研究者詳細 - 松田　晃史

2026/04/28 更新

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マツダ　アキフミ

松田　晃史

MATSUDA AKIFUMI

所属

物質理工学院准教授

ホームページ

https://matsuda.mat.mac.titech.ac.jp/

プロフィール

所属学会等：日本セラミックス協会、応用物理学会、Materials Research Society (米国材料学会)、電気学会、日本熱電学会

外部リンク

学位

博士（工学）（東京工業大学）

研究キーワード

熱ナノインプリント
原子レベルパターニング
薄膜
機能性セラミックス
エピタキシャル成長
ナノ材料
グリーンプロセッシング

研究分野

ナノテク・材料 / 無機材料、物性 / 電子機能性セラミックス
ナノテク・材料 / 材料加工、組織制御 / ナノインプリント
ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性 / エピタキシャル薄膜

学歴

東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻博士後期課程

2005年4月 - 2008年3月

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東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻修士課程

2003年4月 - 2005年3月

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東京工業大学工学部無機材料工学科

2000年4月 - 2003年3月

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東京工業大学工学部第2類

1999年4月 - 2000年3月

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経歴

東京科学大学物質理工学院准教授

2024年10月 - 現在

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国名：日本国

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東京工業大学物質理工学院准教授

2022年4月 - 2024年9月

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国名：日本国

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東京工業大学物質理工学院材料系講師

2016年4月 - 2022年3月

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東京工業大学総合理工学研究科物質科学創造専攻講師

2015年3月 - 2016年3月

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東京工業大学総合理工学研究科物質科学創造専攻助教

2011年9月 - 2015年2月

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株式会社日立製作所研究開発本部日立研究所研究員

2008年4月 - 2011年8月

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所属学協会

日本MRS

2016年12月 - 現在

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応用物理学会

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日本セラミックス協会

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Materials Research Society

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電気学会

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日本熱電学会

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委員歴

日本セラミックス協会教育委員会

2023年4月 - 現在

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団体区分：学協会

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日本セラミックス協会関東支部普及・啓発委員会

2020年4月 - 現在

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団体区分：学協会

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日本セラミックス協会関東支部常任幹事

2020年4月 - 現在

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団体区分：学協会

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日本MRS 日本MRSニュース編集委員

2019年6月 - 現在

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団体区分：学協会

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論文

Modification of surface structural and electrical properties of epitaxial NiO (111) films by vacuum-ultraviolet light irradiation 査読

Kenta Kaneko, Yuchi Qiao, Satoru Kaneko, Momoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

Applied Surface Science 689 162405 - 162405 2025年4月

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担当区分：最終著者,　責任著者記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Elsevier BV

DOI： 10.1016/j.apsusc.2025.162405

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Selective phase growth of ultra-smooth Ti2O3 and TiO2 thin films at low growth temperature controlled by the oxygen partial pressure 査読

Jiayi Tang, Okkyun Seo, Jaemyung Kim, Ibrahima Gueye, L.S.R. Kumara, Ho Jun Oh, Wan-Gil Jung, Won-Jin Moon, Yong Tae Kim, Satoshi Yasuno, Tappei Nishihara, Akifumi Matsuda, Osami Sakata

Applied Surface Science Advances 26 100706 - 100706 2025年3月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Elsevier BV

DOI： 10.1016/j.apsadv.2025.100706

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Vacuum Ultraviolet-Enhanced Topotactic Phase Transition and Physical Properties at the Surface of Cobalt Oxide Epitaxial Thin Films 査読

Kenta Kaneko, Yuchi Qiao, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda

The Journal of Physical Chemistry C 129 ( 6 ) 3264 - 3271 2025年2月

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担当区分：最終著者,　責任著者記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：American Chemical Society (ACS)

DOI： 10.1021/acs.jpcc.4c07226

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Surface patterning of wide-gap semiconducting β-Ga₂O₃ thin films by area selective crystallization via room-temperature excimer laser annealing and low-toxic wet etching processes 査読

Daishi Shiojiri, Ryoya Kai, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Applied Physics Express 18 ( 1 ) 015501 - 015501 2025年1月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：IOP Publishing

Abstract

In the present study, we have developed a fully room-temperature and low-toxic surface patterning method for β-Ga₂O₃, which consists of the area selective laser-induced crystallization of amorphous Ga₂O₃ thin films and acid solution etching processes. Highly ( 01)-oriented crystalline β-Ga₂O₃ thin films with ∼70 nm thickness on α-Al₂O₃ (0001) substrates were obtained through a combination of room-temperature deposition process and the subsequent excimer laser annealing at a deep ultraviolet wavelength of 248 nm. In conclusion, the area selective crystallized β-Ga₂O₃ micropatterns were obtained through ultrasonic wet etching with 40% H₃PO₄ aqueous solution to remove amorphous regions.

DOI： 10.35848/1882-0786/ada247

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その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1882-0786/ada247/pdf
Effect of vacuum-ultraviolet irradiation on structure and resistivity of epitaxial copper oxide thin films 査読

Yuchi Qiao, Kenta Kaneko, Itsuki Osawa, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

Journal of the Ceramic Society of Japan 132 ( 7 ) 381 - 386 2024年7月

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担当区分：責任著者記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Ceramic Society of Japan

DOI： 10.2109/jcersj2.23205

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Crystal orientation of epitaxial film deposited on silicon surface

Satoru Kaneko, Takashi Tokumasu, Manabu Yasui, Masahito Kurouchi, Daishi Shiojiri, Shigeo Yasuhara, Sumanta Kumar Sahoo, Musa Mutlu Can, Ruei Sung Yu, Kripasindhu Sardar, Masahiro Yoshimura, Masaki Azuma, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Scientific Reports 14 ( 1 ) 2024年5月

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掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

Abstract

Direct growth of oxide film on silicon is usually prevented by extensive diffusion or chemical reaction between silicon (Si) and oxide materials. Thermodynamic stability of binary oxides is comprehensively investigated on Si substrates and shows possibility of chemical reaction of oxide materials on Si surface. However, the thermodynamic stability does not include any crystallographic factors, which is required for epitaxial growth. Adsorption energy evaluated by total energy estimated with the density functional theory predicted the orientation of epitaxial film growth on Si surface. For lower computing cost, the adsorption energy was estimated without any structural optimization (simple total of energy method). Although the adsorption energies were different on simple ToE method, the crystal orientation of epitaxial growth showed the same direction with/without the structural optimization. The results were agreed with previous simulations including structural optimization. Magnesium oxide (MgO), as example of epitaxial film, was experimentally deposited on Si substrates and compared with the results from the adsorption evaluation. X-ray diffraction showed cubic on cubic growth [MgO(100)//Si(100) and MgO(001)//Si(001)] which agreed with the results of the adsorption energy.

DOI： 10.1038/s41598-024-61564-8

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その他リンク： https://www.nature.com/articles/s41598-024-61564-8
Surface structural analysis of SrF₂(111) using low-energy atom scattering spectroscopy 査読

Hiroaki Fukuta, Goon Tan, Tomoaki Oga, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto, Hiroto Matsuura, Kenji Umezawa

Japanese Journal of Applied Physics 63 ( 2 ) 025505 - 025505 2024年2月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：IOP Publishing

Abstract

We studied the surface structure of SrF₂(111) using low-energy atom scattering spectroscopy. For the spectroscopy, we used pulsed 3 keV ⁴He° and 3 keV ²⁰Ne⁰ beams as incident particles and detected 180° backscattered particles using a microchannel plate. We compared the experimental results with simulations employing three types of surface atomic structural models: F–Sr–F, Sr–F–F, and F–F–Sr Our results demonstrate that the topmost layer of SrF₂(111) has approximately 60% and 40% of F–Sr–F and Sr–F–F, respectively.

DOI： 10.35848/1347-4065/ad226f

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その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ad226f/pdf
Buffer-free epitaxial growth of ZnO(0001) thin films at room temperature by tetramethylammonium hydroxide pretreatment of α-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>(0001) substrates 査読

Kenta Kaneko, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Takayoshi Katase, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

Journal of the Ceramic Society of Japan 131 ( 8 ) 383 - 388 2023年8月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Ceramic Society of Japan

DOI： 10.2109/jcersj2.23022

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Control of atomic ordering of LiNiO2 thin films on a sapphire substrate from rock-salt to layered structure using uniaxial compression

Okkyun Seo, Jaemyung Kim, Jiayi Tang, L.S.R. Kumara, Koji Kimoto, Kazushi Miki, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto, Osami Sakata

Journal of Alloys and Compounds 945 169177 - 169177 2023年6月

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掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Elsevier BV

DOI： 10.1016/j.jallcom.2023.169177

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Surface structural analysis of CaF2(111) using low-energy atom scattering spectroscopy 査読

Hiroaki Fukuta, Goon Tan, Tomoaki Oga, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto, Kenji Umezawa

Journal of Vacuum Science & Technology A 41 ( 4 ) 2023年5月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：American Vacuum Society

We determined the surface structure of cleaved CaF2(111) via atomic force microscopy and low-energy atom scattering spectroscopy for surface analyses of insulators. A pulsed 3 keV-20Ne0 impinged on the sample. The backscattered particles were detected at a scattering angle of 180°. It was found that (1) fluorine atoms dominated the topmost surfaces of cleaved CaF2(111) and (2) the topmost layer of fluorine atoms was located at an inward shift of 0.2 Å with respect to the bulk lattice structure.

DOI： 10.1116/6.0002392

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Room-temperature fabrication of epitaxial ZnO thin films on polymer substrates coated with a seed layer of exfoliated β-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub> single-crystal thin sheets by pulsed laser deposition 査読

Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Yutaka Majima, Hisashi Miyazaki, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Journal of the Ceramic Society of Japan 131 ( 5 ) 130 - 134 2023年5月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Ceramic Society of Japan

DOI： 10.2109/jcersj2.22152

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Fabrication of highly-oriented β-Ga₂O₃ thin film on ZnO/AlO _x -buffered cyclo-olefin polymer substrate by excimer laser annealing at room temperature 査読

Ryoya Kai, Tomoaki Oga, Kazuki Watanabe, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Japanese Journal of Applied Physics 62 ( 4 ) 048003 - 048003 2023年4月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：IOP Publishing

Abstract

The fabrication of highly-oriented β-Ga₂O₃ thin films on cyclo-olefin polymer (COP) substrates with oxide-buffer layers of amorphous AlO_x and c-axis-oriented crystalline ZnO by excimer laser annealing at RT was investigated. An amorphous GaO_x thin film deposited on a COP substrate by pulsed laser deposition at RT was irradiated with a pulsed KrF excimer laser from the film surface at RT in air. X-ray diffraction, reflection-high-energy-electron diffraction, and high-resolution transmission-electron microscopy results revealed solid-state crystallization of the uniaxial-oriented β-Ga₂O₃ ( $\bar{2}$ 01) thin film on the ZnO/AlO_x-buffered COP substrate. The obtained β-Ga₂O₃ thin film exhibited green-, blue-, and UV-band cathode-luminescence.

DOI： 10.35848/1347-4065/accc63

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その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/accc63/pdf
Crystallinity improvement of room-temperature PLD-deposited ZnO thin films on cyclo-olefin polymer substrates subject to surface-pretreatment with vacuum-UV-light irradiation 査読

Tomoaki Oga, Ryoya Kai, Naho Kaneko, Hisashi Miyazaki, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Journal of Crystal Growth 603 127012 - 127012 2023年2月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Elsevier BV

DOI： 10.1016/j.jcrysgro.2022.127012

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Characterization of vacuum ultraviolet-irradiated surface modification of CoO(111) crystal by low-energy atom scattering spectroscopy 査読

G. Tan, H. Fukuta, K. K. H. De Silva, A. Matsuda, M. Yoshimura, M. Yoshimoto, K. Umezawa

Journal of Vacuum Science & Technology A 40 ( 6 ) 2022年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：American Vacuum Society

The surface of a CoO(111) single crystal was treated with vacuum ultraviolet (VUV) light at a wavelength of 172 nm without heat treatment. We studied the surface structural analysis of CoO(111) before and after VUV light irradiation in air using low-energy atom scattering spectroscopy. The primary beam was 3 keV-4He0, and backscattered 4He particles from Co atoms were detected using a microchannel plate detector. We compared the experimental spectra to simulation results, and the results demonstrated that the rock-salt CoO(111) surface was transformed to a spinel Co3O4(111) surface after VUV light irradiation. We also identified details about the chemical properties and topmost layers of CoO(111) surfaces before and after VUV light irradiation.

DOI： 10.1116/6.0001971

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Carbon clusters on substrate surface for graphene growth- theoretical and experimental approach

Satoru Kaneko, Takashi Tokumasu, Manabu Yasui, Masahito Kurouchi, Satomi Tanaka, Chihiro Kato, Shigeo Yasuhara, Tamio Endo, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto, Musa Can, Sumanta Kumar Sahoo, Kripasindhu Sardar, Jyh-Ming Ting, Masahiro Yoshimura

Scientific Reports 12 ( 1 ) 2022年9月

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掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Springer Science and Business Media LLC

Abstract

Growth morphology of carbon clusters deposited on different substrates were investigated by theoretical and experimental approach. For theoretical approach, molecular dynamics was employed to evaluate an adsorptive stability of different size of carbon clusters placed on different substrates. The adsorptive stability was estimated by the difference of total energy of supercell designed as carbon cluster placed on a certain crystal plane of substrate. Among the simulations of this study, carbon cluster flatly settled down on the surface of SrTiO$$_{3}$$(001). The result was experimentally verified with layer by layer growth of graphene by pulsed laser deposition in carbon dioxide atmosphere. The absorptive stability can be useful reference for screening substrate for any target material other than graphene.

