:2015年7月

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  • 電子ビーム露光方法

    堀川 剛, 平山 直紀

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    出願人:独立行政法人産業技術総合研究所

    出願番号:特願2013-034950  出願日:2013年2月

    公開番号:特開2014-165334  公開日:2014年9月

    特許番号/登録番号:特許第6074801号  登録日:2017年1月  発行日:2017年1月

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  • 電子ビーム露光方法

    堀川 剛, 平山 直紀

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    出願人:独立行政法人産業技術総合研究所

    出願番号:特願2013-034950  出願日:2013年2月

    公開番号:特開2014-165334  公開日:2014年9月

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  • 光導波路及びその製造方法

    埜口 良二, 堀川 剛, 三浦 真

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    出願人:独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社日立製作所

    出願番号:特願2012-180026  出願日:2012年8月

    公開番号:特開2014-038183  公開日:2014年2月

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  • トンネルトランジスタの製造方法

    森 貴洋, 堀川 剛

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    出願人:独立行政法人産業技術総合研究所

    出願番号:特願2011-067536  出願日:2011年3月

    公開番号:特開2012-204583  公開日:2012年10月

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  • 半導体装置の製造方法および基板処理装置

    小川 有人, 堀川 剛

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    出願人:株式会社日立国際電気, 独立行政法人産業技術総合研究所

    出願番号:特願2005-054717  出願日:2005年2月

    公開番号:特開2006-245047  公開日:2006年9月

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  • 半導体装置およびその製造方法

    生田目 俊秀, 鳥海 明, 堀川 剛, 岩本 邦彦, 富永 浩二

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    出願人:株式会社ルネサステクノロジ, 独立行政法人産業技術総合研究所, ローム株式会社, 株式会社堀場製作所

    出願番号:特願2004-130834  出願日:2004年4月

    公開番号:特開2005-317583  公開日:2005年11月

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  • 揮発性原料を用いたMIS型トランジスタ素子およびそれを備えた半導体装置

    生田目 俊秀, 堀川 剛, 木下 勇, 磯辺 清

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    出願人:株式会社日立製作所, 三菱電機株式会社

    出願番号:特願2002-275532  出願日:2002年9月

    公開番号:特開2004-111832  公開日:2004年4月

    特許番号/登録番号:特許第3930407号  登録日:2007年3月  発行日:2007年3月

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  • 揮発性原料を用いたMIS型トランジスタ素子およびそれを備えた半導体装置

    生田目 俊秀, 堀川 剛, 木下 勇, 磯辺 清

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    出願人:株式会社日立製作所, 三菱電機株式会社

    出願番号:特願2002-275532  出願日:2002年9月

    公開番号:特開2004-111832  公開日:2004年4月

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  • 化学気相成長法用液体原料、化学気相成長法による膜形成方法、および、化学気相成長装置

    堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2001-273624  出願日:2001年9月

    公開番号:特開2003-082464  公開日:2003年3月

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  • 半導体装置及び半導体装置の製造方法

    堀川 剛

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    出願人:ルネサスエレクトロニクス株式会社

    出願番号:特願2001-082614  出願日:2001年3月

    公開番号:特開2002-280461  公開日:2002年9月

    特許番号/登録番号:特許第4895430号  登録日:2012年1月  発行日:2012年1月

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  • 半導体装置及び半導体装置の製造方法

    堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2001-082614  出願日:2001年3月

    公開番号:特開2002-280461  公開日:2002年9月

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  • 半導体記憶装置用薄膜キャパシタの製造方法および半導体記憶装置

    多留谷 政良, 山向 幹雄, 堀川 剛, 川原 孝昭, 山田 朗

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2000-322428  出願日:2000年10月

    公開番号:特開2002-134716  公開日:2002年5月

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  • 誘電体薄膜の製造方法およびその製造装置

    多留谷 政良, 山向 幹雄, 川原 孝昭, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2000-164405  出願日:2000年6月

    公開番号:特開2001-342572  公開日:2001年12月

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  • 液体状原料供給装置およびこれを備えた化学気相成長装置、エッチング装置並びに洗浄装置

    川原 孝昭, 山向 幹雄, 堀川 剛, 多留谷 政良, 佐藤 剛彦

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2000-149639  出願日:2000年5月

    公開番号:特開2001-332540  公開日:2001年11月

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  • 液体原料気化装置、半導体装置および半導体装置の製造方法

