Organization
School of Life Science and Technology Professor
Title
Professor
External link
KAMACHI TOSHIAKI
Degree
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Doctor of Engineering ( Tokyo Institute of Technology )
Research Areas
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Nanotechnology/Materials / Bio chemistry
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Manufacturing Technology (Mechanical Engineering, Electrical and Electronic Engineering, Chemical Engineering) / Biofunction and bioprocess engineering
Education
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Tokyo Institute of Technology Bioscience and Biotechnology
- 1995
Country： Japan
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Tokyo Institute of Technology Graduate School, Division of Life Science and Engineering Department of Bioengineering
- 1995
Research History
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Nagoya University Graduate School of Engineering, Molecular Design and Engineering Associate Professor
Papers
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In vitro evaluation of bactericidal efficacy, cytotoxicity and genotoxicity of combined negative ions and ozone treatment
Akane Nakanishi, Akinori Shimizu, Shunsuke Odai, Hidehiro Ito, Toshiaki Kamachi
Scientific Reports 2026.7
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Colorimetric detection of chloroperoxyl radical in reactive chlorine species solutions
Hiroyuki Kawata, Shunsuke Odai, Hisataka Goda, Yuki Okawa, Toshiaki Kamachi
PLOS One 2025.10
Research Projects
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有機無機ハイブリッドコーティングによる省エネ型メタン変換バイオ触媒の高性能化
Grant number：23K28256 2023.4 - 2028.3
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(B)
宮地 輝光, 蒲池 利章
Grant amount：\18590000 （ Direct Cost: \14300000 、 Indirect Cost：\4290000 ）
メタン変換バイオ触媒はメタン-メタノール変換プロセスを大幅に省エネルギー化し、CO2 排出量を抑制できる。本研究ではメタン変換バイオ触媒の性能に有機無機ハイブリッドコーティングが及ぼす影響を明らかにし、このコーティング法を応用したメタン変換バイオ触媒が社会実装可能な性能を示すかどうかを検証する。本手法の有効性を実証することで、常温常圧，一段階での省エネ型メタン変換プロセスの実現に向けた研究展開をめざす。
2023年度は、高分子電解質としてポリ（ジアリルジメチルアンモニウムクロリド）（PDADMAC）、金属酸化物として酸化ケイ素（SiO2）を用いたメタン変換バイオ触媒表面へのコーティング手法を検討した。メタン酸化バイオ触媒であるバクテリア細胞を培養し、このバクテリア細胞へ種々の条件（PDADMAC や TMOS 濃度、処理時間、温度）でPDADMACとSiO2を順に吸着させることで、コーティング状態の異なるバイオ触媒を調製した。得られた種々メタン変換バイオ触媒について、メタンからメタノールへの転化反応に対する触媒活性と寿命を評価した。その結果、SiO2はメタン酸化バクテリアのメタノール生産性能に影響を及ぼさないのに対して、PDADMCはその性能を低下させる効果を示した。そこでさらに、PDADMAC濃度や吸着溶液のpH、ならびに処理時間や分離方法を検討した。その結果、メタノール生産性能をほぼ維持した状態でメタン酸化バクテリア細胞表面をPDADMACおよびSiO2でコーティングできる条件を見出すことに成功した。 -
有機無機ハイブリッドコーティングによる省エネ型メタン変換バイオ触媒の高性能化
Grant number：23H03566 2023.4 - 2028.3
日本学術振興会 科学研究費助成事業 基盤研究(B)
宮地 輝光, 蒲池 利章
Grant amount：\18590000 （ Direct Cost: \14300000 、 Indirect Cost：\4290000 ）