DOI： 10.1038/s41598-022-20078-x

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その他リンク： https://www.nature.com/articles/s41598-022-20078-x
Crystal orientation of epitaxial oxide film on silicon substrate 査読

Satoru Kaneko, Takashi Tokumasu, Manabu Yasui, Masahito Kurouchi, Shigeo Yasuhara, Tamio Endo, Masaki Azuma, Akufumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto, Sumanta Kumar Sahoo, Kripasindhu Sardar, Jyh-Ming Ting, Masahiro Yoshimura

Applied Surface Science 586 152776 - 152776 2022年6月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Elsevier BV

DOI： 10.1016/j.apsusc.2022.152776

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Electronic states of gallium oxide epitaxial thin films and related atomic arrangement 査読国際誌

Yanna Chen, Osami Sakata, Hiroyuki Morita, Akifumi Matsuda, Fanhao Jia, Okkyun Seo, Loku Singgappulige Rosantha Kumara, Toshiaki Ina, Eiichi Kobayashi, Jaemyung Kim, Chulho Song, Satoshi Hiroi, Natalia Palina, Yanfang Lou, Wei Ren, Mamoru Yoshimoto

Applied Surface Science 578 151943 - 151943 2022年3月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Elsevier BV

DOI： 10.1016/j.apsusc.2021.151943

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Simulation-Based Understanding of "Charge-Sharing Phenomenon" induced by Heavy-Ion incident on a 65nm Bulk CMOS Memory Circuit 査読国際誌

Maru Akifumi, Matsuda Akifumi, Kuboyama Satoshi, Yoshimoto Mamoru

IEICE Transactions on Electronics E105.C ( 1 ) 47 - 50 2022年1月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：一般社団法人電子情報通信学会

<p>In order to expect the single event occurrence on highly integrated CMOS memory circuit, quantitative evaluation of charge sharing between memory cells is needed. In this study, charge sharing area induced by heavy ion incident is quantitatively calculated by using device-simulation-based method. The validity of this method is experimentally confirmed using the charged heavy ion accelerator.</p>

DOI： 10.1587/transele.2021ecs6008

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Solid-phase epitaxial crystallization of β-Ga₂O₃ thin film by KrF excimer laser irradiation from backside of NiO (111)-buffered α-Al₂O₃ (0001) substrate at room temperature 査読国際誌

Hiroyuki Morita, Takumi Matsushima, Kisho Nakamura, Kenta Kaneko, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Journal of Vacuum Science & Technology A 39 ( 4 ) 043414 - 043414 2021年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：American Vacuum Society

DOI： 10.1116/6.0000996

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Fabrication of ultra-flat c-axis oriented ZnO thin films on atomically stepped cyclo-olefin polymer (COP) substrates by pulsed laser deposition at RT

Tomoaki Oga, Shiori Yamada, Naho Kaneko, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Japanese Journal of Applied Physics 59 ( 12 ) 2020年12月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：IOP Publishing Ltd

DOI： 10.35848/1347-4065/abc65e

Scopus

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Modifying the crystal structures of Fe2O3-doped NiO epitaxial thin films grown at room temperature by controlling the oxygen partial pressure 査読

Okkyun Seo, Akhil Tayal, Jaemyung Kim, Chulho Song, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Jiayi Tang, Nodo Lee, Yong Tae Kim, Yuki Ikeya, Shiori Takano, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Applied Surface Science 533 147432 - 147432 2020年12月

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担当区分：責任著者記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.apsusc.2020.147432

Web of Science

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Surface morphology change of protective film on collector mirror related to implantation of Sn emitted from laser produced plasma in EUV light source 査読

Yoshiyuki Honda, Tatsuya Yanagida, Yutaka Shiraishi, Masayuki Morita, Masahiko Andou, Hiroaki Tomuro, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Applied Physics Express 13 ( 11 ) 115501 - 115501 2020年11月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：IOP Publishing

DOI： 10.35848/1882-0786/abbea3

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その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1882-0786/abbea3/pdf
Reduction in contact resistivity of Ag thick-film conductor on SiN x -coated Si wafer for solar cell using lead tellurite glass frit 査読

Yusuke Tachibana, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Japanese Journal of Applied Physics 59 ( 9 ) 090908 - 090908 2020年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：IOP Publishing

DOI： 10.35848/1347-4065/abaebb

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その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/abaebb/pdf
P-type amorphous vanadium oxide thin film fabricated by pulsed laser deposition 査読

Subaru Nakanishi, Yoshiharu Shinozaki, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Japanese Journal of Applied Physics 59 ( 7 ) 078004 - 078004 2020年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：IOP Publishing

DOI： 10.35848/1347-4065/ab9ef7

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その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ab9ef7/pdf
Effect of MgO powder addition to alkali and alkaline-earth borosilicate glass paste on the acid durability and peel adhesion characteristics of Ag conductors formed with the glass paste 査読

Yusuke TACHIBANA, Akifumi MATSUDA, Mamoru YOSHIMOTO

Journal of the Ceramic Society of Japan 128 ( 3 ) 142 - 148 2020年3月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Ceramic Society of Japan

DOI： 10.2109/jcersj2.19157

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Tuning of structural, optical band gap, and electrical properties of room-temperature-grown epitaxial thin films through the Fe2O3:NiO ratio 査読

Okkyun Seo, Akhil Tayal, Jaemyung Kim, Chulho Song, Yanna Chen, Satoshi Hiroi, Yoshio Katsuya, Toshiaki Ina, Osami Sakata, Yuki Ikeya, Shiori Takano, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Scientific Reports 9 ( 1 ) 2019年12月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1038/s41598-019-41049-9

Web of Science

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Solid-phase epitaxy and pressure-induced topotaxy of the VO2 and V2O3 thin films on sapphire using annealing under uniaxial compression 査読

Matsuda Akifumi, Nozawa Yasuhisa, Kaneko Satoru, Yoshimoto Mamoru

APPLIED SURFACE SCIENCE 480 956 - 961 2019年6月

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DOI： 10.1016/j.apsusc.2019.01.189

Web of Science

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Constriction of a lattice constant in an epitaxial magnesium oxide film deposited on a silicon substrate 査読

Kaneko Satoru, Tokumasu Takashi, Nakamaru Yoshimi, Kokubun Chiemi, Konda Kayoko, Yasui Manabu, Kurouchi Masahito, Can Musa, Shawuti Shalima, Sudo Rieko, Endo Tamio, Yasuhara Shigeo, Matsuda Akifumi, Yoshimoto Mamoru

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 58 ( SA ) 2019年2月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.7567/1347-4065/aaec11

Web of Science

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Lattice distortion and electronic structure of magnesium-doped nickel oxide epitaxial thin films 査読

Yanna Chen, Osami Sakata, Ryosuke Yamauchi, Anli Yang, Loku Singgappulige Rosantha Kumara, Chulho Song, Natalia Palina, Munetaka Taguchi, Toshiaki Ina, Yoshio Katsuya, Hiroshi Daimon, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

PHYSICAL REVIEW B 95 ( 24 ) 245301 2017年6月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1103/PhysRevB.95.245301

Web of Science

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Layer-by-Layer Growth of Graphene on Insulator in CO2-Oxidizing Environment 査読

Satoru Kaneko, Takeshi Ito, Chihiro Kato, Satomi Tanaka, Shigeo Yasuhara, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

ACS Omega 2 ( 4 ) 1523 - 1528 2017年4月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1021/acsomega.7b00140

Web of Science

Scopus

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Room-temperature laser annealing for solid-phase epitaxial crystallization of β-Ga₂O₃ thin films 査読

Daishi Shiojiri, Daiji Fukuda, Ryosuke Yamauchi, Nobuo Tsuchimine, Koji Koyama, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Applied Physics Express 9 ( 10 ) 105502 2016年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.7567/APEX.9.105502

Web of Science

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Nanocontact printing of Au nanoarray onto atomically stepped ultrasmooth polymer sheets 査読

Kodai Shimada, Goon Tan, Yasuhisa Nozawa, Tatsuhiro Urakami, Koji Koyama, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55 ( 9 ) 098002 2016年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.7567/JJAP.55.098002

Web of Science

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Atomic step-and-terrace surface of polyimide sheet for advanced polymer substrate engineering 査読

G. Tan, K. Shimada, Y. Nozawa, S. Kaneko, T. Urakami, K. Koyama, M. Komura, A. Matsuda, M. Yoshimoto

NANOTECHNOLOGY 27 ( 29 ) 295603 2016年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1088/0957-4484/27/29/295603

Web of Science

Scopus

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Graphetic Growth on Pencil Drawn Paper Irradiated by Femtosecond Laser 査読

Satoru Kaneko, Kazuo Satoh, Yu Motoizumi, Yoshitada Shimizu, Takeshi Rachi, Chihiro Kato, Satomi Tanaka, Manabu Yasui, Shalima Shawuti, Musa M. Can, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto, Tamio Endo

NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY LETTERS 8 ( 7 ) 611 - 614 2016年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1166/nnl.2016.2219

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Atomic-scale thermal behavior of nanoimprinted 0.3-nm-high step patterns on PMMA polymer sheets 査読

Goon Tan, Yasuhisa Nozawa, Tomoyuki Funabasama, Koji Koyama, Masahiro Mita, Satoru Kaneko, Motonori Komura, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

POLYMER JOURNAL 48 ( 2 ) 225 - 227 2016年2月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1038/pj.2015.99

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Multigraphene growth on lead-pencil drawn sliver halide print paper irradiated by scanning femtosecond laser 査読

Satoru Kaneko, Yoshitada Shimizu, Takeshi Rachi, Chihiro Kato, Satomi Tanaka, Yasuhiro Naganuma, Toru Katakura, Kazuo Satoh, Mikio Ushiyama, Seiji Konuma, Yuko Itou, Hirofumi Takikawa, Goon Tan, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55 ( 1 ) 2016年1月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.7567/JJAP.55.01AE24

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Atomic disorder of Li0.5Ni0.5O thin films caused by Li doping: estimation from X-ray Debye-Waller factors 査読

Anli Yang, Osami Sakata, Ryosuke Yamauchi, L. S. R. Kumara, Chulho Song, Yoshio Katsuya, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY 48 1896 - 1900 2015年12月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1107/S1600576715020002

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Atomic step patterning on quartz glass via thermal nanoimprinting 査読

Osamu Suga, Mamoru Yoshimoto, Chieko Okuyama, Akifumi Matsuda, Hiroshi Hiroshima, Masaharu Takahashi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 54 ( 9 ) 098001 2015年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.7567/JJAP.54.098001

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Layer matching epitaxy of NiO thin films on atomically stepped sapphire (0001) substrates 査読

Ryosuke Yamauchi, Yosuke Hamasaki, Takuto Shibuya, Akira Saito, Nobuo Tsuchimine, Koji Koyama, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

SCIENTIFIC REPORTS 5 14385 2015年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1038/srep14385

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Room-temperature selective epitaxial growth of CoO (111) and Co3O4 (111) thin films with atomic steps by pulsed laser deposition 査読

Akifumi Matsuda, Ryosuke Yamauchi, Daishi Shiojiri, Geng Tan, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto

APPLIED SURFACE SCIENCE 349 78 - 82 2015年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.apsusc.2015.04.205

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Room-temperature fabrication of highly oriented beta-Ga2O3 thin films by excimer laser annealing 査読

Daishi Shiojiri, Ryosuke Yamauchi, Daiji Fukuda, Nobuo Tsuchimine, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 424 38 - 41 2015年8月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.jcrysgro.2015.04.026

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Fabrication and characterization of a printable semiconductor based on the V2O5-P2O5 system for thermoelectric applications 査読

Akifumi Matsuda, Mengshen Liu, Takuya Aoyagi, Takashi Naito, Tadashi Fujieda, Mamoru Yoshimoto

JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 123 ( 1439 ) 618 - 622 2015年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.2109/jcersj2.123.618

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Lattice spacings and domain sizes of room-temperature epitaxial LixNi1-xO (0 <= x <= 0.48) thin films grown on ultra-smooth sapphire substrates 査読

Anli Yang, Osami Sakata, Ryosuke Yamauchi, Yoshio Katsuya, L. S. R. Kumara, Yoshitomo Shimada, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

APPLIED SURFACE SCIENCE 320 787 - 790 2014年11月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.apsusc.2014.09.154

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Numerical simulation of plasma confinement in DC magnetron sputtering under different magnetic fields and anode structures 査読

Junichi Kageyama, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda, Yasuhiko Akao, Eiji Shidoji

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53 ( 8 ) 2014年8月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.7567/JJAP.53.088001

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Hard X-ray photoelectron spectroscopy of LixNi1-xO epitaxial thin films with a high lithium content 査読

L. S. R. Kumara, Osami Sakata, Anli Yang, Ryosuke Yamauchi, Munetaka Taguchi, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS 141 ( 4 ) 044718 2014年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/1.4891366

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Formation of 0.3-nm-high stepped polymer surface by thermal nanoimprinting 査読

Geng Tan, Naoya Inoue, Tomoyuki Funabasama, Masahiro Mita, Norimichi Okuda, Junichi Mori, Koji Koyamas, Satoru Kaneko, Masaru Nakagawa, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

APPLIED PHYSICS EXPRESS 7 ( 5 ) 055202 2014年5月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.7567/APEX.7.055202

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Refractive index change of multicomponent glass films for bismuthate erbium-doped waveguide amplifiers prepared by radio-frequency magnetron sputtering under different magnetic fields of cathode 査読

Junichi Kageyama, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda, Yuki Kondo, Motoshi Ono, Naoki Sugimoto

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 240 399 - 404 2014年2月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.surfcoat.2013.12.063

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Influence of shield roughness on Mo/Si defect density for extreme ultraviolet lithography mask blanks 査読

Junichi Kageyama, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda, Vibhu Jindal, Patrick Kearney, Frank Goodwin

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 31 ( 4 ) 041603 2013年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1116/1.4813776

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Homoepitaxial growth of α-Al₂O₃ thin films on atomically stepped sapphire substrates by pulsed laser deposition at room-temperature 査読