    山向 幹雄, 川原 孝昭, 多留谷 政良, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2000-083623  出願日:2000年3月

    公開番号:特開2001-274145  公開日:2001年10月

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  • 強誘電体薄膜の製造方法、電子デバイス、および絶縁体用液体原料

    谷奥 正巳, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平11-222230  出願日:1999年8月

    公開番号:特開2001-053071  公開日:2001年2月

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  • 高誘電率薄膜の形成方法および半導体装置の製造方法

    川原 孝昭, 山向 幹雄, 堀川 剛, 多留谷 政良, 佐藤 剛彦, 松野 繁

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平11-166205  出願日:1999年6月

    公開番号:特開2000-353700  公開日:2000年12月

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  • CVD装置およびCVD装置用気化装置

    多留谷 政良, 堀川 剛, 川原 孝昭, 山向 幹雄, 松野 繁, 佐藤 剛彦

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平11-157362  出願日:1999年6月

    公開番号:特開2000-345345  公開日:2000年12月

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  • 化学気相成長装置および半導体装置の製造方法

    山向 幹雄, 川原 孝昭, 多留谷 政良, 堀川 剛, 松野 繁, 佐藤 剛彦

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平11-156301  出願日:1999年6月

    公開番号:特開2000-349078  公開日:2000年12月

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  • CVD原料用気化装置およびこれを用いたCVD装置

    松野 繁, 佐藤 剛彦, 山田 朗, 多留谷 政良, 山向 幹雄, 堀川 剛, 川原 孝昭, 内川 英興

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平11-081499  出願日:1999年3月

    公開番号:特開2000-273639  公開日:2000年10月

    特許番号/登録番号:特許第3823591号  登録日:2006年7月  発行日:2006年7月

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  • CVD原料用気化装置およびこれを用いたCVD装置

    松野 繁, 佐藤 剛彦, 山田 朗, 多留谷 政良, 山向 幹雄, 堀川 剛, 川原 孝昭, 内川 英興

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平11-081499  出願日:1999年3月

    公開番号:特開2000-273639  公開日:2000年10月

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  • 半導体不揮発性記憶装置およびその製造方法

    古川 泰助, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平10-123302  出願日:1998年5月

    公開番号:特開平11-317463  公開日:1999年11月

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  • 高誘電率薄膜形成用CVD装置および高誘電率薄膜の形成方法

    多留谷 政良, 堀川 剛, 川原 孝昭, 山向 幹雄

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平10-094587  出願日:1998年4月

    公開番号:特開平11-297681  公開日:1999年10月

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  • 高誘電率薄膜形成用CVD溶液原料のモニター方法およびその装置

    川原 孝昭, 堀川 剛, 多留谷 政良, 山向 幹雄

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平9-335656  出願日:1997年12月

    公開番号:特開平11-176819  公開日:1999年7月

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  • 半導体記憶装置及びその製造方法

    黒岩 丈晴, 堀川 剛, 三上 登, 蒔田 哲郎

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平9-287062  出願日:1997年10月

    公開番号:特開平10-261772  公開日:1998年9月

    3380373

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  • 化学気相成長装置

    山向 幹雄, 川原 孝昭, 多留谷 政良, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2002-295167  出願日:1997年3月

    公開番号:特開2003-142468  公開日:2003年5月

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  • 化学気相成長装置

    山向 幹雄, 川原 孝昭, 多留谷 政良, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平9-063014  出願日:1997年3月

    公開番号:特開平10-251853  公開日:1998年9月

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  • 半導体装置およびその製造方法

    堀川 剛, 蒔田 哲郎, 黒岩 丈晴, 三上 登, 芝野 照夫

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平8-169761  出願日:1996年6月

    公開番号:特開平10-022469  公開日:1998年1月

    特許番号/登録番号:特許第3396131号  登録日:2003年2月 

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  • 半導体装置およびその製造方法

    堀川 剛, 蒔田 哲郎, 黒岩 丈晴, 三上 登, 芝野 照夫

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平8-169761  出願日:1996年6月

    公開番号:特開平10-022469  公開日:1998年1月

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  • プロセス間相互排除機能を備えたマルチプロセッサ計算機システム