Daishi Shiojiri, Ryosuke Yamauchi, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Journal of the Ceramic Society of Japan 121 ( 1413 ) 467 - 469 2013年5月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.2109/jcersj2.121.467

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Influence of P2O5/TeO2 composition ratio on the physical properties of V2O5-P2O5-TeO2 glasses for lead-free low-temperature sealing 査読

Takashi Naito, Akifumi Matsuda, Daishi Shiojiri, Takuya Aoyagi, Yuichi Sawai, Tadashi Fujieda, Shinichi Tachizono, Kei Yoshimura, Yuji Hashiba, Mamoru Yoshimoto

JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 121 ( 1413 ) 452 - 456 2013年5月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.2109/jcersj2.121.452

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PLD法を用いたエピタキシャル雲母薄膜の作製条件の検討

吉田彬, 山内涼輔, 譚ゴオン, 土嶺信男, 舟窪浩, 金子智, 松田晃史, 吉本護

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2013.1 1370 - 1370 2013年3月

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記述言語：日本語出版者・発行元：公益社団法人応用物理学会

DOI： 10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_1370

CiNii Research

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Functional surface on periodical nanostructure self-organized by laser scanning at speed of 300 m/min 査読

Satoru Kaneko, Takeshi Ito, Chihiro Kato, Satomi Tanaka, Yosuke Ono, Tokuo Yodo, Hiroyasu Nakata, Akira Matsuno, Takashi Nire, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Optics and Lasers in Engineering 51 ( 3 ) 294 - 298 2013年3月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.optlaseng.2012.09.011

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Room-temperature synthesis of epitaxial oxide thin films for development of unequilibrium structure and novel electronic functionalization 査読

Mamoru Yoshimoto, Ryosuke Yamauchi, Daishi Shiojiri, Geng Tan, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda

JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 121 ( 1409 ) 1 - 9 2013年1月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.2109/jcersj2.121.1

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Influence of momentary annealing on the nanoscale surface morphology of room temperature pulsed laser deposited NiO(111) epitaxial thin films on atomically stepped sapphire (0001) substrates 査読

Ryosuke Yamauchi, Geng Tan, Daishi Shiojiri, Nobuo Tsuchimine, Koji Koyama, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Society Symposium Proceedings 1507 Mrsf12-1507-aa09-11 2013年

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）出版者・発行元：Materials Research Society

DOI： 10.1557/opl.2013.380

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Investigations on electrical conduction properties and crystallization conditions of V2O5-P2O5 glass based semiconductors 査読

Akifumi Matsuda, Takuya Aoyagi, Takashi Naito, Tadashi Fujieda, Kenjiro Ikejiri, Koji Koyama, Ryosuke Yamauchi, Geng Tan, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Society Symposium Proceedings 1494 215 - 219 2013年

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）

DOI： 10.1557/opl.2013.180

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Anisotropic magnetization of epitaxial Ni nanogroove-arrays prepared by reduction of self-organized oxides 査読

Akifumi Matsuda, Ryosuke Yamauchi, Geng Tan, Hirokazu Nakai, Koji Koyama, Kazuhiko Sunakawa, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto

APPLIED SURFACE SCIENCE 259 208 - 212 2012年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.apsusc.2012.07.020

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Influence of Rapid Thermal Annealing and Substrate Terrace Width on Self-Organizing Formation of Periodic Straight Nanogroove Array on NiO(111) Epitaxial Thin Film 査読

Ryosuke Yamauchi, Geng Tan, Daishi Shiojiri, Koji Koyama, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 51 ( 6 ) 06FF16 2012年6月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1143/JJAP.51.06FF16

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Fabrication of Ni/Al

Yamauchi Ryosuke, Kobayashi Keisuke, Hosaka Makoto, Suzuki Toshimasa, Koyama Kohji, Matsuda Akifumi, Arai Hideki, Kato Yushi, Mitsuhashi Masahiko, Kaneko Satoru, Yoshimoto Mamoru

Jpn J Appl Phys 50 ( 9 ) 98004 - 098004-2 2011年9月

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記述言語：英語出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics

The fabrication of a Ni/Al₂O₃/Ni heteroepitaxial junction was achieved by the post-hydrogen reduction of a NiO/Al₂O₃/NiO trilayered epitaxial thin film grown by pulsed laser deposition. The top and bottom NiO layers were selectively reduced to Ni metal layers showing epitaxial relationships, while the Al₂O₃interlayer remained. The crystallographic and interfacial characteristics were confirmed by X-ray diffraction analysis, reflection high-energy electron diffraction, and transmission electron microscopy. The fabricated Ni/Al₂O₃/Ni heteroepitaxial junction exhibited atomically sharp interfaces with no amorphous boundary layer.

DOI： 10.1143/JJAP.50.098004

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Fabrication of Ni/Al2O3/Ni Heteroepitaxial Junction by Post-Hydrogen Reduction of NiO/Al2O3/NiO Trilayered Epitaxial Thin Film 査読

Ryosuke Yamauchi, Keisuke Kobayashi, Makoto Hosaka, Toshimasa Suzuki, Kohji Koyama, Akifumi Matsuda, Hideki Arai, Yushi Kato, Masahiko Mitsuhashi, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50 ( 9 ) 098004 2011年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1143/JJAP.50.098004

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Low-temperature selective growth of heteroepitaxial α-Al₂O₃ thin films on a NiO layer by the electron-beam assisted PLD process 査読

Makoto Hosaka, Yasuyuki Akita, Yuki Sugimoto, Yushi Kato, Yusaburo Ono, Akifumi Matsuda, Koji Koyama, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Society Symposium Proceedings 1150 167 - + 2009年

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）

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Self-organization of magnetic nanogroove arrays by Laser MBE and hydrogen reduction 査読

Akifumi Matsuda, Takahiro Watanabe, Yasuyuki Akita, Makoto Hosaka, Kouji Koyama, Atsuko Takeuchi, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Society Symposium Proceedings 1032 66 - 71 2008年12月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）

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Transformation from an atomically stepped NiO thin film to a nanotape structure: A kinetic study using x-ray diffraction 査読

Osami Sakata, Jia Mei Soon, Akifumi Matsuda, Yasuyuki Akita, Mamoru Yoshimoto

APPLIED PHYSICS LETTERS 93 ( 24 ) 241904 2008年12月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/1.3050112

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Fabrication of ferromagnetic Ni epitaxial thin film by way of hydrogen reduction of NiO 査読

Akifumi Matsuda, Shusaku Akiba, Masayasu Kasahara, Takahiro Watanabe, Yasuyuki Akita, Yoshitaka Kitamoto, Takeo Tojo, Hitoshi Kawaji, Tooru Atake, Kouji Koyama, Mamoru Yoshimoto

THIN SOLID FILMS 516 ( 12 ) 3873 - 3876 2008年4月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.tsf.2007.07.133

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Atomically stepped glass surface formed by nanoimprint 査読

Yasuyuki Akita, Takahiro Watanabe, Wakana Hara, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 46 ( 12-16 ) L342 - L344 2007年4月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1143/JJAP.46.L342

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Anisotropic electric conduction derived from self-organized nanogroove array on Li-doped NiO epitaxial film 査読

Akifumi Matsuda, Shusaku Akiba, Masayasu Kasahara, Takahiro Watanabe, Yasuyuki Akita, Mamoru Yoshimoto

APPLIED PHYSICS LETTERS 90 ( 18 ) 182107 2007年4月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/1.2735677

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Surface modification of silicate glasses by nanoimprint using nanostriped NiO thin film molds 査読

Shusaku Akiba, Wakana Hara, Takahiro Watanabe, Akifumi Matsuda, Masayasu Kasahara, Mamoru Yoshimoto

APPLIED SURFACE SCIENCE 253 ( 10 ) 4512 - 4514 2007年3月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.apsusc.2006.10.002

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Nanoscale smoothing in crystallization of amorphous indium tin oxide thin films induced by glass ultrathin overlayer 査読

Shusaku Akiba, Shubei Sato, Akifumi Matsuda, Wakana Hara, Mamoru Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 46 ( 1-3 ) L18 - L20 2007年1月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1143/JJAP.46.L18

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Formation and characterization of striped nano-channel structure on the functional oxide thin film 査読

Masayasu Kasahara, Akifumi Matsuda, Yasuyuki Akita, Wakana Hara, Keisuke Kobayashi, Kazuyoshi Kobayashi, Toshimasa Suzuki, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Society Symposium Proceedings 961 102 - 106 2006年12月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）

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Development of a novel metal epitaxy method towards Ni based electro-magnetic hybrid systems 査読

Akifumi Matsuda, Masayasu Kasahara, Takahiro Watanabe, Wakana Hara, Sei Otaka, Kouji Koyama, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Society Symposium Proceedings 962 68 - 73 2006年12月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）

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Formation of a nanogroove-striped NiO surface using atomic steps 査読

S. Akiba, A. Matsuda, H. Isa, M. Kasahara, S. Sato, T. Watanabe, W. Hara, M. Yoshimoto

NANOTECHNOLOGY 17 ( 16 ) 4053 - 4056 2006年8月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1088/0957-4484/17/16/010

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High-contrast imaging of nano-channels using reflection near-field scanning optical microscope enhanced by optical interference 査読

Masaru Sakai, Shuji Mononobe, Shusaku Akiba, Akifumi Matsuda, Wakana Hara, Mamoru Yoshimoto, Toshiharu Saiki

OPTICAL REVIEW 13 ( 4 ) 266 - 268 2006年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1007/s10043-006-0266-4

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Fabrication of optically active Er3+-doped Bi2O3-SiO2 glass thin films by pulsed laser deposition 査読

Shusaku Akiba, Masahiro Takakura, Akifumi Matsuda, Wakana Hara, Takashi Okada, Takahiro Watanabe, Yuki Kondo, Setsuro Ito, Parhat Ahmet, Toyohiro Chikyo, Setsuhisa Tanabe, Teiichi Hanada, Mamoru Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45 ( 7 ) 5933 - 5935 2006年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1143/JJAP.45.5933

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Effect of oxygen pressure on structural modulation observed by X-ray reciprocal space mapping in epitaxial bismuth cuprate superconducting. 査読

S Kaneko, K Akiyama, M Mitsuhashi, Y Hirabayashi, S Ohya, K Seo, H Funakubo, A Matsuda, M Yoshimoto

EUROPHYSICS LETTERS 71 ( 4 ) 686 - 691 2005年8月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1209/epl/i2005-10128-9

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Buffer-enhanced room-temperature growth and characterization of epitaxial ZnO thin films 査読

A Sasaki, WHA Matsuda, N Tateda, S Otaka, S Akiba, K Saito, T Yodo, M Yoshimoto

APPLIED PHYSICS LETTERS 86 ( 23 ) 1 - 3 2005年6月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/1.1947378

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Room-temperature-epitaxial growth and in situ CAICISS surface analysis of wurtzite-type thin films 査読

A Sasaki, W Hara, A Matsuda, S Akiba, N Tateda, M Yoshimoto

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 232 305 - 311 2005年5月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.nimb.2005.03.063

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Crystallinity of NiO nanowires grown at step edges of sapphire substrate 査読

A Sasaki, S Akiba, A Matsuda, W Hara, S Sato, M Yoshimoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 44 ( 1-7 ) L256 - L259 2005年

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1143/JJAP.44.L256

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Reciprocal-lattice space imaging of X-ray intensities diffracted from nanowires 査読

O Sakata, A Kitano, W Yashiro, K Sakamoto, K Miki, A Matsuda, W Hara, S Akiba, M Yoshimo

NEUTRON AND X-RAY SCATTERING AS PROBES OF MULTISCALE PHENOMENA 840 131 - 136 2005年

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Nanoscale flow deformation of silicate glass ultrathin films for development of nano-patterned glass surfaces 査読

S Akiba, W Hara, S Sato, A Matsuda, A Sasaki, M Yoshimoto

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 19 ( 9 ) 2683 - 2686 2004年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/JMR.2004.0344

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High-energy x-ray scattering in grazing incidence from nanometer-scale oxide wires 査読

O Sakata, M Takata, H Suematsu, A Matsuda, S Akiba, A Sasaki, M Yoshimoto

APPLIED PHYSICS LETTERS 84 ( 21 ) 4239 - 4241 2004年5月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/1.1756207

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Structural analysis of NiO ultra-thin films epitaxially grown on ultra-smooth sapphire substrates by synchrotron X-ray diffraction measurements 査読

O Sakata, MS Yi, A Matsuda, J Liu, S Sato, S Akiba, A Sasaki, M Yoshimoto

APPLIED SURFACE SCIENCE 221 ( 1-4 ) 450 - 454 2004年1月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/S0169-4332(03)00961-9

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Evidence of the temperature-dependent interlayer coupling from the anisotropic transport properties in co-substituted single-crystal Bi2Sr2Ca(Cu1-xCox)(2)O-8+delta 査読

T Watanabe, A Matsuda

PHYSICAL REVIEW B 54 ( 10 ) R6881 - R6884 1996年9月

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書籍等出版物

ナノインプリント: -次世代微細加工技術の最前線- (エレクトロニクスシリーズ)

平井義彦, 鈴木健太, 谷口淳, 大井秀雄, 柳下崇, 山岸里緒, 竹井敏, 山内一美, 江本顕雄, 菅野智士, 松川晴香, 渡邉有希, 新井翔, 岸本章, 雨宮智宏, 森莉紗子, 藤井恭, 浅井隆宏, 塩田大, 西山伸彦, 松田晃史, 大西有希, 浅田邦彦, 米川雅見, 幡野正之, 竹内史和, Thomas UHRMANN, 黒瀧宏和, 関口淳, 魚津吉弘, 遠藤達郎, 青木元秀, 朱彦北, 沖野晃俊, 梅村知也（担当：共著）

シーエムシー出版 2024年7月（ ISBN:478131810X ）

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ASIN

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MISC

ナノパターンポリマー基板上におけるリン酸Ca系薄膜の初期成長過程

金子奈帆, 前田優斗, 大賀友瑛, 林智広, MONDARTE Evan Angelo Quimada, 金子智, 金子智, 松田晃史, 吉本護

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年

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J-GLOBAL

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一軸加圧下熱処理によるBi₂VO_5+δ薄膜の配向性固相結晶化と特性評価

伊藤翔陽, 難波諒太郎, 三村和仙, 金子智, 金子智, 舟窪浩, 松田晃史, 吉本護

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 65th 2018年

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J-GLOBAL

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炭酸ガスによる酸化雰囲気でのグラフェン成長

金子智, 金子智, 安原重雄, 佐藤和郎, 安井学, 黒内正仁, 田中聡美, 加藤千尋, 松田晃史, 吉本護

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 78th 2017年

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J-GLOBAL

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4．ナノインプリント手法によるガラスやポリマー上での単原子レベル極微細パターン形成

松田晃史, 吉本護

Electrochemistry 83 ( 11 ) 1016 - 1020 2015年

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記述言語：日本語出版者・発行元：The Electrochemical Society of Japan

DOI： 10.5796/electrochemistry.83.1016

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パルスレーザー堆積した室温成長エピタキシャル薄膜における熱処理後のナノ溝配列形成に及ぼす原子ステップ単結晶基板の影響

松田晃史, 笠原正靖, 吉本護

電気学会論文誌. C 135 ( 9 ) 1096 - 1097 2015年

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記述言語：日本語出版者・発行元：The Institute of Electrical Engineers of Japan

DOI： 10.1541/ieejeiss.135.1096

Scopus

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Numerical simulation of plasma confinement in DC magnetron sputtering under different magnetic fields and anode structures

Kageyama Junichi, Yoshimoto Mamoru, Matsuda Akifumi

旭硝子研究報告 65 131 - 133 2015年

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記述言語：英語出版者・発行元：旭硝子中央研究所

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Influence of shield roughness on Mo/Si defect density for extreme ultraviolet lithography mask blanks

Kageyama Junichi, Yoshimoto Mamoru, Matsuda Akifumi

旭硝子研究報告 64 61 - 65 2014年

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記述言語：英語出版者・発行元：旭硝子中央研究所

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Refractive index change of multicomponent glass films for bismuthate erbium-doped waveguide amplifiers prepared by radio-frequency magnetron sputtering under different magnetic fields of cathode

Kageyama Junichi, Yoshimoto Mamoru, Matsuda Akifumi

旭硝子研究報告 64 55 - 60 2014年

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記述言語：英語出版者・発行元：旭硝子中央研究所

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研究最先端 V₂O₅-P₂O₅ガラスをベースとした新規熱電半導体の創製

松田晃史

New glass 28 ( 3 ) 35 - 38 2013年11月

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記述言語：日本語出版者・発行元：ニューガラスフォーラム

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原子ステップ基板上への酸化物エピタキシャル薄膜のPLD室温成長とナノ構造構築

山内涼輔, 譚ゴオン, 塩尻大士, 小山浩司, 金子智, 松田晃史, 吉本護

電気学会研究会資料. OQD, 光・量子デバイス研究会 2012 ( 1 ) 31 - 35 2012年3月

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記述言語：日本語

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レーザーMBE法による機能性セラミックス薄膜の室温エピタキシャル成長

松田晃史, 舘田典浩, 秋葉周作, 原和香奈, 佐々木敦, 吉本護

電気学会研究会資料. OQD, 光・量子デバイス研究会 2005 ( 1 ) 11 - 16 2005年3月

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記述言語：日本語

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講演・口頭発表等

Stability of epitaxial oxide thin film growth on silicon substrate withevaluation using density functional theory 国際会議

Satoru Kaneko, Takashi Tokumasu, Masahito Kurouchi, Manabu Yasui, Masahiko Mitsuhashi, Can Mutlu Musa, Ruei Sung Yu, Sumanta Kumar Sahoo, Mariana Ionita, Meškinis Šarūnas, Masahiro Yoshimura, Akifumi Matsuda

Materials Research Meeting 2025 2025年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2025年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Yokohama 国名：日本国

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Structural control of Ni-Fe system heteroepitaxial oxide thin films by hydrogen reduction 国際会議

Yusei Yamanaka, Takumu Hirano, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda

Materials Research Meeting 2025 2025年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2025年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Yokohama 国名：日本国

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Control of p-type conductivity of amorphous and epitaxial nickel oxide thin films by vacuum ultraviolet irradiation 国際会議

Takumu Hirano, Yusei Yamanaka, Kenta Kaneko, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda

Materials Research Meeting 2025 2025年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2025年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Yokohama 国名：日本国

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Vacuum-UV photoinduced topochemical phase transition and conductivity control of copper oxide epitaxial thin films 国際会議

Akifumi Matsuda, Kenta Kaneko, Yuchi Qiao, Takumu Hirano, Satoru Kaneko

Materials Research Meeting 2025 2025年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2025年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Yokohama 国名：日本国

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Control of surface nanopatterning on poly(lactic acid) sheets by tuned pressure in thermal nanoimprint method 国際会議

Daichi Yui, Momoka Muraoka, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda

38th International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2025年11月 The Japan Society of Applied Physics

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開催年月日： 2025年11月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Tokyo 国名：日本国

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Rapid solid-phase crystallization of copper iron oxide thin films by excimer laser annealing 国際会議

Arata Ito, Shoji Nakata, Ryoya Kai, Yukata Nakano, Satoru Kaneko, Yuta Kubota, Nobuhiro Matsushita, Akifumi Matsuda

The Fifteenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-15) 2025年9月

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開催年月日： 2025年9月 - 2025年10月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Tokyo 国名：日本国

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真空紫外光照射による酸化ニッケル薄膜のp型導電性制御における結晶性の影響

平野拓夢, 山中悠生, 金子智, 松田晃史

日本セラミックス協会第38回秋季シンポジウム 2025年9月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：群馬大学荒牧キャンパス国名：日本国

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Ga₂O₃薄膜のELA固相エピタキシーにおけるドメイン構造と基板結晶面の影響

甲斐稜也, 伊藤新, 仲野由剛, 山中悠生, 金子智, 松田晃史

日本セラミックス協会第38回秋季シンポジウム 2025年9月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：群馬大学荒牧キャンパス国名：日本国

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遷移金属酸化物結晶の水素還元によるヘテロエピタキシャル薄膜の構造制御

山中悠生, 平野拓夢, 金子智, 松田晃史

日本セラミックス協会第38回秋季シンポジウム 2025年9月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2025年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：群馬大学荒牧キャンパス国名：日本国

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酸化物固溶体のH2還元によるfcc型Ni1-xFexエピタキシャル薄膜の作製

山中悠生, 河村和哉, 金子智, 松田晃史

第72回応用物理学会春季学術講演会 2025年3月応用物理学会

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開催年月日： 2025年3月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東京理科大学国名：日本国

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ニッケル酸ランタン薄膜のエピタキシャル成長および還元による酸素欠損型構造の作製

河村和哉, 金子健太, 山中悠生, 金子智, 松田晃史

第85回応用物理学会秋季学術講演会 2024年9月応用物理学会

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開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語

開催地：新潟県新潟市国名：日本国

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機能性酸化物エピタキシャル薄膜の構造・物性に与える真空紫外光励起酸素種の効果

金子健太, 喬宇馳, 平野拓夢, 金子智, 松田晃史

日本セラミックス協会第37回秋季シンポジウム 2024年9月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語

開催地：愛知県名古屋市国名：日本国

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エキシマレーザーアニールによる酸化鉄バッファー層上Ga2O3薄膜の急速固相エピタキシー

甲斐稜也, 伊藤新, 金子智, 松田晃史

日本セラミックス協会第37回秋季シンポジウム 2024年9月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語

開催地：愛知県名古屋市国名：日本国

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Ni1–xFexO薄膜の室温成長およびH2還元によるfcc型Ni1–xFexエピタキシャル薄膜の作製

山中悠生, 河村和哉, 金子智, 松田晃史

第40回日本セラミックス協会関東支部研究発表会 2024年9月日本セラミックス協会関東支部

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開催年月日： 2024年9月

記述言語：日本語

開催地：長野県長野市国名：日本国

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Fe2O3バッファー層を用いた紫外レーザーアニーリングによるα-Al2O3(0001)基板上Ga2O3薄膜のエピタキシャル固相結晶化

甲斐稜也, 沼田拓実, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月応用物理学会

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都世田谷区国名：日本国

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導電性ポリアニリン薄膜表面の超平坦化をめざしたスピンコート成膜

北村裕大, 梅本琉花, 島田侑果, 甲斐稜也, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月応用物理学会

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都世田谷区国名：日本国

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真空紫外光照射を用いた機能性酸化物エピタキシャル薄膜の構造・導電性変化

金子健太, 喬宇馳, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会 2024年年会 2024年3月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語

開催地：熊本県熊本市国名：日本国

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Fabrication of uniaxially oriented β-Ga2O3 thin films on flexible polymer substrates by UV laser annealing at room temperature 国際会議

Ryoya Kai, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

Materials Research Meeting 2023 2023年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語

開催地：Yokohama 国名：日本国

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Vacuum-ultraviolet-light irradiation induced phase transition of Cobalt oxide epitaxial films at room-temperature 国際会議

Kenta Kaneko, Qiao Yuchi, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

Materials Research Meeting 2023 2023年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語

開催地：Yokohama 国名：日本国

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真空紫外線照射による亜酸化銅エピタキシャル薄膜の表面構造変化と導電性向上

喬宇馳, 金子健太, 山中悠生, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会第42回電子材料研究討論会 2023年11月日本セラミックス協会電子材料部会

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語

開催地：神奈川県横浜市国名：日本国

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La3Ni2O7エピタキシャル薄膜のPLD合成と水素熱処理による構造・物性変化

河村和哉, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会第42回電子材料研究討論会 2023年11月日本セラミックス協会電子材料部会

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語

開催地：神奈川県横浜市国名：日本国

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レーザープロセスによる酸化物半導体薄膜の結晶配向性制御とフレキシブル基板への展開招待

松田晃史

2023年度第4回ナノ材料研究会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：東京都目黒区国名：日本国

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非晶質酸化ガリウム薄膜固相結晶化へのエキシマレーザ照射条件の影響とマイクロ構造構築

塩尻大士, 甲斐稜也, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月応用物理学会

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：熊本県熊本市国名：日本国

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熱ナノインプリントによるPLAシート表面のナノ周期パターン形成

梅本琉花, 北村裕大, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月応用物理学会

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：熊本県熊本市国名：日本国

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真空紫外光励起酸素によるCoO薄膜の非加熱トポタキシャル相変化

金子健太, 喬宇馳, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月応用物理学会

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：熊本県熊本市国名：日本国

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アモルファス酸化ニオブ系薄膜におけるエキシマレーザー照射による導電性制御

大澤樹, 金子健太, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月応用物理学会

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：熊本県熊本市国名：日本国

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不純物ドープ非晶質Ga2O3薄膜へのエキシマレーザー照射による室温固相結晶化と照射条件が与える構造・特性への影響

沼田拓実, 甲斐稜也, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月応用物理学会

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：熊本県熊本市国名：日本国

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PLD法による酸化タングステンエピタキシャル薄膜の合成と価数制御

加藤礼雄, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第39回日本セラミックス協会関東支部研究発表会 2023年9月日本セラミックス協会関東支部

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：栃木県益子町国名：日本国

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ELAによるポリマー基板上Ga2O3配向薄膜の作製と結晶構造解析

甲斐稜也, 沼田拓実, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第39回日本セラミックス協会関東支部研究発表会 2023年9月日本セラミックス協会関東支部

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語

開催地：栃木県益子町国名：日本国

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ナノインプリントプロセスを用いたポリマー基板上の金属ナノ粒子パターン形成招待

島田侑果, 前田優斗, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

NGLワークショップ2023 2023年7月応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：日本語

開催地：東京都目黒区国名：日本国

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p/n半導性制御のための不純物ドープβ-Ga2O3薄膜の室温固相結晶化に向けたエキシマレーザーアニールプロセスの検討

沼田拓実, 甲斐稜也, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月応用物理学会

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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熱ナノインプリントによるポリ乳酸シート表面の原子ステップ平坦化

梅本琉花, 前田優斗, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月応用物理学会

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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新規熱電材料創製に向けた不純物添加非晶質酸化バナジウム系薄膜のUV光照射等による構造・電気特性制御

大澤樹, 庄司拓貴, 金子健太, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月応用物理学会

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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LaNiO3エピタキシャル薄膜の構造・物性への4価ドーピング効果

河村和哉, 後藤裕己, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月応用物理学会

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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酸化銅エピタキシャル薄膜の真空紫外光照射による構造・物性変化

喬宇馳, 金子健太, 庄司拓貴, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月応用物理学会

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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還元型酸化タングステン薄膜のパルスレーザー堆積および導電性評価

加藤礼雄, 庄司拓貴, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月応用物理学会

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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ナノインプリント法およびパルスレーザー堆積を用いたポリマー表面上への金属ナノ粒子周期パターン形成

島田侑果, 前田優斗, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月応用物理学会

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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真空紫外光励起酸素によるエピタキシャル酸化コバルト薄膜の室温トポタキシャル相変化

金子健太, 庄司拓貴, 喬宇馳, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会 2023年年会 2023年日本セラミックス協会

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開催年月日： 2023年

記述言語：日本語

開催地：横浜市国名：日本国

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低速原子散乱分光法によるSrF2(111)表面原子の観察

福田浩昭, 譚ゴオン, 大賀友瑛, 松田晃史, 吉本護, 梅澤憲司

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年応用物理学会

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開催年月日： 2023年

記述言語：日本語

開催地：東京都千代田区国名：日本国

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ポリマー基板上へのワイドギャップβ-Ga2O3配向性結晶薄膜のレーザーアニール室温合成