    山内 雅彦, 屋代 寛, 村山 秀樹, 堀川 和雄, 林 剛久, 山田 公稔

     詳細を見る

    出願人:株式会社日立製作所

    出願番号:特願平8-106813  出願日:1996年4月

    公開番号:特開平9-293058  公開日:1997年11月

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  • 半導体装置

    堀川 剛, 常峰 美和, 黒岩 丈晴, 蒔田 哲郎, 三上 登

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平8-043427  出願日:1996年2月

    公開番号:特開平8-340091  公開日:1996年12月

    特許番号/登録番号:特許第3683972号  登録日:2005年6月  発行日:2005年6月

    3683972

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  • 半導体装置及びその製造方法

    堀川 剛, 常峰 美和, 黒岩 丈晴, 蒔田 哲郎, 三上 登

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平8-043427  出願日:1996年2月

    公開番号:特開平8-340091  公開日:1996年12月

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  • 高誘電率薄膜構造、高誘電率薄膜形成方法および高誘電率薄膜形成装置

    川原 孝昭, 山向 幹雄, 蒔田 哲郎, 堀川 剛, 結城 昭正, 芝野 照夫

     詳細を見る

    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平8-025245  出願日:1996年2月

    公開番号:特開平9-219497  公開日:1997年8月

    特許番号/登録番号:特許第3612839号  登録日:2004年11月  発行日:2004年11月

    3512839

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  • 高誘電率薄膜構造、高誘電率薄膜形成方法および高誘電率薄膜形成装置

    川原 孝昭, 山向 幹雄, 蒔田 哲郎, 堀川 剛, 結城 昭正, 芝野 照夫

     詳細を見る

    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平8-025245  出願日:1996年2月

    公開番号:特開平9-219497  公開日:1997年8月

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  • 半導体記憶装置及びその製造方法

    黒岩 丈晴, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 三上 登, 芝野 照夫

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平7-166092  出願日:1995年6月

    公開番号:特開平9-017973  公開日:1997年1月

    特許番号/登録番号:特許第3380373号  登録日:2002年12月  発行日:2002年12月

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  • 半導体記憶装置の製造方法

    黒岩 丈晴, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 三上 登, 芝野 照夫

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平7-166091  出願日:1995年6月

    公開番号:特開平9-017972  公開日:1997年1月

    特許番号/登録番号:特許第3380372号  登録日:2002年12月  発行日:2002年12月

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  • 半導体記憶装置及びその製造方法

    黒岩 丈晴, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 三上 登, 芝野 照夫

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平7-166092  出願日:1995年6月

    公開番号:特開平9-017973  公開日:1997年1月

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  • 半導体記憶装置及びその製造方法

    黒岩 丈晴, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 三上 登, 芝野 照夫

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平7-166091  出願日:1995年6月

    公開番号:特開平9-017972  公開日:1997年1月

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  • コンデンサ

    三上 登, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 佐藤 一直

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平5-212779  出願日:1993年8月

    公開番号:特開平7-066071  公開日:1995年3月

    特許番号/登録番号:特許第3249653号  登録日:2001年11月  発行日:2001年11月

    3249653

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  • コンデンサおよびそれを用いた半導体素子

    三上 登, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 佐藤 一直

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平5-212779  出願日:1993年8月

    公開番号:特開平7-066071  公開日:1995年3月

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  • 半導体素子

    三上 登, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 佐藤 一直

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願2000-082642  出願日:1993年8月

    公開番号:特開2000-299449  公開日:2000年10月

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  • 半導体記憶装置およびその製造方法

    伊藤 博巳, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平5-159372  出願日:1993年6月

    公開番号:特開平7-074325  公開日:1995年3月

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  • 半導体装置およびその製造方法

    伊藤 博巳, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平5-150687  出願日:1993年6月

    公開番号:特開平7-022595  公開日:1995年1月

    特許番号/登録番号:特許第3396131号  登録日:2003年2月  発行日:2003年2月

    3396131

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  • 半導体装置およびその製造方法

    伊藤 博巳, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平5-150687  出願日:1993年6月