甲斐稜也, 沼田拓実, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

日本セラミックス協会 2023年年会 2023年日本セラミックス協会

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開催年月日： 2023年

記述言語：日本語

開催地：横浜市国名：日本国

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Lowering in Resistivity and Ultra-Flattening of AZO Thin Films on Cyclo-Olefin Polymer Substrates via Substrate-Surface Modification for Flexible Optoelectronics 国際会議

Tomoaki Oga, Ryoya Kai, Hisashi Miyazaki, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

2022 MRS Fall Meeting and Exhibits 2022年12月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語

開催地：Boston 国名：アメリカ合衆国

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Designing Carbon Cluster for Graphene Growth by Molecular Dynamics—Selection of Substrate Material, Crystal Orientation 国際会議

Satoru Kaneko, Manabu Yasui, Masahito Kurouchi, Chihiro Kato, Satomi Tanaka, Takashi Tokumasu, Shigeo Yasuhara, Tamio Endo, Musa Can, Ruei-Sung Yu, Kripasindhu Sardar, Sumanta Sahoo, Masahiro Yoshimura, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

2022 MRS Fall Meeting and Exhibits 2022年11月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年11月 - 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Boston 国名：アメリカ合衆国

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Nanoimprint Formation of the Atomically Ultra-Smooth Surface of the PEDOT: PSS Conducting Polymer Thin Film for Flexible Optoelectronic Devices 国際会議

Yuto Maeda, Naho Kaneko, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

2022 MRS Fall Meeting and Exhibits 2022年11月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年11月 - 2022年12月

記述言語：英語

開催地：Boston 国名：アメリカ合衆国

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Room-Temperature Fabrication of Highly-Oriented β-Ga2O3 Thin Film on ZnO/AlOx-Buffered Cyclo-Olefin Polymer Substrate via Excimer Laser Annealing of Amorphous Thin Film 国際会議

Ryoya Kai, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

2022 MRS Fall Meeting and Exhibits 2022年11月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年11月 - 2022年12月

記述言語：英語

開催地：Boston 国名：アメリカ合衆国

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Electric Conductivity and Structural Modification of Cobalt Oxide Epitaxial Thin Film at Surface by Excimer Vacuum-Ultraviolet Light Irradiation 国際会議

Kenta Kaneko, Hiroki Shoji, Tomoaki Oga, Yuchi Qiao, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

2022 MRS Fall Meeting and Exhibits 2022年11月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年11月 - 2022年12月

記述言語：英語

開催地：Boston 国名：アメリカ合衆国

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Phase-Selective Heteroepitaxy of Tetravalent-Doped Ruddlesden-Popper Structure Lan+1NinO3n+1 Thin Films 国際会議

Akifumi Matsuda, Yuki Goto, Kazuya Kawamura, Kenta Kaneko, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto

2022 MRS Fall Meeting and Exhibits 2022年11月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年11月 - 2022年12月

記述言語：英語

開催地：Boston 国名：アメリカ合衆国

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深紫外レーザーアニーリングによるポリマー基板上の酸化ガリウム薄膜の固相配向結晶化

甲斐稜也, 沼田拓実, 金子健太, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会第42回電子材料研究討論会 2022年11月日本セラミックス協会電子材料部会

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開催年月日： 2022年11月

会議種別：口頭発表（一般）

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La3Ni2O7エピタキシャル薄膜のアニールによる構造制御

後藤祐己, 河村和哉, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会第42回電子材料研究討論会 2022年11月日本セラミックス協会電子材料部会

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開催年月日： 2022年11月

会議種別：口頭発表（一般）

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熱ナノインプリントによるポリ乳酸シート表面の形状制御と超平坦化

梅本琉花, 前田優斗, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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一軸圧縮熱処理によるVxOyエピタキシャル薄膜のトポケミカル還元合成

庄司拓貴, 加藤礼雄, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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真空紫外光照射によるエピタキシャル酸化コバルト薄膜の結晶相変化

金子健太, 庄司拓貴, 喬宇馳, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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室温でのエキシマレーザーアニールにより作製した酸化物緩衝層付きポリマー基板上のβ-Ga2O3配向膜の構造及び光学特性の評価

甲斐稜也, 沼田拓実, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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原子ステップ形状を有する超平坦PEDOT:PSS導電性ポリマー薄膜の作製と表面特性制御

前田優斗, 梅本琉花, 島田侑果, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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酸化スズ薄膜の室温PLD合成と一軸圧縮熱処理による固相結晶化

加藤礼雄, 庄司拓貴, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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PLD合成したアモルファス酸化バナジウム系薄膜の紫外光照射及び一軸圧縮熱処理による電気特性制御

大澤樹, 庄司拓貴, 金子健太, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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La3Ni2O7薄膜のエピタキシャル成長と還元アニールによる層状構造制御

後藤祐己, 河村和哉, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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シクロオレフィンポリマー基板への表面修飾がAZO薄膜の電気特性に与える影響

大賀友瑛, 宮﨑尚, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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室温でのエキシマレーザーアニーリングによる不純物ドープβ-Ga2O3薄膜の固相エピタキシャル成長と特性評価

沼田拓実, 甲斐稜也, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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ナノインプリント法を用いたポリマー基板表面の薄膜周期パターン形成

島田侑果, 前田優斗, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月応用物理学会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東北大学川内北キャンパス国名：日本国

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エピタキシャル酸化コバルト薄膜の構造・物性に及ぼす真空紫外光照射の影響

金子健太, 庄司拓貴, 大賀友瑛, 喬宇馳, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会第35回秋季シンポジウム 2022年9月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：徳島大学常三島キャンパス国名：日本国

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シクロオレフィンポリマー基板上ZnO薄膜の低温PLD結晶成長に与える物理・化学的な基板表面修飾の効果

大賀友瑛, 宮崎尚, 金子智, 松田晃史, 吉本護

日本セラミックス協会第35回秋季シンポジウム 2022年9月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：徳島大学常三島キャンパス国名：日本国

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Rapid Solid Phase Epitaxy of Wide-Bandgap oxide Semiconductor thin films by way of excimer laser processing 招待国際会議

IUMRS-ICAM 2021 2022年8月 International Union of Materials Research Societies

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：Cancun 国名：メキシコ合衆国

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Electric conductivity and structure of epitaxial pure NiO thin films controlled by post-depositional irradiation of vacuum-ultraviolet light 国際会議

Kenta Kaneko, Hiroki Shoji, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月 International Union of Materials Research Societies

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学国名：日本国

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Epitaxial growth of aliovalent-doped Ruddlesden-Popper phase layered La₃Ni₂O₇ thin films on LaAlO₃ substrates 国際会議

Yuki Goto, Shohei Hisatomi, Kenta Kaneko, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月 International Union of Materials Research Societies

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：九州大学国名：日本国

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Rapid oriented crystallization of β-Ga₂O₃ thin films on flexible polymer substrates by excimer laser annealing 国際会議

Ryoya Kai, Kazuki Watanabe, Kenta Kaneko, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月 International Union of Materials Research Societies

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：九州大学国名：日本国

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Room-temperature heteroepitaxy of functional oxide nanomaterials with the use of excimer laser processing 招待国際会議

Akifumi Matsuda

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月 International Union of Materials Research Societies

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：九州大学国名：日本国

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Fabrication of Highly-Oriented Wide-Bandgap Oxide Thin Films on the Surface-Modified Polymer Substrates by Room-Temperature UV Laser/Light Processes 国際会議

Tomoaki Oga, Ryoya Kai, Naho Kaneko, Kenta Kaneko, Satoru Kaneko, Hisashi Miyazaki, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

2022 MRS Spring Meeting & Exhibit 2022年5月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Honolulu (Hybrid) 国名：アメリカ合衆国

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Crystal Orientation Dependent Conductivity Improvement of Pure NiO Epitaxial Thin-Film Surface by Irradiation of Excimer Vacuum-ultraviolet Light 国際会議

Kenta Kaneko, Tomoaki Oga, Yuki Goto, Hiroki Shoji, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

2022 MRS Spring Meeting & Exhibit 2022年5月 Materials Research Society

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Honolulu (Hybrid) 国名：アメリカ合衆国

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V₂O₅エピタキシャル薄膜の真空中一軸圧縮熱処理による結晶相制御

庄司拓貴, 金子健太, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月応用物理学会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：相模原市国名：日本国

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β-Ga₂O₃単結晶へき開シード層を用いたポリマー基板上ZnO薄膜のエピタキシャル成長

大賀友瑛, 宮﨑尚, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月応用物理学会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：相模原市国名：日本国

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紫外レーザーアニールによるポリマー基板上β-Ga₂O₃高配向膜の作製

甲斐稜也, 渡邉一樹, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月応用物理学会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：相模原市国名：日本国

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熱ナノインプリントによるポリマー上PEDOT:PSS薄膜への原子ステップ形状転写

前田優斗, 金子奈帆, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月応用物理学会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：相模原市国名：日本国

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PLD法によるLa_n+1Ni_nO_3n+1エピタキシャル薄膜合成と異原子価ドーピングの影響

後藤祐己, 久富翔平, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月応用物理学会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：相模原市国名：日本国

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真空紫外光照射によるNiOエピタキシャル薄膜の導電性制御と結晶配向面依存性

金子健太, 庄司拓貴, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月応用物理学会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：相模原市国名：日本国

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エピタキシャルNiO薄膜へのエキシマ真空紫外光照射による導電性制御・構造変化

金子健太, 庄司拓貴, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会 2022年年会 2022年3月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東京国名：日本国

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へき開したβ-Ga₂O₃ (100)をシード層としたポリマー基板上での機能性酸化物薄膜のエピタキシャル成長

大賀友瑛, 宮崎尚, 金子智, 松田晃史, 吉本護

日本セラミックス協会 2022年年会 2022年3月日本セラミックス協会

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：東京国名：日本国

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Nano-scale observation of calcium phosphate thin film growth on the nanopatterned and modified polymer surface 国際会議

Naho Kaneko, Yuto Maeda, Tomoaki Oga, Tomohiro Hayashi, Evan Angelo Quimada Mondarte, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Meeting 2021 (MRM2021) 2021年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Yokohama / Virtual 国名：日本国

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Vacuum ultraviolet excimer light-induced electric conductivity improvement of epitaxial NiO thin films grown at room-temperature 国際会議

Kenta Kaneko, Yuki Goto, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

Materials Research Meeting 2021 (MRM2021) 2021年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Yokohama / Virtual 国名：日本国

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Room-temperature highly-oriented growth of ZnO thin films on surface modified cyclic olefin polymer substrates 国際会議

Tomoaki Oga, Naho Kaneko, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

Materials Research Meeting 2021 (MRM2021) 2021年12月 The Materials Research Society of Japan

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Yokohama / Virtual 国名：日本国

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Heteroepitaxy and Property of Triple-Layered Ruddlesden-Popper Phase La_n+1Ni_nO_3n+1 with Tetravalent-Dopants 国際会議

Akifumi Matsuda, Shohei Hisatomi, Yuki Goto, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto

2021 MRS Fall Meeting & Exhibit 2021年12月 Materials Research Society

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開催年月日： 2021年11月 - 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Boston / Virtual 国名：アメリカ合衆国

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Room-Temperature Growth of Ultra-Flat Transparent Conducting ZnO Thin Films on the Morphologically and Chemically Surface-Modified Polymer Substrates for Flexible Optoelectronics Devices 国際会議

Tomoaki Oga, Naho Kaneko, Kenta Kaneko, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda a, Mamoru Yoshimoto

2021 MRS Fall Meeting & Exhibit 2021年12月 Materials Research Society

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開催年月日： 2021年11月 - 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Boston / Virtual 国名：アメリカ合衆国

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Vacuum-Ultraviolet Excimer Light Derived Conductivity and Structural Modification of Pure NiO Epitaxial Thin Films 国際会議

Kenta Kaneko, Tomoaki Oga, Hiroki Shoji, Shohei Hisatomi, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

2021 MRS Fall Meeting & Exhibit 2021年12月 Materials Research Society

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開催年月日： 2021年11月 - 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Boston / Virtual 国名：アメリカ合衆国

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Excimer Laser Crystallization and Doping of Epitaxial Ga₂O₃ Thin Films for Ultraviolet Optoelectronics Devices 国際会議

Kazuki Watanabe, Ryoya Kai, Naho Kaneko, Shohei Hisatomi, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

2021 MRS Fall Meeting & Exhibit 2021年12月 Materials Research Society

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開催年月日： 2021年11月 - 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Boston / Virtual 国名：アメリカ合衆国

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Nano-Scale Growth Study of Calcium Phosphate Thin Films on the Nanopatterned and Chemically-Modified Polymer Sheets for Flexible Apatite-Based Biodevices 国際会議

Naho Kaneko, Yuto Maeda, Tomoaki Oga, Kazuki Watanabe, Kenta Kaneko, Tomohiro Hayashi, Evan Angelo Mondarte, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto

2021 MRS Fall Meeting & Exhibit 2021年12月 Materials Research Society

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開催年月日： 2021年11月 - 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Boston / Virtual 国名：アメリカ合衆国

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PLD and O₂ Annealing Synthesis of La_n+1Ni_nO_3n+1 Epitaxial Films for SOFC Cathode Material 国際会議

Shohei Hisatomi, Yuki Goto, Tomoaki Oga, Kenta Kaneko, Kazuki Watanabe, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda

2021 MRS Fall Meeting & Exhi 2021年12月 Materials Research Society

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開催年月日： 2021年11月 - 2021年12月

記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Boston / Virtual 国名：アメリカ合衆国

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熱ナノインプリントパターンを有するポリマー基板上でのPEDOT:PSS薄膜の液相堆積

前田優斗, 金子奈帆, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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SrTiO3基板上NiO系薄膜のPLD合成と大気圧酸素アニール効果

後藤祐己, 久富翔平, 大賀友瑛, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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一軸圧縮熱処理による酸化バナジウム高配向薄膜の結晶相制御

庄司拓貴, 金子健太, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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エキシマレーザーアニーリングを用いたポリマー基板上におけるGa2O3薄膜の固相結晶化

甲斐稜也, 渡邉一樹, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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低速原子散乱分光法によるCoO(111)表面構造解析

譚ゴオン, 福田浩昭, 松田晃史, 吉本護, 梅澤憲司

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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表面修飾したシクロオレフィンポリマー基板上におけるZnO薄膜の高配向成長と特性評価

大賀友瑛, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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エピタキシャルNiO薄膜の物性および構造に及ぼすエキシマ真空紫外光照射の影響

金子健太, 庄司拓貴, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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室温でのパルスレーザー照射によるエピタキシャルβ-Ga2O3薄膜の作製とドーピングの影響

渡邉一樹, 甲斐稜也, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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異原子価ドープ層状La-Ni-O系エピタキシャル薄膜のPLD合成および特性評価

久富翔平, 後藤祐己, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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ナノパターンポリマー基板上におけるリン酸 Ca 系薄膜の初期成長過程

金子奈帆, 前田優斗, 大賀友瑛, 林智広, Mondarte Evan Angelo, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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C面サファイア基板の表面処理によるZnO薄膜の室温エピタキシャル成長

金子健太, 庄司拓貴, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会第34回秋季シンポジウム 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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エキシマレーザーアニーリングによる不純物ドープGa2O3薄膜の固相結晶化および特性評価

渡邉一樹, 甲斐稜也, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

日本セラミックス協会第34回秋季シンポジウム 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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真空紫外光照射によるNiOエピタキシャル薄膜の構造・物性への影響

金子健太, 庄司拓貴, 金子智, 吉本護, 松田晃史

日本セラミックス協会第34回秋季シンポジウム 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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真空紫外光照射したシクロオレフィンポリマー基板上における酸化物薄膜の室温結晶成長

大賀友瑛, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

日本セラミックス協会第34回秋季シンポジウム 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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PLDおよびO2アニールによる異原子価ドープ層状ペロブスカイト型La-Ni-O薄膜の作製

久富翔平, 生田貴大, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

日本セラミックス協会 2021年年会 2021年3月

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開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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紫外レーザーアニーリングによる種々の不純物をドープしたβ-Ga2O3薄膜の固相結晶化と特性評価

渡邉一樹, 松島拓海, 大賀友瑛, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月

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開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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EUV光源コレクターミラー保護膜における表面劣化の抑制

本田能之, 永井伸治, 森田昌幸, 安藤正彦, 松田晃史, 吉本護

第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月

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開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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真空紫外光(172 nm)照射によるPLD合成NiO薄膜の導電性への影響

金子健太, 篠崎佳晴, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月

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開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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環状オレフィンポリマー基板への種々の表面修飾が及ぼすZnO薄膜の配向結晶成長への影響

大賀友瑛, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月

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開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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熱ナノインプリントによるナノパターンを有するポリマー基板上へのリン酸Ca系薄膜の堆積

金子奈帆, 大賀友瑛, 大島淳史, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第68回応用物理学会春季学術講演会 2021年3月

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開催年月日： 2021年3月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

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低温 PLD 合成 Ni1-xFexO(111)エピタキシャル薄膜の磁気抵抗評価

篠崎佳晴, 金子健太, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020年9月応用物理学会

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開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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その他リンク： https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2020a/subject/10p-Z05-17/advanced
室温エキシマレーザー照射によるMgAl2O4単結晶基板上でのGa2O3薄膜の固相エピタキシー

松島拓海, 渡邉一樹, 大賀友瑛, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020年9月応用物理学会

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開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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その他リンク： https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2020a/subject/9a-Z20-1/advanced
導電性ポリマー被覆PETフィルムのナノインプリント平坦化と電気特性評価

大島淳史, 大賀友瑛, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020年9月応用物理学会

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開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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その他リンク： https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2020a/subject/9p-Z25-6/advanced
一軸加圧熱処理による酸化チタン薄膜の固相結晶化と光学･導電特性変化

生田貴大, 久富翔平, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020年9月応用物理学会

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開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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その他リンク： https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2020a/subject/10p-Z05-19/advanced
環状オレフィンポリマー基板表面への172nm真空紫外光照射が及ぼすZnO薄膜配向成長への影響

大賀友瑛, 大島淳史, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020年9月応用物理学会

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開催年月日： 2020年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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その他リンク： https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2020a/subject/10p-Z05-12/advanced
COP基板におけるリピート熱ナノインプリントによる表面平坦化と導電性酸化物薄膜の堆積

大賀友瑛, 大島淳史, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月応用物理学会

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開催年月日： 2020年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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エキシマレーザー照射によるMgAl2O4単結晶基板上でのGa2O3薄膜の固相結晶化と構造評価

松島拓海, 森田公之, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月応用物理学会

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開催年月日： 2020年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

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TixOy薄膜の一軸加圧熱処理による固相エピタキシーと構造･物性評価

生田貴大, 堀松芳樹, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月応用物理学会

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開催年月日： 2020年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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熱ナノインプリントによるフッ素樹脂・PET等ポリマーシートのナノレベル表面パターニングと機能性薄膜堆積

金子奈帆, 大賀友瑛, 大島淳史, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月応用物理学会

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開催年月日： 2020年3月

記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

国名：日本国

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低温PLD合成Ni1-xFexO(111)エピタキシャル薄膜の電気特性評価

篠崎佳晴, 中西昴, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月応用物理学会

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開催年月日： 2020年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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導電性ポリマー被覆PETフィルムのナノインプリントと表面平坦化

大島淳史, 大賀友瑛, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第67回応用物理学会春季学術講演会 2020年3月応用物理学会

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開催年月日： 2020年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

国名：日本国

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EUV光源コレクターミラーの保護膜における劣化メカニズムの解明

本田能之, 柳田達哉, 白石裕, 森田昌幸, 安藤正彦, 戸室啓明, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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Solid-phase Crystallization of Transparent Conducting Oxide Thin Films Under Uniaxial Compression 国際会議

譚ゴオン

2012 MRS Fall Meeting & Exhibit 2012年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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室温パルスレーザー照射を用いた種々の基板及びバッファ層上における非晶質Ga2O3薄膜のエピタキシャル結晶化

松島拓海, 森田公之, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、札幌

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Effect of Heavy Doping of Aliovalent Cations on Structure and Thermoelectric Properties of NiO-Based Epitaxial Thin Films 国際会議

松田晃史, 篠_ 佳晴, Seo Okkyun, 坂田修身, 金子智, 木村好里, 吉本護

2019 MRS Fall Meeting & Exhibit 2019年12月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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サファイア基板表面のナノスケールモフォロジー制御によるα-Al₂O₃薄膜の室温ホモエピタキシャル成長

塩尻大士

日本セラミックス協会 2013年年会 2013年3月日本セラミックス協会

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会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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Room-temperature epitaxy and optoelectronic properties of heavily doped NiO thin films 国際会議

松田晃史, Seo Okkyun, 坂田修身, 金子智, 吉本護

The 13th Pacific Rim Conference of Ceramic Societies (PACRIM13) 2019年10月日本セラミックス協会

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、宜野湾

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透明導電性酸化物薄膜の固相結晶化における熱処理中の一軸圧縮応力印加の影響

譚ゴオン

日本セラミックス協会 2013年年会 2013年3月日本セラミックス協会

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会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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Room-temperature epitaxy and optoelectronic properties of heavily doped Ni1-xFexO thin films 国際会議

松田晃史, Seo Okkyun, 坂田修身, 吉本護

Materials Research Meeting 2019 (MRM2019) 2019年12月日本MRS

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、横浜

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天然素材をモールドとして用いたナノインプリントガラスの作製

井上直哉

日本セラミックス協会 2013年年会 2013年3月日本セラミックス協会

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会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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Structural and property modification of wide-bandgap β-Ga2O3 and ZnO thin films via laser-assisted room-temperature epitaxy for gas sensor applications 国際会議

森田公之, 大賀友瑛, 松島拓海, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

2019 MRS Fall Meeting & Exhibit 2019年12月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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PLD法によるMgB₂を添加したZnO薄膜の作製と物性評価

熊谷典子

日本セラミックス協会 2013年年会 2013年3月日本セラミックス協会

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会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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PLD法を用いたエピタキシャル雲母薄膜の作製条件の検討

吉田彬

第60回応用物理学会春季学術講演会 2013年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、厚木

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Orientation controlled room-temperature growth of ZnO (0001) thin films on atomic-step patterned flexible polymer substrates 国際会議

大賀友瑛, 森田公之, 金子智, 松田晃史, 吉本護

Materials Research Meeting 2019 (MRM2019) 2019年12月日本MRS

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、横浜

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非晶質材料表面への天然素材を使ったナノインプリントパターニング

井上直哉

第60回応用物理学会春季学術講演会 2013年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、厚木

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Nanoscale Surface Patterning of α-Al₂O₃ Substrates by Way of Room-temperature Homoepitaxial Growth for Development of High-performance Devices 国際会議

塩尻大士

2013 MRS Spring Meeting & Exhibit 2013年4月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、サンフランシスコ

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ECR-MBE法で作製したSi基板上GaN薄膜(t<200nm)の高品質化への試み ―作製プロセスの見直しとその検討―

淀徳男

第60回応用物理学会春季学術講演会 2013年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、厚木

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Phase controllable room-temperature epitaxy of CoO and Co₃O₄ thin films by Laser MBE 国際会議

松田晃史

The 7th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramis (STAC-7) 2013年6月東京工業大学応用セラミックス研究所

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、横浜

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室温レーザーMBE による酸化コバルト薄膜の相制御と評価

松田晃史

第74回応用物理学会秋季学術講演会 2013年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、京都

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室温合成エピタキシャル酸化物薄膜の水素還元による磁気抵抗型積層薄膜の作製

松田晃史

日本セラミックス協会第26回秋季シンポジウム 2013年9月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、長野

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Thermoelectric properties of Cu-Fe-V-P-O oxide glass based materials 国際会議

松田晃史

2013 MRS Fall Meeting & Exhibit 2013年12月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Epitaxial Growth of Aluminum Nitride Thin Film on Sapphire Substrate by ECR Plasma Method

金子智

第74回応用物理学会秋季学術講演会 2013年9月応用物理学会

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、京都

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紫外レーザーアニーリングによるGa₂O₃薄膜の室温配向結晶化

塩尻大士

第75回応用物理学会秋季学術講演会 2014年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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V₂O₅−P₂O₅系ガラスをベースとした塗布型熱電素子の作製と評価

松田晃史

日本セラミックス協会第27回秋季シンポジウム 2014年9月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、鹿児島

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V₂O₅_P₂O₅系ガラスを用いた半導体塗布膜の作製および電気的接合形成

劉夢申

第75回応用物理学会秋季学術講演会 2014年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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熱ナノインプリント法による非晶質材料表面へのシングルナノパターン転写

船迫友之

第75回応用物理学会秋季学術講演会 2014年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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PLD法を用いたGa₂O₃薄膜結晶成長におけるバッファー層導入効果

福田大二

第75回応用物理学会秋季学術講演会 2014年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、札幌

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熱ナノインプリント法によるガラス基板表面のシングルナノパターニングと薄膜成長制御

野沢靖久

第75回応用物理学会秋季学術講演会 2014年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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アモルファスGa₂O₃薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討

森田公之

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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0.3 nm高さの直線状原子ステップを有するPMMA及びポリイミドシートにおける光化学反応および成膜による表面特性の制御

山田志織

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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一軸加圧下熱処理による層状La-Ni-O系薄膜の作製及び構造と特性評価

堀松芳樹

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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紫外エキシマ光／レーザー照射によるβ-Ga₂O₃薄膜の室温固相結晶化プロセスの検討

大賀友瑛

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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Atomic-scale flattened/patterned flexible substrates for nanomaterials formation 招待国際会議

松田晃史

2018 International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (ICYRAM 2018) 2018年11月 International Union of Materials Research Society (IUMRS)

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：オーストラリア連邦、アデレード

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PLD法による酸化バナジウム系アモルファス薄膜の作製と熱電特性評価

中西昴

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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酸化物半導体薄膜の成長および特性に及ぼすポリマー基板表面における原子レベルパターンの影響

大賀友瑛, 岩佐健, 山田志織, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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Construction of nano-stepped glass surfaces by using viscous flow of oxide glass films deposited on ultrasmooth sapphire substrates 国際会議

秋葉周作

2002 MRS Fall Meeting & Exhibit 2002年12月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Solid-Phase Heteroepitaxy and Synchrotron Radiation Analyses of β-Ga₂O₃ Thin Films Fabricated by Room-Temperature Laser Processes 国際会議

松田晃史

2018 MRS Fall Meeting & Exhibit 2018年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：Boston, MA, USA

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不純物ドープ層状La-Ni-O系薄膜のPLD合成および構造・特性評価

堀松芳樹, 伊藤翔陽, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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Construction of nano-stepped surfaces using high-temperature viscous flow of ultra-thin film silicate glass 国際会議

秋葉周作

2003 MRS Fall Meeting & Exhibit 2003年12月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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酸化バナジウム系非晶質薄膜の一軸加圧下熱処理と電気特性評価

中西昴, 岩佐健, 金子智, 木村好里, 松田晃史, 吉本護

第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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Fabrication of nanochannel array on functional oxide thin films 国際会議

佐藤周平

2003 MRS Fall Meeting & Exhibit 2003年12月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Formation of epitaxial metal thin films by reduction of epitaxially grown oxide thin films 国際会議

松田晃史

2004 MRS Fall Meeting & Exhibit 2004年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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パルスエキシマレーザー照射によるβ-Ga2O3薄膜の室温固相エピタキシーにおける結晶化過程の評価