    公開番号:特開平7-022595  公開日:1995年1月

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  • 高誘電率キャパシタおよびその製法

    黒岩 丈晴, 本多 俊久, 松野 繁, 木ノ内 伸一, 内川 英興, 渡井 久男, 三上 登, 堀川 剛, 奥平 智仁, 楠見 嘉宏

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平5-079553  出願日:1993年4月

    公開番号:特開平6-290984  公開日:1994年10月

    特許番号/登録番号:特許第3320134号  登録日:2002年6月  発行日:2002年6月

    3320134

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  • 高誘電率キャパシタおよびその製法

    黒岩 丈晴, 本多 俊久, 松野 繁, 木ノ内 伸一, 内川 英興, 渡井 久男, 三上 登, 堀川 剛, 奥平 智仁, 楠見 嘉宏

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平5-079553  出願日:1993年4月

    公開番号:特開平6-290984  公開日:1994年10月

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  • レーザ薄膜形成装置

    春田 健雄, 斧 高一, 若田 仁志, 津田 睦, 斉藤 善夫, 難波 敬典, 児島 一良, 高見 哲也, 鈴木 昭弘, 笹川 智広, 黒田 研一, 大石 敏之, 和田 幸彦, 古川 彰彦, 松井 安次, 結城 昭正, 川原 孝昭, 矢部 秀毅, 古川 泰助, 吉瀬 幸司, 三上 登, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 倉本 一雄, 藤野 直彦, 黒木 洋志, 小蒲 哲夫, 谷村 純二

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平4-345584  出願日:1992年11月

    公開番号:特開平6-172981  公開日:1994年6月

    特許番号/登録番号:特許第3255469号  登録日:2001年11月  発行日:2001年11月

    3255469

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  • レーザ薄膜形成装置

    春田 健雄, 斧 高一, 若田 仁志, 津田 睦, 斉藤 善夫, 難波 敬典, 児島 一良, 高見 哲也, 鈴木 昭弘, 笹川 智広, 黒田 研一, 大石 敏之, 和田 幸彦, 古川 彰彦, 松井 安次, 結城 昭正, 川原 孝昭, 矢部 秀毅, 古川 泰助, 吉瀬 幸司, 三上 登, 堀川 剛, 蒔田 哲郎, 倉本 一雄, 藤野 直彦, 黒木 洋志, 小蒲 哲夫, 谷村 純二

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平4-345584  出願日:1992年11月

    公開番号:特開平6-172981  公開日:1994年6月

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  • 画像輪郭抽出装置

    鹿井 正博, 仲嶋 一, 西 和郎, 堀川 剛, 田畑 伸

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平4-062156  出願日:1992年3月

    公開番号:特開平5-265030  公開日:1993年10月

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  • 液晶表示素子

    堀川 剛, 田畑 伸, 仲嶋 一

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平4-033361  出願日:1992年2月

    公開番号:特開平5-232501  公開日:1993年9月

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  • 光書き込み型空間光変調器及び光相関器

    仲嶋 一, 鹿井 正博, 西 和郎, 田畑 伸, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平3-342774  出願日:1991年12月

    公開番号:特開平5-173169  公開日:1993年7月

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  • 光書込み液晶ライトバルブ及びその書込み方法

    仲嶋 一, 鹿井 正博, 西 和郎, 田畑 伸, 堀川 剛

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願平3-262288  出願日:1991年10月

    公開番号:特開平5-100245  公開日:1993年4月

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  • 薄膜トランジスタの製造方法

    森田 浩正, 堀川 剛, 小林 和弘, 松本 隆夫, 羽山 昌宏

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    出願人:三菱電機株式会社

    出願番号:特願昭63-175512  出願日:1988年7月

    公開番号:特開平2-025074  公開日:1990年1月

    特許番号/登録番号:特許第2756121号  登録日:1998年3月  発行日:1998年3月

    2756121

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受賞

  • 技術賞

    2019年4月   一般社団法人 エレクトロニクス実装学会   Siフォトニクス技術を用いた超小型光トランシーバ『光I/Oコア』の開発

    藏田 和彦, 木下 啓藏, 栗原 充, 萩原 靖彦, 屋敷 健一郎, 岡本 大典, 清水 隆徳, 竹村 浩一, 徳島 正敏, 堀川 剛

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  • Outstanding Technical Paper Awards

    2018年8月   International Conference on Electronics Packaging  

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  • 応用物理学会フェロー

    2016年9月   応用物理学会  

    堀川 剛

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  • APEX/JJAP編集貢献賞

    2008年7月   応用物理学会  

    堀川 剛

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担当経験のある科目(授業)

  • シリコンフォトニクス

    機関名:筑波大学

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