森田公之, 大賀友瑛, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第66回応用物理学会春季学術講演会 2019年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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紫外レーザー室温照射によるβ-Ga2O3(-201)薄膜合成と構造・特性制御

森田公之, 松島拓海, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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Development and characterization of epitaxial [ferromagnetic metal/semico-nductor] hybrid nano-materials 国際会議

松田晃史

2005 MRS Fall Meeting & Exhibit 2005年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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酸化バナジウム系アモルファス薄膜のPLD合成と熱電特性招待

松田晃史

日本セラミックス協会 2018年年会 2019年3月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、仙台

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Nanoscale-Surface Control and Patterning of Functional Thin Films by Using Ther- mal Flow of Silicate Glass Ultra-Thin Films 国際会議

秋葉周作

2004 MRS Fall Meeting & Exhibit 2004年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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不純物ドープされた層状La-Ni-O系薄膜のPLD作製と導電特性

堀松芳樹, 生田貴大, 土嶺信男, 岩谷幸作, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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Development of Ni-based epitaxial electro-magnetic nanostructures and hybrid systems 国際会議

松田晃史

2006 MRS Fall Meeting & Exhibit 2006年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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エキシマ光プロセスを用いた超平坦ポリマー基板上でのZnO薄膜の低温合成と高結晶配向化

大賀友瑛, 大島淳史, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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Laser MBE growth and characterization of Ge-doped SnO₂ epitaxial thin films 国際会議

岡田崇志

2005 MRS Fall Meeting & Exhibit 2005年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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一軸加圧熱処理によるエピタキシャルTixOy薄膜の構造･特性制御

生田貴大, 堀松芳樹, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、札幌

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Synthesis of visible-photoluminescent nanomaterials by pulsed laser ablation of C₆₀-containing SiO target 国際会議

辻和尊

2006 MRS Fall Meeting & Exhibit 2006年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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酸化バナジウム系非晶質薄膜の一軸加圧下熱処理とp/n及び熱電特性制御

中西昴, 篠_ 佳晴, 金子智, 木村好里, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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Formation and characterization of striped nano-channel structure on the functional oxide film 国際会議

笠原正靖

2006 MRS Fall Meeting & Exhibit 2006年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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室温PLDを用いた高濃度不純物添加NiO(111)薄膜の作製と熱電特性評価

篠_ 佳晴, 中西昴, 金子智, 木村好里, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、札幌

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Nanoscale Pattern Control of Glass Surface by Glass-nanoimprint Technique Using Self-assembled Oxide Mold 国際会議

松田晃史

2007 MRS Fall Meeting & Exhibit 2007年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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導電性ポリマー基板への原子・ナノレベル周期パターン転写と特性評価

大島淳史, 大賀友瑛, 金子奈帆, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、札幌

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Magnetic behavior of self-organized nanomagnet arrays epitaxially grown by LaserMBE 国際会議

松田晃史

2007 MRS Fall Meeting & Exhibit 2007年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Periodic Straight Nanogroove Arrays Induced by Atomic-step-related Defects of NiO(111) Epitaxial Films on Stepped Sapphire (0001) Substrates 国際会議

山内涼輔

2012 MRS Fall Meeting & Exhibit 2012年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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ポリマーに転写した原子レベルナノパターンの光・熱による形状制御

金子奈帆, 大賀友瑛, 大島淳史, 金子智, 松田晃史, 吉本護

第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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Investigations on Conduction Properties and Crystallization Conditions of V₂O₅-P₂O₅ Glass Based Semiconductors 国際会議

松田晃史

2012 MRS Fall Meeting & Exhibit 2012年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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炭酸ガスによる酸化雰囲気でのグラフェン成長国際会議

金子智

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、福岡

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周期的NiOナノ構造バッファ上におけるβ-Ga₂O₃薄膜のレーザー励起室温固相エピタキシー国際会議

森田公之

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、福岡

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Laser-induced room-temperature epitaxy of wide-bandgap semiconductor thin films 招待国際会議

松田晃史

The 4th International Symposium on Hybrid Materials and Processing (HyMaP 2017) 2017年11月 National Core Research Center for Hybrid Materials Solution, Pusan National University, Korea

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：大韓民国、釜山

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バナジウム系酸化物アモルファス薄膜の作製と電気特性評価国際会議

藤元勇希

日本セラミックス協会第30回秋季シンポジウム 2017年9月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、神戸

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Solid-Phase Heteroepitaxy and Property Modification of β-Ga₂O₃ Thin Films by Room-Temperature 国際会議

松田晃史

2017 MRS Fall Meeting & Exhibit 2017年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Thermoelectric Property of Vanadium Oxide Glass-Based Materials 国際会議

松田晃史

2017 MRS Fall Meeting & Exhibit 2017年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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微細半導体プロセスにおけるシングルイベント耐性強化技術の検討

丸明史

第65回応用物理学会春季学術講演会 2018年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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Nanoprinted Nanoarrays of Gold Nanoparticles and/or Semiconducting Oxide Nanocrystals on the Originally-Developed 0.3 nm-High Atomically Stepped Ultra-Flat Polymer Sheets 国際会議

吉本護

2017 MRS Fall Meeting & Exhibit 2017年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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一軸加圧下熱処理によるBi₂VO_5+δ薄膜の配向性固相結晶化と特性評価

伊藤翔陽

第65回応用物理学会春季学術講演会 2018年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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岩塩型Ni_0.5Fe_0.5O(111)薄膜の室温エピタキシャル成長におけるPLD成膜条件の影響と特性評価

池谷侑紀

第65回応用物理学会春季学術講演会 2018年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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原子ステップ型超平坦ポリマー基板上でのフレキシブル酸化物p/n薄膜の作製と特性評価

岩佐健

第65回応用物理学会春季学術講演会 2018年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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Ga₂O₃薄膜の室温下レーザー照射固相エピタキシーにおける膜厚や緩衝層の影響

森田公之

第65回応用物理学会春季学術講演会 2018年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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原子ステップを有するポリマーシートへの超平坦導電性薄膜の作製

山田志織

第65回応用物理学会春季学術講演会 2018年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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Physicochemical Effect of Buffer Layer on β-Ga₂O₃ Solid-Phase Epitaxy by Excimer Laser Annealing 国際会議

松田晃史

60th Electronic Materials Conference 2018年6月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、サンタバーバラ

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Development and Thermoelectric Properties of Vanadate Oxide-System Amorphous Thin Films 国際会議

松田晃史

60th Electronic Materials Conference 2018年6月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、サンタバーバラ

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微細半導体プロセスにおける宇宙空間シングルイベント耐性強化技術の検討 (2)

丸明史

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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UV光励起を使ったワイドギャップβ-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜の室温合成

森田公之

日本セラミックス協会第31回秋季シンポジウム 2018年9月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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一軸加圧下熱処理による層状Li-Ni系エピタキシャル薄膜の構造制御

伊藤翔陽

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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岩塩型Ni_1-XFe_XO薄膜の室温エピタキシャル成長と特性評価

池谷侑紀

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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周期的ナノパターン表面を有するポリマー基板上への酸化物半導体薄膜の作製と電気特性評価

岩佐健

第79回応用物理学会秋季学術講演会 2018年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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Low-temperature heteroepitaxy of wide-gap oxide semiconductor thin films 招待国際会議

松田晃史

2016 International Conference of Young Researchers on Advanced Materials (ICYRAM 2016) 2016年12月 International Union of Materials Research Society (IUMRS)

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：インド、バンガロール

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Nanoimprint Fabrication of 0.3 nm-High Atomically Stepped Conducting Polymer Sheets Coated with ITO Thin Films or Au Nano-Patterns 国際会議

嶋田航大

2016 MRS Fall Meeting & Exhibit 2016年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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熱ナノインプリント作製した金ナノ粒子コート超平坦フレキシブル基板

後藤里紗

第64回応用物理学会春季学術講演会 2017年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、横浜

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Room-temperature epitaxy of wide bandgap oxide semiconductors 国際会議

松田晃史

The 18th International Symposium on Eco-materials Processing and Design (ISEPD 2017) 2017年2月

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：日本、那覇

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マイカモールドを用いた熱ナノインプリント法によるポリマー表面上ナノパターン形成

木下太一郎

第64回応用物理学会春季学術講演会 2017年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、横浜

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一軸加圧下熱処理によるMoO_X薄膜の結晶相制御と特性評価

難波諒太郎

第64回応用物理学会春季学術講演会 2017年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、横浜

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室温レーザーアニールにより作製されたβ-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜の配向性制御

中村稀星

第64回応用物理学会春季学術講演会 2017年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、横浜

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PLD法によるV₂O₅-Bi₂O₃-WO₃系ガラス薄膜の作製と光学・電気特性評価

藤元勇希

第64回応用物理学会春季学術講演会 2017年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、横浜

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Room-Temperature Epitaxy of Heavily Fe-doped Nickel Oxide Thin Films 国際会議

松田晃史

The 15th International Conference on Advanced Materials (ICAM 2017) 2017年8月 International Union of Materials Research Society (IUMRS)

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、京都

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Buffer-layer Enhanced Heteroepitaxy of Wide-bandgap Semiconductor Thin Films by Room-temperature Laser Processing 招待国際会議

松田晃史

3th International Conference and Exhibition on Ceramic Interconnect and Ceramic Microsystems Technologies (CICMT 2017) 2017年4月 IMAPS/ACerS

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：日本、奈良

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Development of Vanadium Oxide Glass-Based Thermoelectric Films 国際会議

松田晃史

The 15th International Conference on Advanced Materials (ICAM 2017) 2017年8月 International Union of Materials Research Society (IUMRS)

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、京都

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層状La-Ni-O系薄膜の一軸加圧熱処理による構造および特性変化国際会議

難波諒太郎

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、福岡

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熱ナノインプリント法による原子ステップ型超平坦ポリマー基板上への半導体ナノパターンの作製国際会議

後藤里紗

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、福岡

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酸化バナジウム系アモルファス薄膜のPLD作製と電気特性評価国際会議

藤元勇希

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、福岡

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原子ステップ型ポリマー基板上への自己組織化モールドを用いた周期的ナノ構造の熱ナノインプリント形成国際会議

木下太一郎

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、福岡

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高濃度Fe添加NiO薄膜の室温エピタキシャル成長と特性評価国際会議

池谷侑紀

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、福岡

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β-Ga₂O₃薄膜のレーザー励起室温固相エピタキシーに与えるサファイア基板上バッファ層の効果国際会議

中村稀星

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、福岡

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原子ステップ型ポリマー基板を用いた有機・無機ハイブリッド構造の作製国際会議

岩佐健

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、福岡

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一軸加圧下熱処理による層状Bi-V-O系薄膜の固相結晶化と特性評価国際会議

伊藤翔陽

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、福岡

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熱ナノインプリントによる原子ステップ型フレキシブル基板上導電性薄膜の周期的微細構造作製国際会議

山田志織

第78回応用物理学会秋季学術講演会 2017年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、福岡

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ECR-MBE法で作製したグラフェン単層膜付/SiO₂/Si(001)基板上GaN薄膜(t〜250nm)成長におけるグラフェン単層膜の影響 (II)

淀徳男

第75回応用物理学会秋季学術講演会 2014年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、札幌

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Room-temperature oriented crystallization of Ga₂O₃ thin films by UV pulsed laser annealing 国際会議

松田晃史

2014 MRS Fall Meeting & Exhibit 2014年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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チタンバッファーを用いたシリコン基板上に成長したダイアモンドライクカーボン

金子智

第75回応用物理学会秋季学術講演会 2014年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、札幌

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一軸圧縮下の熱処理による機能性酸化物薄膜の固相結晶化挙動

野沢靖久

第62回応用物理学会春季学術講演会 2015年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、平塚

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Formation of 0.3 nm-High Atomically Stepped Polymer Sheets Applicable to Nanotemplate Substrates for Self-Assembly 国際会議

松田晃史

2014 MRS Fall Meeting & Exhibit 2014年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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NiOバッファ層を用いたワイドギャップ半導性β-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜の低温PLD成長

松田晃史

日本セラミックス協会 2015年年会 2015年3月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、岡山

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PLD法を用いたβ-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜成長のNiOバッファー層導入による低温化

福田大二

第62回応用物理学会春季学術講演会 2015年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、平塚

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ポリマー表面への単原子ステップナノインプリント転写に与える加熱・加圧条件およびモールドの原子ステップ形状の影響

譚ゴオン

第76回応用物理学会秋季学術講演会 2015年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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KrFエキシマレーザーアニールによるβ-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜の室温作製と光学特性評価

塩尻大士

第76回応用物理学会秋季学術講演会 2015年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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一軸加圧熱処理による非晶質VO_X薄膜の相選択的固相結晶化と配向制御

野沢靖久

第76回応用物理学会秋季学術講演会 2015年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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エキシマレーザー照射による固相結晶化Ga₂O₃薄膜における構造及び光学特性への照射条件の影響

内田啓貴

第76回応用物理学会秋季学術講演会 2015年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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熱ナノインプリント法を用いた透明ポリイミドシートへの単原子ステップパターンの転写と表面超平坦化

嶋田航大

第76回応用物理学会秋季学術講演会 2015年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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鉛筆で塗りつぶした写真用紙へのレーザ照射によるグラフェン

金子智

第76回応用物理学会秋季学術講演会 2015年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、名古屋

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希土類ドープNiOエピタキシャル薄膜の特性評価

高野詩織

第76回応用物理学会秋季学術講演会 2015年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、名古屋

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紫外エキシマレーザー照射によるワイドギャップGa₂O₃薄膜の室温固相配向成長

塩尻大士

日本セラミックス協会第28回秋季シンポジウム 2015年9月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、富山

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一軸加圧下の熱処理による非晶質VO_X薄膜の相選択的エピタキシャル固相結晶化

松田晃史

日本セラミックス協会第28回秋季シンポジウム 2015年9月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、富山

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Preparation of Ultra-Flat Transparent Conductive Films on Atomic Step-and-Terrace Structured Flexible Polymer Sheets 国際会議

松田晃史

2015 MRS Fall Meeting & Exhibit 2015年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Room-temperature epitaxial synthesis and advanced nano-scale functionalization of widegap ceramic-based thin films 招待国際会議

松田晃史

International Conference on Advanced Materials 2015 (ICAM 2015) 2015年10月 International Union of Materials Research Society (IUMRS)

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（招待・特別）

開催地：大韓民国、済州島

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Solid-phase Epitaxial Crystallization of Ga₂O₃ Thin films by Pulsed KrF Excimer Laser Annealing Towards Low-Temperature Device Fabrication 国際会議

塩尻大士

2015 MRS Fall Meeting & Exhibit 2015年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Thermoelectric Generation of V₂O₅–P₂O₅ Oxide Glass-Based Printable Devices 国際会議

松田晃史

2015 MRS Fall Meeting & Exhibit 2015年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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Buffer-Layer Enhanced Heteroepitaxy of β-Ga₂O₃:(Sn, Si) Thin Films by Room-Temperature Excimer Laser Annealing 国際会議

松田晃史

2016 MRS Fall Meeting & Exhibit 2016年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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レーザプロセスによるワイドギャップβ-Ga₂O₃薄膜の低温エピタキシー

松田晃史

日本セラミックス協会 2016年年会 2016年3月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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Self-assembly formation and contributing factor of epitaxial nanogroove arrays on rock salt structured oxide thin films 国際会議

松田晃史

The International Chemical Congress of Pacific Basin Societies 2015 (Pacifichem 2015) 2015年12月

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記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：アメリカ合衆国、ホノルル

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EuドープNiOエピタキシャル薄膜の室温作製と特性評価

高野詩織

第63回応用物理学会春季学術講演会 2016年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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一軸圧縮下の熱処理によるVO_X薄膜の相選択的エピタキシーと導電特性

松田晃史

日本セラミックス協会 2016年年会 2016年3月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、東京

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エキシマレーザーアニーリングによるバッファ層誘起β-Ga₂O₃薄膜の低温固相エピタキシャル結晶化

内田啓貴

第63回応用物理学会春季学術講演会 2016年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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熱ナノインプリント一括転写プロセスを用いた原子ステップポリマー基板上への金ナノ粒子の配列パターン作製

嶋田航大

第63回応用物理学会春季学術講演会 2016年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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低速原子散乱分光法によるMgO(111)表面構造解析

梅澤憲司

第63回応用物理学会春季学術講演会 2016年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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一軸加圧下熱処理による非晶質酸化モリブデン薄膜の固相結晶化

難波諒太郎

第63回応用物理学会春季学術講演会 2016年3月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、東京

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FeドープNiOエピタキシャル薄膜の室温作製と特性評価

高野詩織

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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室温レーザMBEによる超平坦α-Fe₂O₃(0001)薄膜のヘテロエピタキシャル成長

松田晃史

日本セラミックス協会第29回秋季シンポジウム 2016年9月日本セラミックス協会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、広島

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原子ステップポリマー基板上における機能性薄膜の作製と評価

嶋田航大

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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熱ナノインプリントプロセスを用いた金ナノ粒子埋め込み型原子レベル超平坦ポリマー基板の作製

後藤里紗

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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レーザーアニールによる不純物ドープβ-Ga₂O₃薄膜の低温固相エピタキシャル結晶化

内田啓貴

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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熱ナノインプリント法によるポリマーシート上への原子スケール形状転写における雰囲気・表界面状態の影響

木下太一郎

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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一軸加圧下熱処理によるMoO_X系エピタキシャル薄膜の結晶相及び特性の制御

難波諒太郎

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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室温レーザーアニールによるβ-Ga₂O₃薄膜の固相エピタキシーに与えるNiOバッファ層の影響

中村稀星

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：ポスター発表

開催地：日本、新潟

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PLD法によるV₂O₅-Bi₂O₃-GeO₂系ガラス薄膜の作製と光学・電気特性評価

藤元勇希

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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Epitaxy and Topotaxy of Vanadium Oxide Semiconductor Thin Films by Solid Phase Crystallization under Uniaxial Compression 国際会議

松田晃史

2016 MRS Fall Meeting & Exhibit 2016年11月 Materials Research Society

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記述言語：英語会議種別：ポスター発表

開催地：アメリカ合衆国、ボストン

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シンクロトロンＸ線回折と硬Ｘ線光電子分光によるMg_xNi_1-xO エピタキシャル薄膜の原子スケール構造と電子構造の解析

坂田修身

第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016年9月応用物理学会

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記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：日本、新潟

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受賞

日本セラミックス協会賞進歩賞

2018年12月日本セラミックス協会ワイドギャップ酸化物半導体薄膜の室温エピタキシャル合成

松田晃史

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受賞国：日本国

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第26回日本MRS年次大会奨励賞

2016年12月日本MRS-J Buffer-induced room-temperature epitaxy of β-Ga₂O₃ thin films by excimer laser annealing

松田晃史

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2016年年会優秀ポスター発表賞優秀賞

2016年3月日本セラミックス協会一軸圧縮下の熱処理によるVO_X薄膜の相選択的エピタキシーと導電特性

松田晃史

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JCS-JAPAN優秀総説賞

2014年6月日本セラミックス協会 Room-temperature synthesis of epitaxial oxide thin films for development of unequilibrium structure and novel electronic functionalization

松田晃史

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受賞区分：学会誌・学術雑誌による顕彰受賞国：日本国

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第26回秋季シンポジウム優秀賞

2013年9月日本セラミックス協会室温合成エピタキシャル酸化物薄膜の水素還元による磁気抵抗型積層薄膜の作製

松田晃史

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受賞区分：国内学会・会議・シンポジウム等の賞受賞国：日本国

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2006年年会優秀ポスター発表賞最優秀賞

2006年3月日本セラミックス協会金属酸化物薄膜の水素還元による［強磁性金属／酸化物半導体］ハイブリッドナノ材料の作製と評価

松田晃史

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受賞区分：国内学会・会議・シンポジウム等の賞受賞国：日本国

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土肥賞

2005年3月東京工業大学 PLD合成酸化物薄膜の水素還元による金属エピタキシャル薄膜の作製と評価

松田晃史

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共同研究・競争的資金等の研究課題

エピタキシャル薄膜を用いた無限構造ニッケル酸塩における異原子価置換効果の解明

研究課題/領域番号：20H02435 2020年4月 - 2023年3月

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B)

松田晃史

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配分額：17810000円（直接経費：13700000円、間接経費：4110000円）

本研究は，Ni-O無限構造をもつニッケル酸塩結晶について，カチオンの異原子価イオン置換が異方性の高い特異なNi-O無限構造と電子物性に及ぼす影響を追究するものである。
平面正方配位NiO4型の無限層構造を含む結晶構造を示すエピタキシャル薄膜の創製，その構造・物性における異原子価イオンによるLa3+置換効果の解明を目的として，非平衡条件下の薄膜合成および固相反応による相（層数）選択的なエピタキシー，および構造・カチオン価数と物性制御について検討した。
KrFパルスエキシマレーザ(波長248nm，5eV相当)を用いたパルスレーザ堆積(PLD)法によりRuddlesden-Popper(RP)相Lan+1NinO3n+1薄膜をペロブスカイト型NdGaO3およびLaAlO3単結晶基板上に合成し，O2雰囲気中でのアニーリングによる固相エピタキシャル薄膜合成を行った。ここでは成膜温度・O2圧をパラメータとした検討を行い，Ni2+からNi2.66+のカチオンからなる2層型La3Ni2O7および3層型La4Ni3O10のエピタキシャル薄膜を得た。アニーリング温度・O2圧を条件とした熱処理により，LaNiO3エピタキシャル薄膜も合成し，2層から無限層までの相選択的なRP層薄膜合成とNiカチオン価数制御を得た。
La3+に対する異原子価Sn4+およびHf4+の共ドーピングを行い，ドーパントによる構造歪みの導入と導電性変化を見出した。
また，単純NiOリファレンス薄膜を用い，エキシマ光照射によるNi2+→Ni3+の制御および構造制御，またH2を用いたトポタキシャル還元，すなわちNiカチオン価数制御のプロセスを見出した。一方，薄膜の高真空・高温H2アニーリングによるNiイオン価数の過大な還元となり，アニーリング条件のさらなる最適化の要求が示された。

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サブナノスケール形状転写を用いたフレキシブル基板上のエピタキシャル状電子光学素子の創製

2018年5月 - 2019年4月

村田学術振興財団研究助成

松田晃史

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担当区分：研究代表者資金種別：競争的資金

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単原子層ステップを持つ有機系ナノパターン基板の作製と新規ナノ構造の創製

研究課題/領域番号：16K13636 2016年4月 - 2019年3月

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究挑戦的萌芽研究

吉本護, 金子智, 松田晃史, 嶋田航大, 後藤りさ, 木下太一郎, 山田志織, 岩佐健

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配分額：3640000円（直接経費：2800000円、間接経費：840000円）

高耐熱性ポリイミドなどのフレキシブルポリマー基板上に単原子層レベル（約0.3nm）高さの原子ステップ構造を熱ナノインプリントにより形成して、シリコン単結晶並みの超平坦な有機系基板を独自に作製し、その基板上での特異な無機系や金属系のナノ構造の構築を目的として研究を行った。ポリマー基板上に種々のナノ構造を構築するために、パルスレーザー堆積法とナノコンタクトプリント転写法を併用した。ナノピラー配列およびナノホール配列したモールド面に金やZnOの極薄膜を堆積し、それを原子ステップ型超平坦ポリマー基板上に押しつけて極薄膜をプリント転写し、ナノメッシュ状やナノドット状の配列パターンを得ることができた。

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多波長レーザー照射と基板ナノ構造制御による紫外発光型単結晶性酸化物薄膜の室温成長

研究課題/領域番号：15K20988 2015年4月 - 2019年3月

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B)

松田晃史

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配分額：4160000円（直接経費：3200000円、間接経費：960000円）

本研究では深紫外域のワイドギャップ酸化物半導体である酸化ガリウムについて、複合的な紫外レーザープロセスを用いることにより、光学的バンドギャップ4.9eVを示すβ-Ga2O3(-201)エピタキシャル薄膜の室温合成を得た。
基板表面の原子ステップが核形成サイトとして機能する結晶化様式を実験的に明らかにし、面内対称性および格子定数に加えて一様な面間隔をもつ岩塩型結晶(111)面のバッファ層効果を示す結果が得られた。ワイドギャップ単結晶性酸化物薄膜の室温成長における、基板モフォロジーやバッファ層材料・結晶面などの設計要素を見出した。

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非晶質−結晶性材料における極微細構造の自己組織化誘発と形態制御および形成機構の解明

2012年5月 - 2013年2月

日本科学協会笹川科学研究助成

松田晃史

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担当区分：研究代表者資金種別：競争的資金

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一軸圧縮下での表面ナノ修飾基板上固相結晶化による特異な酸化物構造誘起と超機能創出

研究課題/領域番号：24360269 2012年4月 - 2016年3月

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B)

吉本護, 淀徳男, 松田晃史

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配分額：14950000円（直接経費：11500000円、間接経費：3450000円）

一軸圧縮下での固相結晶化による特異な酸化物構造誘起をねらった本研究では、主に非晶質酸化物（VOxやMoOx）薄膜を表面ナノパターン加工された基板に堆積した後に、上下から加圧下挟み込みでの熱処理による固相結晶化過程を検討した。その結果、低加圧ではエピタキシャルVO2薄膜となり、高加圧下ではエピタキシャルV2O3薄膜という相選択的固相成長が達成された。これは一軸圧縮下加熱時のVOｘ層状構造内での酸素脱離が重要な役割を果たしていることが示唆された。

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非晶質材料表面への天然素材ナノパターンの原子レベルでの超精密転写

研究課題/領域番号：24655188 2012年4月 - 2015年3月

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究挑戦的萌芽研究

吉本護, 松田晃史

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配分額：3640000円（直接経費：2800000円、間接経費：840000円）

本研究では熱ナノインプリントを利用して、天然物表面ナノ構造の原子レベル転写を検討した。酸化物ガラスやアクリルなどの有機系非晶質基板を加熱しながら、サファイア単結晶鉱物の原子ステップ形状や雲母劈開面における六角形状の原子レベル天然ナノ構造パタ－ンを有する鋳型を、基板表面上に適当な圧力で押し付けた。その結果、石英ガラス基板およびアクリル、ポリカーボネート、ポリイミドなどの樹脂基板上に、0.3nm程度の原子ステップ配列パターンを形成することに成功した。さらに、ソーダライムシリカガラス基板上に、雲母劈開面における約0.5nm間隔の周期的な凹凸パターンを転写することができた。

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金属酸化物の還元反応を利用した酸化物半導体／強磁性金属ハイブリッドナノ構造の作製と新機能探索

2006年4月 - 2007年2月

日本科学協会笹川科学研究助成

松田晃史

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担当区分：研究代表者資金種別：競争的資金

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担当経験のある科目（授業）

無機化学基礎

2024年 - 現在機関名：東京工業大学

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ナノ構造薄膜特論

2024年 - 現在機関名：東京科学大学

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エネルギーマテリアル論第一

2023年 - 現在機関名：東京工業大学

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セラミックス概論

2018年4月 - 現在機関名：東京工業大学

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無機エネルギー変換材料特論

2017年 - 現在機関名：東京工業大学

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先進材料概論

2016年 - 現在機関名：東京工業大学

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エネルギーマテリアル論第一

2016年 - 2022年機関名：東京工業大学

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材料科学セミナー

2016年 - 2018年機関名：東京工業大学

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材料開発特論第二

2015年 - 現在機関名：東京工業大学

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